ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာတွင် မြင့်မားသော ရှုထောင့်အချိုးအစားရှိသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက် စက်ပစ္စည်း လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် ပြုလုပ်ခြင်းဆိုင်ရာ ဖြေရှင်းချက်များ

အဆင့်မြင့်ထုတ်လုပ်မှုသည် သေးငယ်ခြင်း၊ ပေါ့ပါးသောဒီဇိုင်းနှင့် လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းပေါင်းစပ်မှုဆီသို့ ဆက်လက်တိုးတက်ပြောင်းလဲလာသည်နှင့်အမျှ၊ မြင့်မားသောရှုထောင့်အချိုးအစားရှိသော အစိတ်အပိုင်းများကို တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၊ အီလက်ထရွန်းနစ်ပစ္စည်းများ၊ တိကျသောဟာ့ဒ်ဝဲ၊ မော်တော်ကား၊ ဆေးဘက်ဆိုင်ရာနှင့် အလင်းဆိုင်ရာအသုံးချမှုများတွင် ပိုမိုအသုံးပြုလာကြသည်။ သို့သော်၊ နက်ရှိုင်းသော မြောင်းများ၊ ကျဉ်းမြောင်းသော အပေါက်များ၊ မျက်ကွယ်အပေါက်များနှင့် ပါးလွှာသောဖွဲ့စည်းပုံများ၏ ရှုပ်ထွေးသော ဂျီသြမေတြီသည် ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာအတွက် သိသာထင်ရှားသောစိန်ခေါ်မှုများကို ဖန်တီးပေးသည်။ ပြားချပ်ချပ် သို့မဟုတ် အသင့်အတင့်ပုံသဏ္ဍာန်ရှိသော မျက်နှာပြင်များတွင် ကောင်းစွာလုပ်ဆောင်နိုင်သော ရိုးရာ PVD လုပ်ငန်းစဉ်များသည် မြင့်မားသောရှုထောင့်အချိုးအစားရှိသောဖွဲ့စည်းပုံများတွင် အသုံးပြုသောအခါ အဆင့်ဆင့်ဖုံးအုပ်မှုမလုံလောက်ခြင်း၊ အထူမညီခြင်း၊ အရိပ်အကျိုးသက်ရောက်မှုများနှင့် အပေါ်ယံလွှာကပ်ငြိမှုညံ့ဖျင်းခြင်းတို့ကို ခံစားရနိုင်သည်။

ဤအကြောင်းကြောင့်၊ အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းများကို အခန်းအရွယ်အစား သို့မဟုတ် အနည်ကျမှုနှုန်းကို အခြေခံ၍ ဒီဇိုင်းထုတ်ထားရုံသာမက အစိတ်အပိုင်းဂျီသြမေတြီ၊ မြင်ကွင်းမျဉ်းသယ်ယူပို့ဆောင်ရေး၊ ပလာစမာဝိသေသလက္ခဏာများ၊ အောက်ခံရွေ့လျားမှု၊ ပစ်မှတ်ဖွဲ့စည်းမှုနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်ဖိအားတို့အကြား အပြန်အလှန်အကျိုးသက်ရောက်မှုကို အခြေခံ၍ ဒီဇိုင်းထုတ်ထားရမည်။ သင့်လျော်သော ပစ္စည်းကိရိယာ လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်ခြင်း မဟာဗျူဟာသည် အစိတ်အပိုင်း၏ ရှုထောင့်အချိုးနှင့် တစ်ပြေးညီဖလင်ကြီးထွားမှုအတွက် လိုအပ်သော ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအခြေအနေများအကြား တည်ငြိမ်သောဆက်ဆံရေးကို တည်ဆောက်သင့်သည်။

၁။ အဓိကစိန်ခေါ်မှု- မြင်ကွင်းအကန့်အသတ်ရှိသော စုပုံမှု

မြင့်မားသော aspect-ratio ဖွဲ့စည်းပုံများကို coating လုပ်ရာတွင် အခြေခံအခက်အခဲမှာ ၎င်းတို့၏ geometric accessibility ကန့်သတ်ချက်တွင် တည်ရှိသည်။ ရိုးရာ magnetron sputtering နှင့် cathodic arc deposition တွင် sputtered အက်တမ်များ သို့မဟုတ် ionized metal species များ သယ်ယူပို့ဆောင်ခြင်းကို အမှုန်ရွေ့လျားမှု၏ directionality မှ ပြင်းထန်စွာ လွှမ်းမိုးမှုရှိသည်။ cavity တစ်ခု၏ အပေါက်သည် ၎င်း၏အနက်ထက် သိသိသာသာ သေးငယ်သောအခါ၊ coating species များသည် အောက်ခြေနှင့် sidewalls များသို့ ထိရောက်စွာ မရောက်နိုင်ပါ။

