ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ-ಅನುಪಾತ-ಅನುಪಾತದ ಘಟಕಗಳಿಗೆ ಸಲಕರಣೆಗಳ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ ಪರಿಹಾರಗಳು

ಮುಂದುವರಿದ ಉತ್ಪಾದನೆಯು ಚಿಕಣಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ಹಗುರವಾದ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಏಕೀಕರಣದತ್ತ ವಿಕಸನಗೊಳ್ಳುತ್ತಲೇ ಇರುವುದರಿಂದ, ಅರೆವಾಹಕ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್, ನಿಖರ ಯಂತ್ರಾಂಶ, ಆಟೋಮೋಟಿವ್, ವೈದ್ಯಕೀಯ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತದ ಘಟಕಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಆಳವಾದ ಚಡಿಗಳು, ಕಿರಿದಾದ ಕುಳಿಗಳು, ಕುರುಡು ರಂಧ್ರಗಳು ಮತ್ತು ತೆಳುವಾದ ರಚನೆಗಳ ಸಂಕೀರ್ಣ ಜ್ಯಾಮಿತಿಯು ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನಕ್ಕೆ ಗಮನಾರ್ಹ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಸೃಷ್ಟಿಸುತ್ತದೆ. ಸಮತಟ್ಟಾದ ಅಥವಾ ಮಧ್ಯಮವಾಗಿ ಬಾಹ್ಯರೇಖೆಯ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಸಾಕಷ್ಟು ಹಂತದ ವ್ಯಾಪ್ತಿ, ದಪ್ಪದ ಏಕರೂಪತೆಯಿಲ್ಲದಿರುವುದು, ನೆರಳು ಪರಿಣಾಮಗಳು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತ ರಚನೆಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಿದಾಗ ಕಳಪೆ ಲೇಪನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯಿಂದ ಬಳಲುತ್ತಬಹುದು.

ಈ ಕಾರಣಕ್ಕಾಗಿ, ಲೇಪನ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಕೇವಲ ಕೋಣೆಯ ಗಾತ್ರ ಅಥವಾ ಶೇಖರಣಾ ದರದ ಸುತ್ತಲೂ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಬಾರದು, ಬದಲಿಗೆ ಘಟಕ ಜ್ಯಾಮಿತಿ, ರೇಖೆಯ-ದೃಶ್ಯ ಸಾಗಣೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ತಲಾಧಾರದ ಚಲನೆ, ಗುರಿ ಸಂರಚನೆ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಒತ್ತಡದ ನಡುವಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಸುತ್ತಲೂ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಬೇಕು. ಸೂಕ್ತವಾದ ಸಲಕರಣೆ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯ ತಂತ್ರವು ಘಟಕದ ಆಕಾರ ಅನುಪಾತ ಮತ್ತು ಏಕರೂಪದ ಫಿಲ್ಮ್ ಬೆಳವಣಿಗೆಗೆ ಅಗತ್ಯವಾದ ಭೌತಿಕ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳ ನಡುವೆ ಸ್ಥಿರ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಬೇಕು.

1. ದಿ ಕೋರ್ ಚಾಲೆಂಜ್: ಲಿಮಿಟೆಡ್ ಲೈನ್-ಆಫ್-ಸೈಟ್ ಡಿಪಾಸಿಷನ್

ಹೆಚ್ಚಿನ-ಅನುಪಾತ-ಅನುಪಾತದ ರಚನೆಗಳನ್ನು ಲೇಪಿಸುವಲ್ಲಿ ಮೂಲಭೂತ ತೊಂದರೆ ಅವುಗಳ ನಿರ್ಬಂಧಿತ ಜ್ಯಾಮಿತೀಯ ಪ್ರವೇಶಸಾಧ್ಯತೆಯಲ್ಲಿದೆ. ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಶೇಖರಣೆಯಲ್ಲಿ, ಸ್ಪಟೇಟೆಡ್ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಅಯಾನೀಕೃತ ಲೋಹದ ಪ್ರಭೇದಗಳ ಸಾಗಣೆಯು ಕಣ ಚಲನೆಯ ದಿಕ್ಕಿನಿಂದ ಬಲವಾಗಿ ಪ್ರಭಾವಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಕುಹರದ ತೆರೆಯುವಿಕೆಯು ಅದರ ಆಳಕ್ಕಿಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದ್ದಾಗ, ಲೇಪನ ಪ್ರಭೇದಗಳು ಕೆಳಭಾಗ ಮತ್ತು ಪಕ್ಕದ ಗೋಡೆಗಳನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ತಲುಪಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ.

