PVD örtüyü nazik təbəqə materiallarının hazırlanması üçün əsas texnologiyalardan biridir
Film təbəqəsi məhsulun səthinə metal tekstura və zəngin rəng verir, aşınma müqavimətini və korroziyaya davamlılığını artırır və xidmət müddətini uzadır.
Püskürtmə və vakuum buxarlanması ən çox yayılmış iki PVD örtük üsuludur.
1, Tərif
Fiziki buxar çökməsi bir növ fiziki buxar reaksiyası böyümə metodudur. Çökmə prosesi vakuum və ya aşağı təzyiqli qaz boşalması şəraitində, yəni aşağı temperaturlu plazmada həyata keçirilir.
Örtüyün material mənbəyi bərk materialdır. "Buxarlanma və ya püskürmə"dən sonra hissənin səthində əsas materialın xüsusiyyətlərindən tamamilə fərqli yeni bərk material örtüyü yaranır.
2, PVD örtüyünün əsas prosesi
1. Xammaldan hissəciklərin emissiyası (buxarlanma, sublimasiya, püskürmə və parçalanma yolu ilə);
2. Zərrəciklər substrata daşınır (zərrəciklər bir-biri ilə toqquşur və nəticədə ionlaşma, rekombinasiya, reaksiya, enerji mübadiləsi və hərəkət istiqamətinin dəyişməsi baş verir);
3. Zərrəciklər substrat üzərində kondensasiya olunur, nüvələşir, böyüyür və təbəqə əmələ gətirir.
Yazı vaxtı: 31 Yanvar 2023