၎င်းက ပုံမှန်အရိပ်အာဝါသကို ဖြစ်ပေါ်စေသည်- အပေါ်ဘက်အနားနှင့် ပေါ်လွင်နေသော မျက်နှာပြင်များသည် မြင့်မားသော အနည်ကျစီးဆင်းမှုကို လက်ခံရရှိပြီး ပိုနက်ရှိုင်းသောနေရာများတွင် သိသိသာသာ လျော့နည်းသော စီးဆင်းမှုကို ခံစားရသည်။ ရလဒ်အနေဖြင့် အလွှာအထူသည် အနက် ဦးတည်ရာတစ်လျှောက်တွင် တဖြည်းဖြည်း လျော့ကျလာပြီး ပြင်းထန်သောကိစ္စများတွင် အခေါင်းပေါက်၏ အောက်ခြေသည် တစ်စိတ်တစ်ပိုင်း သို့မဟုတ် လုံးဝမဖုံးအုပ်ဘဲ ရှိနေနိုင်သည်။

ထို့ကြောင့်၊ ရှုထောင့်အချိုးအစားမြင့်မားသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက်၊ ငွေစုချိန် သို့မဟုတ် အရင်းအမြစ်ပါဝါကို တိုးမြှင့်ခြင်းသည် ယေဘုယျအားဖြင့် ထိရောက်သောဖြေရှင်းချက်မဟုတ်ပါ။ ငွေစုစီးဆင်းမှုကို တိုးမြှင့်ခြင်းသည် ပေါ်လွင်နေသော မျက်နှာပြင်များပေါ်တွင် အပေါ်ယံလွှာနှုန်းကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်ပြီး တစ်ချိန်တည်းမှာပင် ဖလင်အထူလွန်ကဲခြင်း၊ အပူလွန်ကဲခြင်း၊ လျှပ်စစ်ဓာတ်ကြိုးချည်ခြင်း သို့မဟုတ် အပေါ်ယံလွှာချို့ယွင်းချက်များဖြစ်နိုင်ခြေကို တိုးမြင့်စေပါသည်။ ယင်းအစား၊ စက်ပစ္စည်းသည် ချိုင့်ဝင်နေသော မျက်နှာပြင်များသို့ အပေါ်ယံလွှာမျိုးစိတ်များ ဝင်ရောက်နိုင်မှုကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေရမည်။

၂။ ပစ္စည်းကိရိယာများ လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းကို အစိတ်အပိုင်း ဂျီဩမေတြီမှ စတင်သင့်သည်။

လေဟာနယ်အပေါ်ယံလွှာဖွဲ့စည်းပုံကို မဆုံးဖြတ်မီ၊ workpiece ၏ geometry ကို aspect ratio၊ အဖွင့်အရွယ်အစား၊ cavity အနက်၊ နံရံထောင့်၊ blind-hole structure၊ မျက်နှာပြင် orientation နှင့် critical coating area များ အပါအဝင် အသေးစိတ် ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာသင့်သည်။

ရှုထောင့်အချိုးသည် အထူးအရေးကြီးပါသည်၊ အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော် ၎င်းသည် အနည်ကျမျိုးစိတ်၏ ထိရောက်သော သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးလမ်းကြောင်းကို တိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်စေသောကြောင့်ဖြစ်သည်။ အနက်နှင့် အပေါက်အကျယ်အချိုး တိုးလာသည်နှင့်အမျှ ရိုးရာမြင်ကွင်းမျဉ်းအတိုင်း အနည်ကျခြင်းသည် ပိုမိုခက်ခဲလာပါသည်။

