เทคโนโลยีการเคลือบฟิล์มบางโซลาร์เซลล์

เซลล์แสงอาทิตย์ส่วนใหญ่ใช้ในอวกาศ การทหาร และสาขาอื่นๆ ในยุคโฟตอนยุคแรก ในช่วง 20 ปีที่ผ่านมา ต้นทุนของเซลล์แสงอาทิตย์ลดลงอย่างมาก เพื่อส่งเสริมการกระโดดข้ามถ้ำในอวกาศในแอปพลิเคชันทั่วโลกที่หลากหลาย ในช่วงปลายปี 2019 กำลังการผลิตติดตั้งเซลล์แสงอาทิตย์แบบ PV ทั่วโลกทั้งหมดอยู่ที่ 616GW และคาดว่าจะถึง 50% ของกำลังการผลิตไฟฟ้าทั้งหมดของโลกภายในปี 2050 เนื่องจากวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ของเซลล์แสงอาทิตย์ในการดูดซับแสงส่วนใหญ่เกิดขึ้นในช่วงความหนาไม่กี่ไมครอนถึงหลายร้อยไมครอน และประสิทธิภาพของพื้นผิววัสดุเซมิคอนดักเตอร์ของเซลล์มีความสำคัญมาก ดังนั้น เทคโนโลยีฟิล์มบางสูญญากาศจึงมีการใช้งานที่หลากหลายในการผลิตไฟฟ้าจากแสงอาทิตย์

เซลล์แสงอาทิตย์แบบผลึกซิลิคอนที่ผ่านกระบวนการผลิตในอุตสาหกรรมสามารถแบ่งออกเป็น 2 ประเภทหลัก ได้แก่ เซลล์แสงอาทิตย์แบบผลึกซิลิคอนและเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง เทคโนโลยีเซลล์แบบผลึกซิลิคอนที่ล้ำสมัย ได้แก่ เทคโนโลยีตัวปล่อยแบบพาสซีฟและเซลล์ด้านหลัง (PERC) เทคโนโลยีเฮเทอโรจันก์ชัน (HJT) เทคโนโลยีตัวปล่อยแบบพาสซีฟแบบกระจายแสงด้านหลังแบบเต็ม (PERT) และเทคโนโลยีเซลล์แบบสัมผัสแบบพาสซีฟแบบอุโมงค์ออกไซด์ (Topcon) หน้าที่ของฟิล์มบางในเซลล์ซิลิคอนแบบผลึกประกอบด้วย การทำให้เป็นพาสซีฟ การลดแสงสะท้อน การเจือปน P/N และการนำไฟฟ้า เทคโนโลยีแบตเตอรี่แบบฟิล์มบางที่นิยมใช้ ได้แก่ แคดเมียมเทลลูไรด์ คอปเปอร์อินเดียมแกลเลียมเซเลไนด์ และชาลโคเจไนด์ ฟิล์มบางส่วนใหญ่ใช้เป็นชั้นดูดซับแสง ชั้นนำไฟฟ้า เป็นต้น การเตรียมฟิล์มบางในเซลล์แสงอาทิตย์แบบผลึกซิลิคอนมักใช้ในเทคโนโลยีการเคลือบสูญญากาศประเภทต่างๆ

–บทความนี้เผยแพร่โดยผู้ผลิตเครื่องเคลือบสูญญากาศกว่างตงเจิ้นหัว