තුනී පටල ද්රව්ය සකස් කිරීම සඳහා PVD ආලේපනය ප්රධාන තාක්ෂණයන්ගෙන් එකකි.
පටල ස්ථරය නිෂ්පාදන මතුපිටට ලෝහ වයනය සහ පොහොසත් වර්ණය ලබා දෙයි, ඇඳුම් ප්රතිරෝධය සහ විඛාදන ප්රතිරෝධය වැඩි දියුණු කරයි, සහ සේවා කාලය දීර්ඝ කරයි.
ඉසීම සහ රික්ත වාෂ්පීකරණය යනු වඩාත් ප්රධාන ධාරාවේ PVD ආලේපන ක්රම දෙකයි.
1, අර්ථ දැක්වීම
භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම යනු භෞතික වාෂ්ප ප්රතික්රියා වර්ධන ක්රමයකි. තැන්පත් කිරීමේ ක්රියාවලිය රික්තක හෝ අඩු පීඩන වායු විසර්ජන තත්වයන් යටතේ, එනම් අඩු උෂ්ණත්ව ප්ලාස්මා තුළ සිදු කෙරේ.
ආලේපනයේ ද්රව්යමය මූලාශ්රය ඝන ද්රව්ය වේ. "වාෂ්පීකරණය හෝ ඉසීමෙන්" පසු, මූලික ද්රව්ය ක්රියාකාරිත්වයට වඩා සම්පූර්ණයෙන්ම වෙනස් නව ඝන ද්රව්ය ආලේපනයක් කොටසෙහි මතුපිට ජනනය වේ.
2, PVD ආලේපනයේ මූලික ක්රියාවලිය
1. අමුද්රව්ය වලින් අංශු විමෝචනය (වාෂ්පීකරණය, උත්පත්තිය, ඉසීම සහ වියෝජනය හරහා);
2. අංශු උපස්ථරයට ප්රවාහනය කරනු ලැබේ (අංශු එකිනෙක ගැටෙන අතර, එහි ප්රතිඵලයක් ලෙස අයනීකරණය, නැවත එකතු වීම, ප්රතික්රියාව, ශක්ති හුවමාරුව සහ චලන දිශාව වෙනස් වේ);
3. අංශු ඝනීභවනය වී, න්යෂ්ටික වී, වර්ධනය වී උපස්ථරය මත පටලයක් සාදයි.
පළ කිරීමේ කාලය: ජනවාරි-31-2023