El recubrimiento PVD es una de las principales tecnologías para la preparación de materiales de película delgada.
La capa de película confiere a la superficie del producto una textura metálica y un color intenso, mejora la resistencia al desgaste y a la corrosión, y prolonga su vida útil.
La pulverización catódica y la evaporación al vacío son los dos métodos de recubrimiento PVD más comunes.
1. Definición
La deposición física de vapor es un método de crecimiento por reacción física de vapor. El proceso de deposición se lleva a cabo en condiciones de vacío o descarga de gas a baja presión, es decir, en plasma a baja temperatura.
El material que compone el recubrimiento es un material sólido. Tras la evaporación o la pulverización catódica, se genera en la superficie de la pieza un nuevo recubrimiento de material sólido con propiedades completamente diferentes a las del material base.
2. Proceso básico del recubrimiento PVD
1. Emisión de partículas procedentes de materias primas (a través de evaporación, sublimación, pulverización catódica y descomposición);
2. Las partículas son transportadas al sustrato (las partículas chocan entre sí, lo que da como resultado ionización, recombinación, reacción, intercambio de energía y cambio de dirección del movimiento);
3. Las partículas se condensan, nuclean, crecen y forman una película sobre el sustrato.
Fecha de publicación: 31 de enero de 2023