ಇದು ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ ನೆರಳು ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ: ಮೇಲಿನ ಅಂಚು ಮತ್ತು ತೆರೆದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶೇಖರಣಾ ಹರಿವನ್ನು ಪಡೆಯುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ಆಳವಾದ ಪ್ರದೇಶಗಳು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾದ ಹರಿವನ್ನು ಅನುಭವಿಸುತ್ತವೆ. ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ, ಪದರದ ದಪ್ಪವು ಆಳದ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿ ಕ್ರಮೇಣ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತೀವ್ರತರವಾದ ಪ್ರಕರಣಗಳಲ್ಲಿ, ಕುಹರದ ಕೆಳಭಾಗವು ಭಾಗಶಃ ಅಥವಾ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಲೇಪನವಿಲ್ಲದೆ ಉಳಿಯಬಹುದು.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಯಾಮದ-ಅನುಪಾತದ ಘಟಕಗಳಿಗೆ, ಕೇವಲ ಶೇಖರಣಾ ಸಮಯ ಅಥವಾ ಮೂಲ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಪರಿಹಾರವಲ್ಲ. ಶೇಖರಣಾ ಹರಿವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದರಿಂದ ಒಡ್ಡಿದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ಲೇಪನ ದರವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅತಿಯಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪ, ಅಧಿಕ ಬಿಸಿಯಾಗುವುದು, ಆರ್ಸಿಂಗ್ ಅಥವಾ ಲೇಪನ ದೋಷಗಳ ಅಪಾಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಬಹುದು. ಬದಲಾಗಿ ಉಪಕರಣಗಳು ಲೇಪನ ಪ್ರಭೇದಗಳನ್ನು ಹಿನ್ಸರಿತ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಿಗೆ ಪ್ರವೇಶಿಸುವ ಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬೇಕು.

2. ಸಲಕರಣೆಗಳ ಅಳವಡಿಕೆಯು ಘಟಕ ರೇಖಾಗಣಿತದಿಂದ ಪ್ರಾರಂಭವಾಗಬೇಕು.

ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಸಂರಚನೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುವ ಮೊದಲು, ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್‌ನ ಜ್ಯಾಮಿತಿಯನ್ನು ವಿವರವಾಗಿ ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಬೇಕು, ಇದರಲ್ಲಿ ಆಕಾರ ಅನುಪಾತ, ತೆರೆಯುವಿಕೆಯ ಗಾತ್ರ, ಕುಹರದ ಆಳ, ಗೋಡೆಯ ಕೋನ, ಕುರುಡು-ರಂಧ್ರ ರಚನೆ, ಮೇಲ್ಮೈ ದೃಷ್ಟಿಕೋನ ಮತ್ತು ನಿರ್ಣಾಯಕ ಲೇಪನ ಪ್ರದೇಶಗಳು ಸೇರಿವೆ.

ಆಕಾರ ಅನುಪಾತವು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಇದು ಶೇಖರಣಾ ಪ್ರಭೇದಗಳ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಸಾರಿಗೆ ಮಾರ್ಗವನ್ನು ನೇರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಆಳ ಮತ್ತು ತೆರೆಯುವಿಕೆಯ ಅಗಲದ ಅನುಪಾತವು ಹೆಚ್ಚಾದಂತೆ, ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ರೇಖೆಯ ಶೇಖರಣೆ ಹೆಚ್ಚು ಕಷ್ಟಕರವಾಗುತ್ತದೆ.

