1. Der Vakuumbeschichtungsfilm ist sehr dünn (normalerweise 0,01–0,1 µm). 2. Vakuumbeschichtung eignet sich für viele Kunststoffe, z. B. ABS, PE, PP, PVC, PA, PC, PMMA usw. 3. Die Filmbildungstemperatur ist niedrig. In der Eisen- und Stahlindustrie liegt die Beschichtungstemperatur beim Feuerverzinken üblicherweise zwischen 400 °C und …
Nach der Entdeckung des photovoltaischen Effekts in Europa im Jahr 1863 stellten die Vereinigten Staaten 1883 die erste Photovoltaikzelle mit Selen her. Anfangs wurden Photovoltaikzellen hauptsächlich in der Luft- und Raumfahrt, im Militär und anderen Bereichen eingesetzt. In den letzten 20 Jahren ist der Preis für Photovoltaikzellen stark gesunken…
1. Reinigung des Substrats mittels Glimmentladung 1.1) Sputteranlagen nutzen Glimmentladung zur Substratreinigung. Dazu wird Argongas in die Kammer eingeleitet, die Entladungsspannung beträgt ca. 1000 V. Nach dem Einschalten der Stromversorgung wird eine Glimmentladung erzeugt, durch die das Substrat gereinigt wird.
Die Anwendung optischer Dünnschichten in Unterhaltungselektronikprodukten wie Mobiltelefonen hat sich von traditionellen Kameraobjektiven hin zu einer diversifizierten Richtung entwickelt, darunter Kameraobjektive, Objektivschutzfolien, Infrarot-Sperrfilter (IR-Sperrfilter) und NCVM-Beschichtungen für Akkudeckel von Mobiltelefonen.
Die CVD-Beschichtungstechnologie zeichnet sich durch folgende Merkmale aus: 1. Die Bedienung von CVD-Anlagen ist relativ einfach und flexibel; es können Einzel-, Verbund- und Legierungsfilme mit unterschiedlichen Zusammensetzungen hergestellt werden. 2. Die CVD-Beschichtung findet breite Anwendung und kann beispielsweise zur Herstellung von...
Das Vakuumbeschichtungsverfahren lässt sich in Vakuumverdampfungsbeschichtung, Vakuumsputtern und Vakuumionenbeschichtung unterteilen. 1. Vakuumverdampfungsbeschichtung: Unter Vakuumbedingungen wird das Material, z. B. Metall oder Metalllegierung, verdampft und anschließend auf der Substratoberfläche abgeschieden.
1. Was ist ein Vakuumbeschichtungsverfahren? Welche Funktion hat es? Beim sogenannten Vakuumbeschichtungsverfahren werden durch Verdampfung und Sputtern in einer Vakuumumgebung Partikel des Beschichtungsmaterials erzeugt. Diese werden auf Metall-, Glas-, Keramik-, Halbleiter- und Kunststoffteile aufgebracht und bilden dort eine Beschichtungsschicht zur Dekoration.
Da Vakuumbeschichtungsanlagen unter Vakuumbedingungen arbeiten, müssen sie die Anforderungen der jeweiligen Umgebung an das Vakuum erfüllen. Die in meinem Land formulierten Industrienormen für verschiedene Arten von Vakuumbeschichtungsanlagen (einschließlich der allgemeinen technischen Bedingungen für Vakuumbeschichtungsanlagen,...)
Die Vakuum-Ionenplattierung (kurz: Ionenplattierung) ist eine neue Oberflächenbehandlungstechnologie, die sich in den 1970er Jahren rasant entwickelte und 1963 von D. M. Mattox von der Somdia Company in den USA vorgeschlagen wurde. Sie bezeichnet das Verfahren, bei dem mithilfe einer Verdampfungsquelle oder eines Sputtertargets Material verdampft oder abgesputtert wird.
① Antireflexionsfolie. Beispiele hierfür sind Kameras, Diaprojektoren, Projektoren, Filmprojektoren, Teleskope, Sehgläser sowie einschichtige MgF₂-Beschichtungen auf Linsen und Prismen verschiedener optischer Instrumente und zwei- oder mehrschichtige Breitband-Antireflexionsfolien aus SiOFrO₂, AlO, ...
① Gute Kontrollierbarkeit und Wiederholbarkeit der Schichtdicke Die Kontrollierbarkeit der Schichtdicke, also ob die Schichtdicke auf einen vorgegebenen Wert eingestellt werden kann, wird als Schichtdickenkontrollierbarkeit bezeichnet. Die Wiederholbarkeit der gewünschten Schichtdicke über viele Male wird als Schichtdickenwiederholbarkeit bezeichnet. Da die Entladung...
Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein Filmbildungsverfahren, das durch Erhitzen, Plasmaverstärkung, Fotoassistierung und andere Methoden gasförmige Substanzen unter Normal- oder Niederdruck chemisch in feste Filme auf der Substratoberfläche umwandelt. Im Allgemeinen verläuft die Reaktion in...
1. Die Verdampfungsrate beeinflusst die Eigenschaften der aufgedampften Beschichtung. Die Verdampfungsrate hat einen großen Einfluss auf den abgeschiedenen Film. Da die bei niedriger Abscheidungsrate entstehende Beschichtungsstruktur locker ist und leicht zu Ablagerungen großer Partikel führt, ist es ratsam, eine höhere Verdampfungsrate zu wählen.
Die Vakuumbeschichtungsanlage besteht aus vielen Präzisionsteilen, die in zahlreichen Bearbeitungsschritten wie Schweißen, Schleifen, Drehen, Hobeln, Bohren, Fräsen usw. hergestellt werden. Durch diese Bearbeitungsschritte werden die Oberflächen der Anlagenteile zwangsläufig mit Verunreinigungen wie Fett kontaminiert.