Görsel içeriğin çok fazla etkiye sahip olduğu günümüzün hızlı dünyasında, optik kaplama teknolojisi çeşitli ekranların kalitesini iyileştirmede önemli bir rol oynamaktadır. Akıllı telefonlardan TV ekranlarına kadar, optik kaplamalar görsel içeriği algılama ve deneyimleme biçimimizde devrim yaratmıştır. ...
Magnetron püskürtme kaplaması, kaplama odasında düşük deşarj akımı yoğunluğu ve düşük plazma yoğunluğu ile kızdırma deşarjında gerçekleştirilir. Bu, magnetron püskürtme teknolojisinin düşük film alt tabaka bağlanma kuvveti, düşük metal iyonizasyon oranı ve düşük biriktirme oranı gibi dezavantajlara sahip olmasına neden olur...
1. Yalıtım filmi püskürtme ve kaplama için faydalıdır. Elektrot polaritesindeki hızlı değişim, yalıtım filmleri elde etmek için yalıtım hedeflerini doğrudan püskürtmek için kullanılabilir. Yalıtım filmi püskürtmek ve biriktirmek için bir DC güç kaynağı kullanılırsa, yalıtım filmi pozitif iyonların içeri girmesini engelleyecektir...
TiN, kesici takımlarda kullanılan en eski sert kaplamadır ve yüksek mukavemet, yüksek sertlik ve aşınma direnci gibi avantajlara sahiptir. Kaplamalı takımlarda ve kaplamalı kalıplarda yaygın olarak kullanılan ilk endüstriyel ve yaygın olarak kullanılan sert kaplama malzemesidir. TiN sert kaplaması başlangıçta 1000 ℃'de biriktirildi...
Yüksek enerjili plazma, polimer malzemeleri bombalayabilir ve ışınlayabilir, moleküler zincirlerini kırabilir, aktif gruplar oluşturabilir, yüzey enerjisini artırabilir ve aşındırma oluşturabilir. Plazma yüzey işlemi, toplu malzemenin iç yapısını ve performansını etkilemez, ancak yalnızca önemli ölçüde...
Katodik ark kaynaklı iyon kaplamanın süreci temel olarak diğer kaplama teknolojileriyle aynıdır ve iş parçalarının yerleştirilmesi, vakumlanması gibi bazı işlemler artık tekrarlanmaz. 1. İş parçalarının bombardımanla temizlenmesi Kaplama öncesinde, argon gazı kaplama haznesine bir...
1. Ark ışığı elektron akışının özellikleri Ark deşarjı ile üretilen ark plazmasındaki elektron akışı, iyon akışı ve yüksek enerjili nötr atomların yoğunluğu, parıltı deşarjından çok daha yüksektir. Daha fazla gaz iyonu ve metal iyonu iyonize edilmiş, uyarılmış yüksek enerjili atomlar ve çeşitli aktif kütleler vardır...
1) Plazma yüzey modifikasyonu esas olarak kağıt, organik filmler, tekstiller ve kimyasal liflerin belirli modifikasyonlarını ifade eder. Plazmanın tekstil modifikasyonu için kullanımı aktivatörlerin kullanımını gerektirmez ve işlem süreci liflerin kendi özelliklerine zarar vermez. ...
Optik ince filmlerin uygulama alanı oldukça geniş olup gözlüklerden, kamera lenslerine, cep telefonu kameralarına, cep telefonları, bilgisayarlar ve televizyonlar için LCD ekranlara, LED aydınlatmalara, biyometrik cihazlara, otomobil ve binalardaki enerji tasarruflu pencerelere, tıbbi aletlere, teknolojilere kadar uzanmaktadır.
1. Bilgi ekranındaki film türü TFT-LCD ve OLED ince filmlere ek olarak, bilgi ekranı ekran panelinde kablolama elektrot filmleri ve şeffaf piksel elektrot filmleri de içerir. Kaplama işlemi, TFT-LCD ve OLED ekranın temel işlemidir. Sürekli prog...
Buharlaştırma kaplaması sırasında, film tabakasının çekirdeklenmesi ve büyümesi çeşitli iyon kaplama teknolojilerinin temelini oluşturur 1. Çekirdeklenme Vakum buharlaştırma kaplama teknolojisinde, film tabakası parçacıkları buharlaşma kaynağından atomlar halinde buharlaştırıldıktan sonra doğrudan su yüzeyine uçarlar...
1. İş parçası önyargısı düşüktür İyonizasyon oranını artırmak için bir cihazın eklenmesi nedeniyle, deşarj akımı yoğunluğu artar ve önyargı voltajı 0,5~1kV'a düşürülür. Yüksek enerjili iyonların aşırı bombardımanı ve iş parçası yüzeyindeki hasar etkisi nedeniyle oluşan geri püskürtme...
1) Silindirik hedefler, düzlemsel hedeflere göre daha yüksek kullanım oranına sahiptir. Kaplama işleminde, döner manyetik tip veya döner tüp tipi silindirik püskürtme hedefi olsun, hedef tüpünün yüzeyinin tüm parçaları sürekli olarak önünde oluşturulan püskürtme alanından geçer...
Plazma direkt polimerizasyon prosesi Plazma polimerizasyon prosesi hem iç elektrot polimerizasyon ekipmanı hem de dış elektrot polimerizasyon ekipmanı için nispeten basittir, ancak parametre seçimi Plazma polimerizasyonunda daha önemlidir, çünkü parametreler büyük bir etkiye sahiptir.