O revestimento PVD é uma das principais tecnologias para a preparação de materiais em filmes finos.
A camada de película confere à superfície do produto uma textura metálica e cores vibrantes, melhora a resistência ao desgaste e à corrosão, e prolonga a vida útil.
A pulverização catódica e a evaporação a vácuo são os dois métodos de revestimento PVD mais comuns.
1. Definição
A deposição física de vapor é um tipo de método de crescimento por reação física de vapor. O processo de deposição é realizado sob vácuo ou em condições de descarga de gás a baixa pressão, ou seja, em plasma de baixa temperatura.
A fonte de material do revestimento é um material sólido. Após a “evaporação ou pulverização catódica”, um novo revestimento de material sólido com desempenho completamente diferente do material base é gerado na superfície da peça.
2. Processo básico de revestimento PVD
1. Emissão de partículas a partir de matérias-primas (por meio de evaporação, sublimação, pulverização catódica e decomposição);
2. As partículas são transportadas para o substrato (as partículas colidem umas com as outras, resultando em ionização, recombinação, reação, troca de energia e mudança na direção do movimento);
3. As partículas se condensam, nucleiam, crescem e formam um filme sobre o substrato.
Data da publicação: 31 de janeiro de 2023