දියුණු නිෂ්පාදන කුඩාකරණය, සැහැල්ලු නිර්මාණය සහ ක්‍රියාකාරී ඒකාබද්ධ කිරීම දෙසට අඛණ්ඩව පරිණාමය වන විට, අර්ධ සන්නායක, ඉලෙක්ට්‍රොනික උපකරණ, නිරවද්‍ය දෘඩාංග, මෝටර් රථ, වෛද්‍ය සහ දෘශ්‍ය යෙදුම්වල ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත සංරචක වැඩි වැඩියෙන් භාවිතා වේ. කෙසේ වෙතත්, ගැඹුරු කට්ට, පටු කුහර, අන්ධ සිදුරු සහ සිහින් ව්‍යුහයන්ගේ සංකීර්ණ ජ්‍යාමිතිය රික්ත ආලේපනය සඳහා සැලකිය යුතු අභියෝග ඇති කරයි. පැතලි හෝ මධ්‍යස්ථ සමෝච්ඡ පෘෂ්ඨ මත හොඳින් ක්‍රියා කරන සාම්ප්‍රදායික PVD ක්‍රියාවලීන් ප්‍රමාණවත් නොවන පියවර ආවරණය, ඝණකම ඒකාකාරී නොවීම, සෙවනැලි බලපෑම් සහ ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත ව්‍යුහයන්ට යොදන විට දුර්වල ආලේපන ඇලවීමෙන් පීඩා විඳිය හැකිය.
මෙම හේතුව නිසා, ආලේපන උපකරණ නිර්මාණය කළ යුත්තේ හුදෙක් කුටීර ප්‍රමාණය හෝ තැන්පත් වීමේ අනුපාතය වටා නොව, සංරචක ජ්‍යාමිතිය, දෘශ්‍ය රේඛාව ප්‍රවාහනය, ප්ලාස්මා ලක්ෂණ, උපස්ථර චලිතය, ඉලක්ක වින්‍යාසය සහ ක්‍රියාවලි පීඩනය අතර අන්තර්ක්‍රියා වටා ය. සුදුසු උපකරණ අනුවර්තන උපාය මාර්ගයක් මඟින් සංරචකයේ දර්ශන අනුපාතය සහ ඒකාකාර පටල වර්ධනය සඳහා අවශ්‍ය භෞතික තත්වයන් අතර ස්ථාවර සම්බන්ධතාවයක් ඇති කළ යුතුය.
1. මූලික අභියෝගය: සීමිත දෘෂ්ටි රේඛාව තැන්පත් කිරීම
ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත ව්‍යුහයන් ආලේප කිරීමේදී ඇති මූලික දුෂ්කරතාවය වන්නේ ඒවායේ සීමිත ජ්‍යාමිතික ප්‍රවේශ්‍යතාවයි. සාම්ප්‍රදායික චුම්බක ඉසීම සහ කැතෝඩික් චාප තැන්පත් වීමේදී, ඉසින ලද පරමාණු හෝ අයනීකෘත ලෝහ විශේෂ ප්‍රවාහනය අංශු චලිතයේ දිශානුගතතාවයෙන් දැඩි ලෙස බලපායි. කුහරයක විවරය එහි ගැඹුරට වඩා සැලකිය යුතු ලෙස කුඩා වූ විට, ආලේපන විශේෂයට පහළ සහ පැති බිත්ති වෙත ඵලදායී ලෙස ළඟා විය නොහැක.
මෙය සාමාන්‍ය සෙවනැලි බලපෑමක් ඇති කරයි: ඉහළ දාරය සහ නිරාවරණය වූ මතුපිට සාපේක්ෂව ඉහළ තැන්පත් ප්‍රවාහයක් ලබා ගන්නා අතර ගැඹුරු ප්‍රදේශ සැලකිය යුතු ලෙස අඩු වූ ප්‍රවාහයක් අත්විඳියි. එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස, පටල ඝණකම ගැඹුර දිශාව ඔස්සේ ක්‍රමයෙන් අඩු වන අතර, දරුණු අවස්ථාවල දී, කුහරයේ පතුල අර්ධ වශයෙන් හෝ සම්පූර්ණයෙන්ම ආලේපයකින් තොරව පැවතිය හැකිය.