နက်ရှိုင်းသော ပေါက်များ သို့မဟုတ် ကျဉ်းမြောင်းသော အပေါက်များပါရှိသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက်၊ ကိရိယာသည် အလွှာဦးတည်ချက်နှင့် ဂြိုဟ်လည်ပတ်မှုတွင် လုံလောက်သော ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိမှုကို ပေးစွမ်းသင့်သည်။ ဘက်စုံဝင်ရိုး အလွှာကိုင်ဆောင်သူသည် အစိတ်အပိုင်းမျက်နှာပြင်နှင့် အပေါ်ယံလွှာရင်းမြစ်ကြားရှိ ဆွေမျိုးထောင့်ကို အဆက်မပြတ်ပြောင်းလဲနိုင်ပြီး မတူညီသော မျက်နှာပြင်များကို ပိုမိုအဆင်ပြေသော အနည်ကျအနေအထားသို့ အခါအားလျော်စွာ ဝင်ရောက်နိုင်စေပါသည်။ ပုံသေ workpiece fixture နှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက ဂြိုဟ်လည်ပတ်မှုသည် ပတ်လည်နှင့် သုံးဖက်မြင် အပေါ်ယံလွှာ တစ်ပြေးညီဖြစ်မှုကို သိသိသာသာ တိုးတက်ကောင်းမွန်စေနိုင်သည်။

ရှုပ်ထွေးသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက်၊ တပ်ဆင်ပစ္စည်းကိုယ်တိုင်ကို အပေါ်ယံလွှာစနစ်၏ အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုအဖြစ်လည်း သတ်မှတ်သင့်သည်။ မသင့်လျော်သော တပ်ဆင်ပစ္စည်းဒီဇိုင်းသည် အနည်ကျစီးဆင်းမှုကို ပိတ်ဆို့စေပြီး အရိပ်ထပ်မံဖန်တီးနိုင်သည်။ ကောင်းမွန်စွာ ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသော တပ်ဆင်ပစ္စည်းတစ်ခုသည် ယုံကြည်စိတ်ချရသော လျှပ်စစ်ထိတွေ့မှု၊ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာတည်ငြိမ်မှုနှင့် အနီးနားရှိ အစိတ်အပိုင်းများအကြား သင့်လျော်သော အကွာအဝေးကို ထိန်းသိမ်းထားစဉ် အရေးကြီးသော မျက်နှာပြင်များ၏ ထိတွေ့မှုကို အများဆုံးဖြစ်စေသင့်သည်။

၃။ ပလာစမာနှင့် စုပုံစီးဆင်းမှု ထိန်းချုပ်ခြင်းမှတစ်ဆင့် အဆင့်ဖုံးအုပ်မှုကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေခြင်း

မြင့်မားသော aspect-ratio ဖွဲ့စည်းပုံများအတွက်၊ step coverage သည် coating စွမ်းဆောင်ရည်ကို အကဲဖြတ်ရန်အသုံးပြုသော အဓိကညွှန်းကိန်းများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည်။ ကောင်းမွန်သော step coverage ရရှိရန် မြင့်မားသော deposition rate ထက်ပို၍ လိုအပ်ပြီး ရောက်ရှိလာသော မျိုးစိတ်များ၏ angular distribution နှင့် စွမ်းအင်ကို ထိရောက်စွာ ထိန်းချုပ်ရန် လိုအပ်ပါသည်။

မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတာရင်းစနစ်များကို အလုပ်လုပ်သောဖိအား၊ အားထုတ်လွှတ်စွမ်းအား၊ သံလိုက်စက်ကွင်းဖွဲ့စည်းပုံ၊ ပစ်မှတ်မှအလွှာအကွာအဝေးနှင့် အလွှာဘက်လိုက်မှုတို့ကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းဖြင့် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင်ပြုလုပ်နိုင်ပါသည်။ အလုပ်လုပ်သောဖိအားကို တိုးမြှင့်ခြင်းသည် ဓာတ်ငွေ့အဆင့်တိုက်မိမှုများကို တိုးစေပြီး စပတာရိုက်ထားသော အက်တမ်များ၏ ပြန့်ကျဲမှုကို မြှင့်တင်ပေးကာ အနည်ကျစီးဆင်းမှုကို ဦးတည်ချက်နည်းစေပါသည်။ ၎င်းသည် ချိုင့်ဝင်နေသော မျက်နှာပြင်များကို ဖုံးအုပ်ခြင်းဖြစ်နိုင်ခြေကို တိုးတက်စေသော်လည်း အလွန်အကျွံဖိအားသည် အနည်ကျမှုစွမ်းဆောင်ရည်ကို လျော့ကျစေပြီး ဖလင်သိပ်သည်းဆနှင့် မျက်နှာပြင်ပုံသဏ္ဍာန်ကို လွှမ်းမိုးနိုင်သည်။

ionization မြင့်မားသော အသုံးချမှုများအတွက် cathodic arc deposition သို့မဟုတ် high-ionization magnetron sputtering ကဲ့သို့သော ionized PVD နည်းပညာများသည် ion flux နှင့် substrate bombardment ကို ပိုမိုထိန်းချုပ်နိုင်သည်။ သင့်လျော်သော negative substrate bias ကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့်၊ အပေါင်းလက္ခဏာဆောင်သော သတ္တုအိုင်းယွန်းများကို workpiece ဆီသို့ အရှိန်မြှင့်နိုင်ပြီး မျက်နှာပြင် activation ကို တိုးတက်စေပြီး ပိုသိပ်သည်းသော film ကြီးထွားမှုကို မြှင့်တင်ပေးသည်။

