Công nghệ phủ PVD là gì?

Lớp phủ PVD là một trong những công nghệ chính để chế tạo vật liệu màng mỏng.

Lớp màng phủ mang lại cho bề mặt sản phẩm kết cấu kim loại và màu sắc phong phú, cải thiện khả năng chống mài mòn và ăn mòn, đồng thời kéo dài tuổi thọ sản phẩm.

Phun phủ và bay hơi chân không là hai phương pháp phủ PVD phổ biến nhất.

1. Định nghĩa

Phương pháp lắng đọng hơi vật lý là một loại phương pháp tăng trưởng dựa trên phản ứng hơi vật lý. Quá trình lắng đọng được thực hiện trong điều kiện chân không hoặc phóng điện khí áp suất thấp, tức là trong plasma nhiệt độ thấp.

Vật liệu tạo nên lớp phủ là vật liệu rắn. Sau quá trình "bay hơi hoặc phun phủ", một lớp phủ vật liệu rắn mới hoàn toàn khác biệt so với vật liệu nền được tạo ra trên bề mặt chi tiết.

2. Quy trình cơ bản của lớp phủ PVD

1. Phát thải các hạt từ nguyên liệu thô (thông qua quá trình bay hơi, thăng hoa, bắn phá và phân hủy);

2. Các hạt được vận chuyển đến chất nền (các hạt va chạm với nhau, dẫn đến sự ion hóa, tái kết hợp, phản ứng, trao đổi năng lượng và thay đổi hướng chuyển động);

3. Các hạt ngưng tụ, hình thành mầm, phát triển và tạo thành màng trên chất nền.