ಆಳವಾದ ಚಡಿಗಳು ಅಥವಾ ಕಿರಿದಾದ ಕುಳಿಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಘಟಕಗಳಿಗೆ, ಉಪಕರಣಗಳು ತಲಾಧಾರದ ದೃಷ್ಟಿಕೋನ ಮತ್ತು ಗ್ರಹಗಳ ತಿರುಗುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಸಾಕಷ್ಟು ನಮ್ಯತೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸಬೇಕು. ಬಹು-ಅಕ್ಷದ ತಲಾಧಾರ ಹೊಂದಿರುವವರು ಘಟಕ ಮೇಲ್ಮೈ ಮತ್ತು ಲೇಪನ ಮೂಲದ ನಡುವಿನ ಸಾಪೇಕ್ಷ ಕೋನವನ್ನು ನಿರಂತರವಾಗಿ ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದು, ವಿಭಿನ್ನ ಮೇಲ್ಮೈಗಳು ನಿಯತಕಾಲಿಕವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚು ಅನುಕೂಲಕರವಾದ ಶೇಖರಣಾ ಸ್ಥಾನವನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ಸ್ಥಿರ ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್ ಫಿಕ್ಚರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, ಗ್ರಹಗಳ ತಿರುಗುವಿಕೆಯು ಸುತ್ತಳತೆ ಮತ್ತು ಮೂರು ಆಯಾಮದ ಲೇಪನ ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.

ಸಂಕೀರ್ಣ ಘಟಕಗಳಿಗೆ, ಫಿಕ್ಸ್ಚರ್ ಅನ್ನು ಸಹ ಲೇಪನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಭಾಗವಾಗಿ ಪರಿಗಣಿಸಬೇಕು. ಅಸಮರ್ಪಕ ಫಿಕ್ಸ್ಚರ್ ವಿನ್ಯಾಸವು ಶೇಖರಣಾ ಹರಿವನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚುವರಿ ನೆರಳು ಸೃಷ್ಟಿಸಬಹುದು. ಉತ್ತಮವಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾದ ಫಿಕ್ಸ್ಚರ್ ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹ ವಿದ್ಯುತ್ ಸಂಪರ್ಕ, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಪಕ್ಕದ ಘಟಕಗಳ ನಡುವೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಅಂತರವನ್ನು ಕಾಪಾಡಿಕೊಳ್ಳುವಾಗ ನಿರ್ಣಾಯಕ ಮೇಲ್ಮೈಗಳ ಮಾನ್ಯತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಬೇಕು.

3. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮತ್ತು ಠೇವಣಿ-ಹರಿವಿನ ನಿಯಂತ್ರಣದ ಮೂಲಕ ಹಂತದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವುದು

ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತದ ರಚನೆಗಳಿಗೆ, ಹಂತದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು ಲೇಪನದ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡಲು ಬಳಸುವ ಪ್ರಮುಖ ಸೂಚಕಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಉತ್ತಮ ಹಂತದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶೇಖರಣಾ ದರಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನದನ್ನು ಅಗತ್ಯವಿದೆ; ಇದು ಬರುವ ಜಾತಿಗಳ ಕೋನೀಯ ವಿತರಣೆ ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಬಯಸುತ್ತದೆ.

ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟರಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳನ್ನು ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡ, ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಪವರ್, ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರ ಸಂರಚನೆ, ಗುರಿಯಿಂದ ತಲಾಧಾರದ ಅಂತರ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ಪಕ್ಷಪಾತದ ಅತ್ಯುತ್ತಮೀಕರಣದ ಮೂಲಕ ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು. ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದರಿಂದ ಅನಿಲ-ಹಂತದ ಘರ್ಷಣೆಗಳು ಹೆಚ್ಚಾಗಬಹುದು ಮತ್ತು ಸ್ಫಟರ್ಡ್ ಪರಮಾಣುಗಳ ಚದುರುವಿಕೆಯನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸಬಹುದು, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಶೇಖರಣಾ ಹರಿವು ಕಡಿಮೆ ದಿಕ್ಕಿನಂತಾಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಹಿನ್ಸರಿತ ಮೇಲ್ಮೈಗಳನ್ನು ಲೇಪಿಸುವ ಸಂಭವನೀಯತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು, ಆದರೂ ಅತಿಯಾದ ಒತ್ತಡವು ಶೇಖರಣಾ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುತ್ತದೆ.

ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಯಾನೀಕರಣದ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ, ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಠೇವಣಿ ಅಥವಾ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಯಾನೀಕರಣ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟರಿಂಗ್‌ನಂತಹ ಅಯಾನೀಕೃತ PVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳು ಅಯಾನು ಹರಿವು ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರ ಬಾಂಬ್ ದಾಳಿಯ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು. ಸೂಕ್ತವಾದ ಋಣಾತ್ಮಕ ತಲಾಧಾರ ಪಕ್ಷಪಾತವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸುವ ಮೂಲಕ, ಧನಾತ್ಮಕ ಆವೇಶದ ಲೋಹದ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್ ಕಡೆಗೆ ವೇಗಗೊಳಿಸಬಹುದು, ಮೇಲ್ಮೈ ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ದಟ್ಟವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಬೆಳವಣಿಗೆಯನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸಬಹುದು.

ಆದಾಗ್ಯೂ, ತಲಾಧಾರ ಪಕ್ಷಪಾತವನ್ನು ಮಿತಿಯಿಲ್ಲದೆ ಹೆಚ್ಚಿಸಬಾರದು. ಅತಿಯಾದ ಅಯಾನು ಬಾಂಬ್ ದಾಳಿಯು ರೆಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್, ಸ್ಥಳೀಯ ತಾಪನ, ಉಳಿದ ಒತ್ತಡ ಅಥವಾ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ತಲಾಧಾರಗಳಿಗೆ ಹಾನಿಯನ್ನುಂಟುಮಾಡಬಹುದು. ಆದ್ದರಿಂದ, ತಲಾಧಾರದ ವಸ್ತು, ಘಟಕ ಜ್ಯಾಮಿತಿ, ಲೇಪನ ವಸ್ತು ಮತ್ತು ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಫಿಲ್ಮ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಪ್ರಕಾರ ಸೂಕ್ತ ಪಕ್ಷಪಾತ ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಅನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಬೇಕು.

4. ತಲಾಧಾರ ಪಕ್ಷಪಾತ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಾಂದ್ರತೆಯು ನಿರ್ಣಾಯಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅಸ್ಥಿರಗಳಾಗಿವೆ.

ಸಂಕೀರ್ಣವಾದ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ರಚನೆಗಳಿಗೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರ ಪಕ್ಷಪಾತದ ನಡುವಿನ ಸಂಬಂಧವು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮುಖ್ಯವಾಗುತ್ತದೆ.

ಸ್ಥಿರ ಮತ್ತು ಸಾಕಷ್ಟು ದಟ್ಟವಾದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವು ಮೇಲ್ಮೈ ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಂದ್ರತೆಗೆ ಅಗತ್ಯವಾದ ಅಯಾನು ಹರಿವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ. ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ತಲಾಧಾರ ಪಕ್ಷಪಾತವು ಅಯಾನುಗಳು ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್ ಅನ್ನು ಬಾಂಬ್ ಮಾಡುವ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ನಿಯತಾಂಕಗಳ ಸರಿಯಾದ ಸಮನ್ವಯದ ಮೂಲಕ, ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸುಧಾರಿತ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಹಿನ್ಸರಿತ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಥಿರವಾದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು.

ಆದಾಗ್ಯೂ, ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತದ ಘಟಕಗಳಿಗೆ, ಆಳವಾದ ಕುಳಿಗಳೊಳಗಿನ ವಿದ್ಯುತ್-ಕ್ಷೇತ್ರ ವಿತರಣೆಯು ತೆರೆದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಿಗಿಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ ನಿಜವಾದ ಅಯಾನು ಬಾಂಬ್ ದಾಳಿಯ ತೀವ್ರತೆಯು ಸ್ಥಾನದೊಂದಿಗೆ ಬದಲಾಗಬಹುದು. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಉತ್ಪಾದನೆ ಮತ್ತು ಪಕ್ಷಪಾತ ನಿಯತಾಂಕಗಳ ಮೇಲೆ ನಿಖರವಾದ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಉಪಕರಣಗಳು ಈ ಜ್ಯಾಮಿತೀಯ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಸರಿದೂಗಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಮ್ಯತೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.

ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ, ಬಯಾಸ್ ವೋಲ್ಟೇಜ್, ಬಯಾಸ್ ಕರೆಂಟ್, ಪಲ್ಸ್ ಆವರ್ತನ, ಕರ್ತವ್ಯ ಚಕ್ರ, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಒತ್ತಡ, ಅನಿಲ ಹರಿವು ಮತ್ತು ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಪವರ್‌ನಂತಹ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗಿ ಹೊಂದಿಸುವ ಬದಲು ಸಂಯೋಜಿತ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ವಿಂಡೋ ಆಗಿ ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾಗಿಸಬೇಕು.

5. ಸಂಕೀರ್ಣ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ಘಟಕಗಳಿಗಾಗಿ ಬಹು-ಮೂಲ ಸಂರಚನೆ

ಘಟಕ ರೇಖಾಗಣಿತವು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಸಂಕೀರ್ಣವಾದಾಗ, ಒಂದೇ ಶೇಖರಣಾ ಮೂಲವು ಸಾಕಷ್ಟು ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ಒದಗಿಸದಿರಬಹುದು. ಅಂತಹ ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ, ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಬಹು ಸ್ಪಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಗಳು, ಆರ್ಕ್ ಕ್ಯಾಥೋಡ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ವಿಭಿನ್ನ ದೃಷ್ಟಿಕೋನಗಳಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾದ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲಗಳೊಂದಿಗೆ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಬಹುದು.

ಬಹು-ಮೂಲ ಸಂರಚನೆಯ ಉದ್ದೇಶವು ಕೇವಲ ಶೇಖರಣಾ ದರವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದು ಮಾತ್ರವಲ್ಲ. ಹೆಚ್ಚು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ, ಇದು ಲೇಪನ ಪ್ರಭೇದಗಳು ವಿವಿಧ ದಿಕ್ಕುಗಳಿಂದ ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್ ಅನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ, ಜ್ಯಾಮಿತೀಯ ನೆರಳಿನ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.

ಗ್ರಹಗಳ ತಿರುಗುವಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ ಸೇರಿ, ಬಹು-ಮೂಲ ಶೇಖರಣೆಯು ಹೆಚ್ಚು ಏಕರೂಪದ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ಶೇಖರಣಾ ಪರಿಸರವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಬಹುದು. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ವಿಭಿನ್ನ ಮೂಲಗಳನ್ನು ವಿಭಿನ್ನ ಮೇಲ್ಮೈ ದೃಷ್ಟಿಕೋನಗಳಿಗೆ ನಿಯೋಜಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್ ನಿರಂತರವಾಗಿ ಕೋಣೆಯ ಅಕ್ಷದ ಸುತ್ತ ತಿರುಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸುತ್ತುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನವು ಆಳವಾದ ಚಡಿಗಳು, ಮೆಟ್ಟಿಲುಗಳ ರಚನೆಗಳು, ಅನಿಯಮಿತ ಬಾಹ್ಯರೇಖೆಗಳು ಮತ್ತು ಬಹು ಲೇಪನ ಮೇಲ್ಮೈಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಘಟಕಗಳಿಗೆ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

ಹೆಚ್ಚಿನ ಮೌಲ್ಯದ ನಿಖರತೆಯ ಘಟಕಗಳಿಗೆ, ಮೂಲ ಸಂರಚನೆಯನ್ನು ಕೇವಲ ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಸ್ಥಾನೀಕರಣವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸುವ ಬದಲು ಜ್ಯಾಮಿತೀಯ ಸಿಮ್ಯುಲೇಶನ್ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಪರಿಶೀಲನೆಯ ಮೂಲಕ ನಿರ್ಧರಿಸಬೇಕು.

6. ಪೂರ್ವ-ಚಿಕಿತ್ಸೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ನಿರ್ಲಕ್ಷಿಸಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ.

ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ಶೇಖರಣಾ ಜ್ಯಾಮಿತಿಯೊಂದಿಗೆ ಸಹ, ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಸಮರ್ಪಕವಾಗಿ ತಯಾರಿಸದಿದ್ದರೆ ಲೇಪನದ ಗುಣಮಟ್ಟವು ಇನ್ನೂ ರಾಜಿ ಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು.

ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತದ ರಚನೆಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಯಂತ್ರದ ಅವಶೇಷಗಳು, ಕತ್ತರಿಸುವ ದ್ರವಗಳು, ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಆಳವಾದ ಕುಳಿಗಳಿಂದ ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಕಷ್ಟಕರವಾದ ಮಾಲಿನ್ಯಕಾರಕಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಈ ಮಾಲಿನ್ಯಕಾರಕಗಳು ಕಳಪೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಪಿನ್‌ಹೋಲ್‌ಗಳು, ಅನಿಲ ಹೊರಹರಿವು ಮತ್ತು ಸ್ಥಳೀಯ ಲೇಪನ ದೋಷಗಳ ಪ್ರಮುಖ ಮೂಲವಾಗಬಹುದು.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಶೇಖರಣೆಯ ಮೊದಲು ನಿರ್ವಾತ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಉಪಕರಣದ ಸಂರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಸಂಯೋಜಿಸಬಹುದು. ತಲಾಧಾರ ಮತ್ತು ಲೇಪನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿ, ಮೇಲ್ಮೈ ಮಾಲಿನ್ಯವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಆರ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ಅಯಾನ್ ಎಚಿಂಗ್ ಅಥವಾ ಇತರ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ-ನೆರವಿನ ಮೇಲ್ಮೈ ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಬಹುದು.

ನಿರ್ಣಾಯಕ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗಾಗಿ, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ನಡುವಿನ ಮರುಸಂಗ್ರಹಣೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ಕೋಣೆಗಳನ್ನು ಬಹು-ಕೋಣೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಾಗಿ ಬೇರ್ಪಡಿಸಬಹುದು ಅಥವಾ ಕಾನ್ಫಿಗರ್ ಮಾಡಬಹುದು. ಇಂಟರ್ಫೇಸ್ ಶುಚಿತ್ವವು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಮತ್ತು ದೀರ್ಘಕಾಲೀನ ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹತೆಯ ಮೇಲೆ ನೇರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಉನ್ನತ-ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಲೇಪನಗಳಿಗೆ ಇದು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮೌಲ್ಯಯುತವಾಗಿದೆ.

7. ನಿರ್ವಾತ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ವಿನ್ಯಾಸವು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ

ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತದ ಲೇಪನ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳು ನಿರ್ವಾತ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಬೇಡಿಕೆಗಳನ್ನು ಇಡುತ್ತವೆ. ಪುನರುತ್ಪಾದಿಸಬಹುದಾದ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪರಿಸರವನ್ನು ಕಾಪಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಸ್ಥಿರವಾದ ಬೇಸ್ ಒತ್ತಡ, ಸಾಕಷ್ಟು ಪಂಪಿಂಗ್ ವೇಗ ಮತ್ತು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಅನಿಲ-ಹರಿವಿನ ನಿಯಂತ್ರಣ ಅತ್ಯಗತ್ಯ.

ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ನಿರ್ವಾತ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪ್ರಾರಂಭದ ಮೊದಲು ಸಾಕಷ್ಟು ಕಡಿಮೆ ಬೇಸ್ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಸಾಧಿಸಬೇಕು, ಉಳಿದ ನೀರಿನ ಆವಿ, ಆಮ್ಲಜನಕ, ಹೈಡ್ರೋಕಾರ್ಬನ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಮಾಲಿನ್ಯಕಾರಕಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬೇಕು. ಶೇಖರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಅನಿಲ ಒಳಹರಿವು ವ್ಯವಸ್ಥೆ ಮತ್ತು ಪಂಪಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಅನಿಲ ಹರಿವು ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಲೋಡ್‌ನಲ್ಲಿ ಬದಲಾವಣೆಗಳ ಹೊರತಾಗಿಯೂ ಸ್ಥಿರವಾದ ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಕಾಯ್ದುಕೊಳ್ಳಬೇಕು.

ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಲಕರಣೆಗಳಿಗೆ, ಚೇಂಬರ್ ಅನಿಲ ವಾಹಕತೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಅಥವಾ ಮಾಲಿನ್ಯದ ಮೂಲಗಳಾಗಬಹುದಾದ ಅನಗತ್ಯ ಆಂತರಿಕ ರಚನೆಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬೇಕು. ಸರಿಯಾದ ಚೇಂಬರ್ ವಿನ್ಯಾಸ, ಪಂಪಿಂಗ್ ಕಾನ್ಫಿಗರೇಶನ್, ನಿರ್ವಾತ ಮಾಪನ ಮತ್ತು ಸೀಲಿಂಗ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ದೀರ್ಘಕಾಲೀನ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ.