သို့သော်၊ substrate bias ကို ကန့်သတ်ချက်မရှိဘဲ တိုးမြှင့်သင့်မည်မဟုတ်ပါ။ အလွန်အကျွံ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်းသည် resputtering၊ ဒေသတွင်းအပူပေးခြင်း၊ ကျန်ရှိသောဖိစီးမှု သို့မဟုတ် ထိခိုက်လွယ်သော substrates များကို ပျက်စီးစေနိုင်သည်။ ထို့ကြောင့် အကောင်းဆုံး bias voltage ကို substrate ပစ္စည်း၊ အစိတ်အပိုင်း geometry၊ coating ပစ္စည်းနှင့် လိုအပ်သော film ဂုဏ်သတ္တိများပေါ် မူတည်၍ ဆုံးဖြတ်ရမည်။

၄။ Substrate Bias နှင့် Plasma Density တို့သည် အရေးကြီးသော လုပ်ငန်းစဉ် ပြောင်းလဲမှု များ ဖြစ်သည်

ရှုပ်ထွေးသော သုံးဖက်မြင်ဖွဲ့စည်းပုံများအတွက်၊ ပလာစမာသိပ်သည်းဆနှင့် အောက်ခံဘက်လိုက်မှုကြား ဆက်နွယ်မှုသည် အထူးအရေးကြီးလာပါသည်။

တည်ငြိမ်ပြီး လုံလောက်သော သိပ်သည်းဆရှိသော ပလာစမာသည် မျက်နှာပြင် အသက်ဝင်ခြင်းနှင့် ဖလင်သိပ်သည်းဆအတွက် လိုအပ်သော အိုင်းယွန်းစီးကြောင်းကို ပေးစွမ်းသည်။ တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ အောက်ခံဘက်လိုက်မှုသည် အိုင်းယွန်းများသည် အလုပ်ခွင်ကို ဗုံးကြဲသည့် စွမ်းအင်ကို ထိန်းချုပ်ပေးသည်။ ဤကန့်သတ်ချက်များကို သင့်လျော်စွာ ညှိနှိုင်းခြင်းဖြင့်၊ အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်သည် ပိုမိုကောင်းမွန်သော ကပ်ငြိမှု၊ ပိုမိုမြင့်မားသော ဖလင်သိပ်သည်းဆနှင့် ချိုင့်ဝင်နေသော မျက်နှာပြင်များတွင် ပိုမိုတသမတ်တည်း ဖုံးအုပ်မှုကို ရရှိစေနိုင်သည်။

သို့သော်၊ မြင့်မားသော aspect-ratio အစိတ်အပိုင်းများအတွက်၊ နက်ရှိုင်းသော အခေါင်းပေါက်များအတွင်းရှိ လျှပ်စစ်စက်ကွင်းဖြန့်ဖြူးမှုသည် ပေါ်ထွက်နေသော မျက်နှာပြင်များပေါ်ရှိ ပမာဏနှင့် သိသိသာသာ ကွာခြားနိုင်သည်။ ထို့ကြောင့် အမှန်တကယ် အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲမှုပြင်းထန်မှုသည် အနေအထားအလိုက် ကွဲပြားနိုင်သည်။ ပလာစမာထုတ်လုပ်မှုနှင့် bias parameters များကို တိကျစွာ ထိန်းချုပ်နိုင်သော စက်ပစ္စည်းများသည် ဤ geometric effect များအတွက် လျော်ကြေးပေးရန် လုပ်ငန်းစဉ်ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိမှုကို ပေးစွမ်းသည်။

လက်တွေ့ထုတ်လုပ်မှုတွင်၊ bias voltage၊ bias current၊ pulse frequency၊ duty cycle၊ process pressure၊ gas flow နှင့် discharge power ကဲ့သို့သော parameters များကို သီးခြားစီချိန်ညှိမည့်အစား integrated process window တစ်ခုအဖြစ် အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် ပြုလုပ်သင့်သည်။