එබැවින්, ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත සංරචක සඳහා, තැන්පත් කිරීමේ කාලය හෝ ප්‍රභව බලය වැඩි කිරීම සාමාන්‍යයෙන් ඵලදායී විසඳුමක් නොවේ. තැන්පත් කිරීමේ ප්‍රවාහය වැඩි කිරීමෙන් නිරාවරණය වූ පෘෂ්ඨ මත ආලේපන අනුපාතය වැඩි දියුණු කළ හැකි අතර ඒ සමඟම අධික පටල ඝණකම, අධික උනුසුම් වීම, චාප කිරීම හෝ ආලේපන දෝෂ ඇතිවීමේ අවදානම වැඩි කරයි. ඒ වෙනුවට උපකරණ ආලේපන විශේෂයේ අවපාත මතුපිටට ප්‍රවේශ්‍යතාව වැඩි දියුණු කළ යුතුය.
2. උපකරණ අනුවර්තනය සංරචක ජ්‍යාමිතියෙන් ආරම්භ විය යුතුය.
රික්ත ආලේපන වින්‍යාසය තීරණය කිරීමට පෙර, වැඩ කොටසෙහි ජ්‍යාමිතිය විස්තරාත්මකව විශ්ලේෂණය කළ යුතු අතර, දර්ශන අනුපාතය, විවරයේ ප්‍රමාණය, කුහර ගැඹුර, බිත්ති කෝණය, අන්ධ සිදුරු ව්‍යුහය, මතුපිට දිශානතිය සහ තීරණාත්මක ආලේපන ප්‍රදේශ ඇතුළත් වේ.
දර්ශන අනුපාතය විශේෂයෙන් වැදගත් වන්නේ එය තැන්පත් විශේෂයේ ඵලදායී ප්‍රවාහන මාර්ගයට සෘජුවම බලපාන බැවිනි. ගැඹුර සහ විවෘත පළල අනුපාතය වැඩි වන විට, සාම්ප්‍රදායික දෘෂ්ටි රේඛාව තැන්පත් කිරීම වඩ වඩාත් දුෂ්කර වේ.
ගැඹුරු කට්ට හෝ පටු කුහර සහිත සංරචක සඳහා, උපකරණ උපස්ථර දිශානතියේ සහ ග්‍රහලෝක භ්‍රමණයේ ප්‍රමාණවත් නම්‍යශීලී බවක් ලබා දිය යුතුය. බහු-අක්ෂ උපස්ථර රඳවනයකට සංරචක මතුපිට සහ ආලේපන ප්‍රභවය අතර සාපේක්ෂ කෝණය අඛණ්ඩව වෙනස් කළ හැකි අතර, විවිධ පෘෂ්ඨයන් වරින් වර වඩාත් හිතකර තැන්පත් ස්ථානයකට ඇතුළු වීමට ඉඩ සලසයි. ස්ථාවර වැඩ කොටස් සවිකිරීමක් සමඟ සසඳන විට, ග්‍රහලෝක භ්‍රමණය මගින් පරිධිය සහ ත්‍රිමාණ ආලේපන ඒකාකාරිත්වය සැලකිය යුතු ලෙස වැඩිදියුණු කළ හැකිය.
සංකීර්ණ සංරචක සඳහා, සවිකිරීම ද ආලේපන පද්ධතියේ කොටසක් ලෙස සැලකිය යුතුය. නුසුදුසු සවිකිරීම් සැලසුමක් මඟින් තැන්පත් වීමේ ප්‍රවාහය අවහිර කර අතිරේක සෙවනැලි නිර්මාණය කළ හැකිය. හොඳින් සැලසුම් කරන ලද සවිකිරීමක් විශ්වාසදායක විද්‍යුත් සම්බන්ධතා, යාන්ත්‍රික ස්ථායිතාව සහ යාබද සංරචක අතර සුදුසු පරතරය පවත්වා ගනිමින් තීරණාත්මක පෘෂ්ඨයන් නිරාවරණය කිරීම උපරිම කළ යුතුය.
3. ප්ලාස්මා සහ තැන්පත්-ප්‍රවාහ පාලනය හරහා පියවර ආවරණය වැඩි දියුණු කිරීම
ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත ව්‍යුහයන් සඳහා, ආලේපන කාර්ය සාධනය ඇගයීම සඳහා භාවිතා කරන ප්‍රධාන දර්ශකවලින් එකක් වන්නේ පියවර ආවරණයයි. හොඳ පියවර ආවරණයක් ලබා ගැනීම සඳහා ඉහළ තැන්පත් වීමේ අනුපාතයකට වඩා වැඩි යමක් අවශ්‍ය වේ; එයට පැමිණෙන විශේෂවල කෝණික ව්‍යාප්තිය සහ ශක්තිය මත ඵලදායී පාලනයක් අවශ්‍ය වේ.