8. ಸಲಕರಣೆಗಳ ಆಯ್ಕೆಯು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯನ್ನು ಆಧರಿಸಿರಬೇಕು.

ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತದ ಘಟಕಗಳಿಗೆ, ಸಾರ್ವತ್ರಿಕವಾಗಿ ಸೂಕ್ತವಾದ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರವಿಲ್ಲ. ಸಲಕರಣೆಗಳ ಸಂರಚನೆಯನ್ನು ತಲಾಧಾರದ ವಸ್ತು, ಘಟಕ ಆಯಾಮಗಳು, ಆಕಾರ ಅನುಪಾತ, ಲೇಪನ ವಸ್ತು, ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪ, ಲೇಪನ ಕಾರ್ಯ, ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ ಮತ್ತು ಅನುಮತಿಸುವ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ನಿರ್ಧರಿಸಬೇಕು.

ಅಲಂಕಾರಿಕ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗಾಗಿ, ಬಣ್ಣ ಸ್ಥಿರತೆ, ಮೇಲ್ಮೈ ನೋಟ ಮತ್ತು ಮೂರು ಆಯಾಮದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಗೆ ಒತ್ತು ನೀಡಬಹುದು. DLC, ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ ಲೇಪನಗಳು, ವಾಹಕ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು, ಪ್ರಸರಣ ತಡೆಗೋಡೆಗಳು ಅಥವಾ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳಂತಹ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಲೇಪನಗಳಿಗಾಗಿ, ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಂದ್ರತೆ, ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಶಕ್ತಿ, ಗಡಸುತನ, ವಿದ್ಯುತ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಮತ್ತು ದಪ್ಪದ ಏಕರೂಪತೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಮನ ನೀಡಬೇಕು.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಸಲಕರಣೆಗಳ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್‌ನ ತಾಂತ್ರಿಕ ಮೌಲ್ಯಮಾಪನದೊಂದಿಗೆ ಪ್ರಾರಂಭವಾಗಬೇಕು, ನಂತರ ಫಿಕ್ಸ್ಚರ್ ವಿನ್ಯಾಸ, ಶೇಖರಣಾ-ಮೂಲ ಸಂರಚನೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ-ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಆಯ್ಕೆ ಮತ್ತು ಮಾದರಿ ಲೇಪನ ಪರಿಶೀಲನೆಯೊಂದಿಗೆ ಪ್ರಾರಂಭವಾಗಬೇಕು. ಲೇಪನ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಸೂಚಕಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಿದ ನಂತರವೇ ಅಂತಿಮ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಲಕರಣೆಗಳ ಸಂರಚನೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಬೇಕು.

9. “ಕೋಟಬಲ್” ನಿಂದ “ಏಕರೂಪದ ಲೇಪನ” ವರೆಗೆ

ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ನಡುವಿನ ದೊಡ್ಡ ವ್ಯತ್ಯಾಸಘಟಕಗಳು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ-ಅನುಪಾತ-ಅನುಪಾತ ರಚನೆಗಳ ಒಂದು ವಿಶಿಷ್ಟ ಲಕ್ಷಣವೆಂದರೆ, ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುವುದು ಅರ್ಹವಾದ ಲೇಪನ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ಸಾಧಿಸುವುದಕ್ಕೆ ಸಮನಾಗಿರುವುದಿಲ್ಲ.

ಸರಳ ಜ್ಯಾಮಿತಿಗಳಿಗೆ, ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ PVD ಉಪಕರಣಗಳು ಈಗಾಗಲೇ ತೃಪ್ತಿದಾಯಕ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಆಳವಾದ ಕುಳಿಗಳು, ಕಿರಿದಾದ ಚಡಿಗಳು, ಕುರುಡು ರಂಧ್ರಗಳು ಮತ್ತು ಸಂಕೀರ್ಣ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ರಚನೆಗಳಿಗೆ, ಉಪಕರಣಗಳ ರೂಪಾಂತರವು ಸಂಪೂರ್ಣ ಶೇಖರಣಾ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಬೇಕು - ನಿರ್ವಾತ ಉತ್ಪಾದನೆ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪ್ರಚೋದನೆಯಿಂದ ಮೂಲ ವ್ಯವಸ್ಥೆ, ತಲಾಧಾರ ಚಲನೆ, ಪಕ್ಷಪಾತ ನಿಯಂತ್ರಣ, ಫಿಕ್ಚರ್ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್ ವರೆಗೆ.