၅။ ရှုပ်ထွေးသော သုံးဖက်မြင် အစိတ်အပိုင်းများအတွက် ဘက်စုံရင်းမြစ် ဖွဲ့စည်းမှု

အစိတ်အပိုင်းဂျီသြမေတြီသည် အထူးရှုပ်ထွေးသောအခါ၊ တစ်ခုတည်းသော deposition source သည် လုံလောက်သော coverage ကို မပေးနိုင်ပါ။ ထိုကဲ့သို့သောကိစ္စများတွင်၊ စက်ပစ္စည်းကို မတူညီသော orientation များတွင် တည်ရှိသော sputtering targets များစွာ၊ arc cathodes သို့မဟုတ် evaporation sources များဖြင့် ဒီဇိုင်းထုတ်နိုင်သည်။

အရင်းအမြစ်များစွာပါဝင်သော ဖွဲ့စည်းမှု၏ ရည်ရွယ်ချက်မှာ အနည်ကျမှုနှုန်းကို မြှင့်တင်ရန်သာ မဟုတ်ပါ။ ထို့ထက်အရေးကြီးသည်မှာ ၎င်းသည် အပေါ်ယံလွှာအမျိုးအစားများကို မတူညီသော ဦးတည်ချက်များမှ အလုပ်ခွင်ထဲသို့ ဝင်ရောက်နိုင်စေပြီး ဂျီဩမေတြီအရိပ်၏ လွှမ်းမိုးမှုကို လျှော့ချပေးပါသည်။

ဂြိုဟ်လည်ပတ်မှုနှင့် ပေါင်းစပ်လိုက်သောအခါ၊ ရင်းမြစ်များစွာပါဝင်သော သတ္တုတွင်းတူးခြင်းသည် ပိုမိုတသမတ်တည်းရှိသော သုံးဖက်မြင်သတ္တုတွင်းတူးခြင်းပတ်ဝန်းကျင်ကို တည်ထောင်နိုင်သည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ သတ္တုတွင်းတူးခြင်းလုပ်ငန်းသည် အခန်းဝင်ရိုးတစ်ဝိုက်တွင် အဆက်မပြတ်လည်ပတ်ပြီး လည်ပတ်နေချိန်တွင် ရင်းမြစ်အမျိုးမျိုးကို မျက်နှာပြင်ဦးတည်ချက်အမျိုးမျိုးသို့ သတ်မှတ်နိုင်သည်။ ဤချဉ်းကပ်မှုသည် နက်ရှိုင်းသော မြောင်းများ၊ လှေကားထစ်ဖွဲ့စည်းပုံများ၊ မညီမညာမျဉ်းကွေးများနှင့် အပေါ်ယံလွှာမျက်နှာပြင်များစွာပါရှိသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက် အထူးသင့်လျော်ပါသည်။

တန်ဖိုးမြင့် တိကျမှုရှိသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက်၊ အရင်းအမြစ်ဖွဲ့စည်းပုံကို အတွေ့အကြုံဆိုင်ရာ နေရာချထားမှုကိုသာ အားကိုးမည့်အစား ဂျီဩမေတြီ သရုပ်ဖော်ခြင်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် အတည်ပြုခြင်းမှတစ်ဆင့် ဆုံးဖြတ်သင့်သည်။

၆။ ကြိုတင်ကုသမှုနှင့် မျက်နှာပြင်အသက်သွင်းခြင်းကို လျစ်လျူရှု၍မရပါ။

အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် ပြုလုပ်ထားသော deposition geometry ဖြင့်ပင်၊ substrate မျက်နှာပြင်ကို လုံလောက်စွာ မပြင်ဆင်ထားပါက coating အရည်အသွေးကို ထိခိုက်စေနိုင်သည်။

အချိုးအစားမြင့်မားသော ဖွဲ့စည်းပုံများတွင် စက်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသော အကြွင်းအကျန်များ၊ ဖြတ်တောက်သည့်အရည်များ၊ အောက်ဆိုဒ်များနှင့် အခေါင်းပေါက်နက်များမှ ဖယ်ရှားရန်ခက်ခဲသော ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများ ပါဝင်လေ့ရှိသည်။ ဤညစ်ညမ်းပစ္စည်းများသည် ကပ်ငြိမှုညံ့ဖျင်းခြင်း၊ အပေါက်ငယ်များ၊ ဓာတ်ငွေ့များထွက်ခြင်းနှင့် ဒေသတွင်းတွင် အပေါ်ယံလွှာချို့ယွင်းချက်များ၏ အဓိကအရင်းအမြစ် ဖြစ်လာနိုင်သည်။