වැඩ කරන පීඩනය, විසර්ජන බලය, චුම්භක ක්ෂේත්‍ර වින්‍යාසය, ඉලක්කයෙන් උපස්ථරයට ඇති දුර සහ උපස්ථර නැඹුරුව ප්‍රශස්තකරණය කිරීම හරහා චුම්බක ඉසින පද්ධති අනුවර්තනය කළ හැකිය. වැඩ කරන පීඩනය වැඩි කිරීමෙන් වායු-අදියර ගැටුම් වැඩි කළ හැකි අතර ඉසින ලද පරමාණු විසිරීම ප්‍රවර්ධනය කළ හැකි අතර, තැන්පත් ප්‍රවාහය අඩු දිශානුගත වේ. අධික පීඩනය තැන්පත් කිරීමේ කාර්යක්ෂමතාව අඩු කළ හැකි අතර පටල ඝනත්වය සහ මතුපිට රූප විද්‍යාවට බලපෑම් කළ හැකි වුවද, මෙය අවපාත මතුපිට ආලේප කිරීමේ සම්භාවිතාව වැඩි දියුණු කළ හැකිය.
ඉහළ අයනීකරණයක් අවශ්‍ය වන යෙදුම් සඳහා, කැතෝඩික් චාප තැන්පත් කිරීම හෝ ඉහළ අයනීකරණ මැග්නට්‍රෝන ස්පුටරින් කිරීම වැනි අයනීකෘත PVD තාක්ෂණයන්, අයන ප්‍රවාහය සහ උපස්ථර බෝම්බ හෙලීම කෙරෙහි වැඩි පාලනයක් සැපයිය හැකිය. සුදුසු සෘණ උපස්ථර නැඹුරුවක් යෙදීමෙන්, ධනාත්මක ආරෝපිත ලෝහ අයන වැඩ කොටස දෙසට වේගවත් කළ හැකි අතර, මතුපිට සක්‍රිය කිරීම වැඩි දියුණු කර ඝන පටල වර්ධනය ප්‍රවර්ධනය කළ හැකිය.
කෙසේ වෙතත්, උපස්ථර නැඹුරුව සීමාවකින් තොරව වැඩි නොකළ යුතුය. අධික අයන බෝම්බ හෙලීම නැවත ඉසීම, දේශීය උණුසුම, අවශේෂ ආතතිය හෝ සංවේදී උපස්ථර වලට හානි කිරීමට හේතු විය හැක. එබැවින් ප්‍රශස්ත නැඹුරු වෝල්ටීයතාවය උපස්ථර ද්‍රව්‍ය, සංරචක ජ්‍යාමිතිය, ආලේපන ද්‍රව්‍ය සහ අවශ්‍ය පටල ගුණාංග අනුව තීරණය කළ යුතුය.
4. උපස්ථර නැඹුරුව සහ ප්ලාස්මා ඝනත්වය තීරණාත්මක ක්‍රියාවලි විචල්‍යයන් වේ.
සංකීර්ණ ත්‍රිමාණ ව්‍යුහයන් සඳහා, ප්ලාස්මා ඝනත්වය සහ උපස්ථර නැඹුරුව අතර සම්බන්ධතාවය විශේෂයෙන් වැදගත් වේ.
ස්ථායී සහ ප්‍රමාණවත් තරම් ඝන ප්ලාස්මාවක් මතුපිට සක්‍රිය කිරීම සහ පටල ඝනත්වය සඳහා අවශ්‍ය අයන ප්‍රවාහය සපයයි. ඒ සමඟම, උපස්ථර නැඹුරුව වැඩ කොටස මත අයන බෝම්බ හෙලන ශක්තිය පාලනය කරයි. මෙම පරාමිතීන් නිසි ලෙස සම්බන්ධීකරණය කිරීම තුළින්, ආලේපන ක්‍රියාවලියට වැඩිදියුණු කළ ඇලීම, ඉහළ පටල ඝනත්වය සහ අවපාත පෘෂ්ඨ මත වඩාත් ස්ථාවර ආවරණයක් ලබා ගත හැකිය.