ಲೇಪನ ಪ್ರಭೇದಗಳು ಘಟಕವನ್ನು ತಲುಪುವಂತೆ ಮಾಡುವುದು ಕೇವಲ ಉದ್ದೇಶವಲ್ಲ, ಬದಲಾಗಿ ಸಾಕಷ್ಟು ಹಂತದ ವ್ಯಾಪ್ತಿ, ಏಕರೂಪದ ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪ, ಸ್ಥಿರ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರವಾದ ಬ್ಯಾಚ್-ಟು-ಬ್ಯಾಚ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುವ ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದಾದ ಮತ್ತು ಪುನರಾವರ್ತನೀಯ ಶೇಖರಣಾ ವಾತಾವರಣವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸುವುದು ಇದರ ಉದ್ದೇಶವಾಗಿದೆ.

ಈ ಕಾರಣಕ್ಕಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತದ ಲೇಪನವನ್ನು ಕೇವಲ ದೊಡ್ಡ ನಿರ್ವಾತ ಕೊಠಡಿಯನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡುವ ಅಥವಾ ಶೇಖರಣಾ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ವಿಷಯಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಿ, ಸಿಸ್ಟಮ್-ಮಟ್ಟದ ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಸಮಸ್ಯೆಯಾಗಿ ಸಂಪರ್ಕಿಸಬೇಕು.

10. ಝೆನ್ಹುವಾ ನಿರ್ವಾತ: ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಸಲಕರಣೆಗಳ ಅಳವಡಿಕೆ

ಹೆಚ್ಚಿನ-ಆಕಾರ-ಅನುಪಾತದ ಘಟಕಗಳಿಗೆ, ಝೆನ್‌ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್‌ನ ನಿಜವಾದ ಜ್ಯಾಮಿತಿ ಮತ್ತು ಲೇಪನದ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಉಪಕರಣಗಳ ಸಂರಚನೆಯನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಬಹುದು. ನಿರ್ವಾತ ಕೊಠಡಿಯ ರಚನೆ, ಶೇಖರಣಾ ಮೂಲಗಳು, ಗ್ರಹಗಳ ತಲಾಧಾರ ನೆಲೆವಸ್ತುಗಳು, ತಲಾಧಾರ ಪಕ್ಷಪಾತ ವ್ಯವಸ್ಥೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ಅನಿಲ-ಹರಿವಿನ ನಿಯಂತ್ರಣ ಮತ್ತು ಸ್ವಯಂಚಾಲಿತ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ನಿಯಂತ್ರಣದ ಸಂಘಟಿತ ವಿನ್ಯಾಸದ ಮೂಲಕ, ಲೇಪನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಸಂಕೀರ್ಣ ಮೂರು-ಆಯಾಮದ ಘಟಕಗಳು ಮತ್ತು ಬೇಡಿಕೆಯ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಲೇಪನ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು.

ಅಂತಿಮ ಸಲಕರಣೆ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ನಿಜವಾದ ಮಾದರಿಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಡೇಟಾದ ಮೂಲಕ ಮೌಲ್ಯೀಕರಿಸಬೇಕು, ಇದರಲ್ಲಿ ಫಿಲ್ಮ್-ದಪ್ಪ ವಿತರಣೆ, ಹಂತದ ವ್ಯಾಪ್ತಿ, ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಗಡಸುತನ, ಮೇಲ್ಮೈ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನ, ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅಥವಾ ವಿದ್ಯುತ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನಾ ಚಕ್ರ ಸಮಯ ಸೇರಿವೆ. ಈ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್-ಆಧಾರಿತ ವಿಧಾನವು ಲೇಪನ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯ ಸಂರಚನೆಯಿಂದ ಸ್ಥಿರವಾದ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಬೆಂಬಲಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವಿರುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ-ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪರಿಹಾರದ ಕಡೆಗೆ ಚಲಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ.

- ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ಪ್ರಕಟಿಸಿದವರುನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಸಲಕರಣೆ ತಯಾರಕಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್