ထို့ကြောင့် သတ္တုအနည်ကျခြင်းမပြုမီ စက်ပစ္စည်းဖွဲ့စည်းပုံတွင် ဖုန်စုပ်ပလာစမာသန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်ကို ပေါင်းစပ်နိုင်သည်။ အောက်ခံနှင့် အပေါ်ယံလွှာစနစ်ပေါ် မူတည်၍ Ar ပလာစမာသန့်ရှင်းရေး၊ အိုင်းယွန်းထွင်းခြင်း သို့မဟုတ် အခြားပလာစမာအကူအညီဖြင့် မျက်နှာပြင်အသက်ဝင်စေသော လုပ်ငန်းစဉ်များကို မျက်နှာပြင်ညစ်ညမ်းမှုကို ဖယ်ရှားပြီး မျက်နှာပြင်လှုပ်ရှားမှုကို မြှင့်တင်ရန် အသုံးပြုနိုင်သည်။

အရေးကြီးသောအသုံးချမှုများအတွက်၊ သန့်ရှင်းရေးအခန်းများနှင့် အနည်ထိုင်အခန်းများကို လုပ်ငန်းစဉ်များအကြား ပြန်လည်ညစ်ညမ်းမှုကို လျှော့ချရန်အတွက် အခန်းများစွာပါစနစ်အဖြစ်လည်း ခွဲထားနိုင်သည် သို့မဟုတ် ပြင်ဆင်နိုင်သည်။ ၎င်းသည် မျက်နှာပြင်သန့်ရှင်းမှုသည် ကပ်ငြိမှုနှင့် ရေရှည်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို တိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်စေသည့် မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်ရှိသော အပေါ်ယံလွှာများအတွက် အထူးသဖြင့် အဖိုးတန်ပါသည်။

၇။ ဖုန်စုပ်စနစ်ဒီဇိုင်းသည် လုပ်ငန်းစဉ်တည်ငြိမ်မှုကို ဆုံးဖြတ်ပေးသည်

မြင့်မားသော aspect-ratio အပေါ်ယံလွှာအသုံးချမှုများသည် vacuum system ပေါ်တွင်လည်း မြင့်မားသော လိုအပ်ချက်များကို ဖြစ်ပေါ်စေသည်။ တည်ငြိမ်သော base pressure၊ လုံလောက်သော pump speed နှင့် ထိရောက်သော gas-flow control တို့သည် ပြန်လည်ထုတ်လုပ်နိုင်သော plasma environment ကို ထိန်းသိမ်းရန်အတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။

အရည်အသွေးမြင့် ဖုန်စုပ်စနစ်တစ်ခုသည် လုပ်ငန်းစဉ်မစတင်မီ ရေငွေ့၊ အောက်ဆီဂျင်၊ ဟိုက်ဒရိုကာဗွန်နှင့် အခြားညစ်ညမ်းပစ္စည်းများ ကျန်ရှိနေခြင်းကို အနည်းဆုံးဖြစ်စေရန် လုံလောက်သော အနိမ့်ဆုံးအခြေခံဖိအားကို ရရှိသင့်သည်။ ဓာတ်ငွေ့ထုတ်ယူစဉ်အတွင်း ဓာတ်ငွေ့ဝင်ပေါက်စနစ်နှင့် စုပ်စက်စနစ်သည် ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုနှင့် ပလာစမာဝန်အား ပြောင်းလဲမှုများရှိနေသော်လည်း တည်ငြိမ်သော အလုပ်လုပ်ဖိအားကို ထိန်းသိမ်းထားရမည်။

ထုတ်လုပ်မှုပစ္စည်းကိရိယာများအတွက်၊ အခန်းသည် ဓာတ်ငွေ့စီးကူးမှုကို ထိခိုက်စေနိုင်သော သို့မဟုတ် ညစ်ညမ်းမှုရင်းမြစ်များ ဖြစ်လာနိုင်သည့် မလိုအပ်သော အတွင်းပိုင်းဖွဲ့စည်းပုံများကိုလည်း လျှော့ချသင့်သည်။ သင့်လျော်သော အခန်းဒီဇိုင်း၊ ပန့်ထုတ်ခြင်းဖွဲ့စည်းပုံ၊ လေဟာနယ်တိုင်းတာမှုနှင့် တံဆိပ်ခတ်ခြင်းနည်းပညာတို့သည် အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်၏ ရေရှည်တည်ငြိမ်မှုကို ဆုံးဖြတ်ပေးသည်။

၈။ ပစ္စည်းကိရိယာရွေးချယ်မှုကို လုပ်ငန်းစဉ်ကိုက်ညီမှုအပေါ် အခြေခံသင့်သည်

မြင့်မားသော ရှုထောင့်အချိုးအစားရှိသော အစိတ်အပိုင်းများအတွက်၊ တစ်ကမ္ဘာလုံးအတွက် အကောင်းဆုံး ဖုန်စုပ်အလွှာအုပ်စက် မရှိပါ။ ပစ္စည်းကိရိယာဖွဲ့စည်းပုံကို အောက်ခံပစ္စည်း၊ အစိတ်အပိုင်းအတိုင်းအတာ၊ ရှုထောင့်အချိုး၊ အလွှာအုပ်ပစ္စည်း၊ လိုအပ်သော ဖလင်အထူ၊ အလွှာအုပ်လုပ်ဆောင်ချက်၊ ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်နှင့် ခွင့်ပြုနိုင်သော အပူချိန်တို့အပေါ် မူတည်၍ ဆုံးဖြတ်သင့်သည်။

အလှဆင်အသုံးချမှုများအတွက် အရောင်တသမတ်တည်းဖြစ်မှု၊ မျက်နှာပြင်အသွင်အပြင်နှင့် သုံးဖက်မြင်ဖုံးအုပ်မှုကို အလေးပေးနိုင်ပါသည်။ DLC၊ ဝတ်ဆင်မှုဒဏ်ခံနိုင်သော အပေါ်ယံလွှာများ၊ လျှပ်ကူးပစ္စည်းဖလင်များ၊ ပျံ့နှံ့မှုအတားအဆီးများ သို့မဟုတ် အလင်းတန်းဖလင်များကဲ့သို့သော လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းရှိသော အပေါ်ယံလွှာများအတွက် ဖလင်သိပ်သည်းဆ၊ ကပ်ငြိမှုအစွမ်းသတ္တိ၊ မာကျောမှု၊ လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများ၊ အလင်းတန်းစွမ်းဆောင်ရည်နှင့် အထူတူညီမှုကို ပိုမိုအာရုံစိုက်ရပါမည်။

ထို့ကြောင့် ပစ္စည်းကိရိယာ လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်သည် ပုံမှန်အားဖြင့် အလုပ်အပိုင်း၏ နည်းပညာဆိုင်ရာ အကဲဖြတ်မှုဖြင့် စတင်သင့်ပြီး၊ ထို့နောက် တပ်ဆင်ကိရိယာဒီဇိုင်း၊ သိုက်အရင်းအမြစ်ဖွဲ့စည်းပုံ၊ ပလာစမာလုပ်ငန်းစဉ်ရွေးချယ်မှုနှင့် နမူနာအပေါ်ယံလွှာအတည်ပြုခြင်းတို့ ပြုလုပ်သင့်သည်။ အပေါ်ယံလွှာရလဒ်များသည် လိုအပ်သောစွမ်းဆောင်ရည်ညွှန်းကိန်းများနှင့် ကိုက်ညီပြီးမှသာ နောက်ဆုံးထုတ်လုပ်မှုပစ္စည်းကိရိယာဖွဲ့စည်းပုံကို ဆုံးဖြတ်သင့်သည်။

၉။ “အလွှာလွှာဖြင့်ဖုံးအုပ်နိုင်သော” မှ “တစ်ပြေးညီဖုံးအုပ်ထားသော” အထိ

ရိုးရာအစဉ်အလာနဲ့ အကြီးမားဆုံးကွာခြားချက်ကအစိတ်အပိုင်းများနှင့် မြင့်မားသော ရှုထောင့်အချိုးကျဖွဲ့စည်းပုံများအရ ဖလင်တစ်ခုကို ಲೇಪနိုင်ခြင်းသည် အရည်အချင်းပြည့်မီသော အပေါ်ယံလွှာဖုံးအုပ်မှုကို ရရှိရန်နှင့် ညီမျှခြင်းမရှိပါ။

ရိုးရှင်းသော ဂျီဩမေတြီများအတွက်၊ ရိုးရာ PVD ပစ္စည်းကိရိယာများသည် ကျေနပ်လောက်သော ရလဒ်များကို ပေးစွမ်းနိုင်ပြီးဖြစ်သည်။ သို့သော်၊ အခေါင်းပေါက်နက်များ၊ ကျဉ်းမြောင်းသော မြောင်းများ၊ မျက်ကန်းအပေါက်များနှင့် ရှုပ်ထွေးသော သုံးဖက်မြင်ဖွဲ့စည်းပုံများအတွက်၊ ပစ္စည်းကိရိယာများ လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းသည် လေဟာနယ်ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့် ပလာစမာလှုံ့ဆော်မှုမှသည် အရင်းအမြစ်စီစဉ်ခြင်း၊ အလွှာရွေ့လျားမှု၊ ဘက်လိုက်မှုထိန်းချုပ်မှု၊ တပ်ဆင်မှုဒီဇိုင်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းအထိ ඉදිරියටစနစ်တစ်ခုလုံးကို ကိုင်တွယ်ဖြေရှင်းရမည်။

ရည်ရွယ်ချက်မှာ အပေါ်ယံလွှာအမျိုးအစားများသည် အစိတ်အပိုင်းသို့ ရောက်ရှိစေရန်သာမက၊ လုံလောက်သော အဆင့်ဆင့် ဖုံးအုပ်မှု၊ တစ်ပြေးညီ ဖလင်အထူ၊ တည်ငြိမ်သော ကပ်ငြိမှုနှင့် အသုတ်လိုက် စွမ်းဆောင်ရည်တို့ကို ပေးစွမ်းသည့် ထိန်းချုပ်နိုင်ပြီး ထပ်ခါတလဲလဲ ပြုလုပ်နိုင်သော መስፈላሽပတ်ဝန်းကျင်ကို တည်ထောင်ရန်ဖြစ်သည်။

ဤအကြောင်းကြောင့်၊ မြင့်မားသော aspect-ratio အပေါ်ယံလွှာကို ပိုကြီးသော vacuum chamber ကို ရွေးချယ်ခြင်း သို့မဟုတ် deposition power ကို တိုးမြှင့်ခြင်းကဲ့သို့သော ကိစ္စတစ်ခုထက် စနစ်အဆင့် ပစ္စည်းကိရိယာများနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်အင်ဂျင်နီယာပြဿနာတစ်ခုအဖြစ် ချဉ်းကပ်သင့်သည်။

၁၀။ Zhenhua ဖုန်စုပ်စက်- အသုံးချမှုလိုအပ်ချက်များအပေါ် အခြေခံ၍ ပစ္စည်းကိရိယာများ လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် ပြုလုပ်ခြင်း

မြင့်မားသော aspect-ratio အစိတ်အပိုင်းများအတွက်၊ Zhenhua Vacuum သည် workpiece ၏ တကယ့် geometry နှင့် coating လိုအပ်ချက်များအလိုက် ပစ္စည်းဖွဲ့စည်းပုံကို တီထွင်နိုင်သည်။ vacuum chamber structure၊ deposition sources၊ planetary substrate fixtures၊ substrate bias system၊ plasma cleaning၊ gas-flow control နှင့် automatic process control တို့၏ ညှိနှိုင်းထားသော ဒီဇိုင်းမှတစ်ဆင့်၊ coating system ကို ရှုပ်ထွေးသော three-dimensional components များနှင့် တောင်းဆိုမှုများသော functional coating applications များအတွက် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် ပြုလုပ်နိုင်သည်။

နောက်ဆုံးပစ္စည်းကိရိယာဖြေရှင်းချက်ကို ဖလင်အထူဖြန့်ဖြူးမှု၊ အဆင့်ဆင့်ဖုံးအုပ်မှု၊ ကပ်ငြိမှု၊ မာကျောမှု၊ မျက်နှာပြင်ပုံသဏ္ဍာန်၊ အလင်း သို့မဟုတ် လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် ထုတ်လုပ်မှုစက်ဝန်းအချိန် အပါအဝင် တကယ့်နမူနာများနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်ဒေတာများမှတစ်ဆင့် အတည်ပြုသင့်သည်။ ဤအသုံးချမှုကိုဦးတည်သောချဉ်းကပ်မှုသည် အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာများကို ယေဘုယျဖွဲ့စည်းမှုမှ တည်ငြိမ်သောစက်မှုထုတ်လုပ်မှုကို ပံ့ပိုးပေးနိုင်သည့် လုပ်ငန်းစဉ်အလိုက်ဖြေရှင်းချက်သို့ ရွှေ့ပြောင်းနိုင်စေပါသည်။

- ဤဆောင်းပါးကို ထုတ်ဝေသူဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းထုတ်လုပ်သူZhenhua ဖုန်စုပ်စက်