කෙසේ වෙතත්, ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත සංරචක සඳහා, ගැඹුරු කුහර තුළ විද්‍යුත් ක්ෂේත්‍ර ව්‍යාප්තිය නිරාවරණය වූ පෘෂ්ඨ මත ව්‍යාප්තියට වඩා සැලකිය යුතු ලෙස වෙනස් විය හැකිය. එබැවින් සත්‍ය අයන බෝම්බ හෙලීමේ තීව්‍රතාවය ස්ථානය අනුව වෙනස් විය හැකිය. ප්ලාස්මා උත්පාදනය සහ පක්ෂග්‍රාහී පරාමිතීන් පිළිබඳ නිරවද්‍ය පාලනයක් ඇති උපකරණ මෙම ජ්‍යාමිතික බලපෑම් සඳහා වන්දි ගෙවීම සඳහා වැඩි ක්‍රියාවලි නම්‍යශීලී බවක් ලබා දෙයි.
ප්‍රායෝගික නිෂ්පාදනයේදී, නැඹුරු වෝල්ටීයතාවය, නැඹුරු ධාරාව, ස්පන්දන සංඛ්‍යාතය, රාජකාරි චක්‍රය, ක්‍රියාවලි පීඩනය, වායු ප්‍රවාහය සහ විසර්ජන බලය වැනි පරාමිතීන් ස්වාධීනව සකස් කිරීමට වඩා ඒකාබද්ධ ක්‍රියාවලි කවුළුවක් ලෙස ප්‍රශස්ත කළ යුතුය.
5. සංකීර්ණ ත්‍රිමාණ සංරචක සඳහා බහු-මූලාශ්‍ර වින්‍යාසය
සංරචක ජ්‍යාමිතිය විශේෂයෙන් සංකීර්ණ වූ විට, තනි තැන්පත් කිරීමේ ප්‍රභවයක් ප්‍රමාණවත් ආවරණයක් ලබා නොදෙනු ඇත. එවැනි අවස්ථාවන්හිදී, උපකරණ විවිධ දිශානතිවල ස්ථානගත කර ඇති බහු ඉසින ඉලක්ක, චාප කැතෝඩ හෝ වාෂ්පීකරණ ප්‍රභවයන් සමඟ නිර්මාණය කළ හැකිය.
බහු-මූලාශ්‍ර වින්‍යාසයේ අරමුණ හුදෙක් තැන්පත් වීමේ අනුපාතය වැඩි කිරීම පමණක් නොවේ. වඩාත් වැදගත් දෙය නම්, එය ආලේපන විශේෂයන්ට විවිධ දිශාවන්ගෙන් වැඩ කොටසට ඇතුළු වීමට ඉඩ සලසන අතර, ජ්‍යාමිතික සෙවනැලි වල බලපෑම අඩු කිරීමයි.
ග්‍රහලෝක භ්‍රමණය සමඟ ඒකාබද්ධව, බහු-මූලාශ්‍ර තැන්පත් කිරීම වඩාත් ඒකාකාර ත්‍රිමාණ තැන්පත් කිරීමේ පරිසරයක් ස්ථාපිත කළ හැකිය. නිදසුනක් ලෙස, විවිධ මූලාශ්‍ර විවිධ මතුපිට දිශානතීන්ට පැවරිය හැකි අතර, වැඩ කොටස අඛණ්ඩව භ්‍රමණය වන අතර කුටීර අක්ෂය වටා භ්‍රමණය වේ. මෙම ප්‍රවේශය විශේෂයෙන් ගැඹුරු කට්ට, පියවර ව්‍යුහයන්, අක්‍රමවත් සමෝච්ඡයන් සහ බහු ආලේපන මතුපිට සහිත සංරචක සඳහා සුදුසු වේ.
ඉහළ අගයක් සහිත නිරවද්‍යතා සංරචක සඳහා, ප්‍රභව වින්‍යාසය තීරණය කළ යුත්තේ ජ්‍යාමිතික අනුකරණය සහ ක්‍රියාවලි සත්‍යාපනය හරහා මිස, ප්‍රායෝගික ස්ථානගත කිරීම මත පමණක් රඳා නොසිටය.
6. පූර්ව ප්‍රතිකාර සහ මතුපිට සක්‍රිය කිරීම නොසලකා හැරිය නොහැක.
ප්‍රශස්ත තැන්පත් කිරීමේ ජ්‍යාමිතිය සමඟ වුවද, උපස්ථර මතුපිට ප්‍රමාණවත් ලෙස සකස් කර නොමැති නම්, ආලේපනයේ ගුණාත්මකභාවය තවමත් අවදානමට ලක් විය හැකිය.
ඉහළ දර්ශන අනුපාත ව්‍යුහයන්හි බොහෝ විට යන්ත්‍රෝපකරණ අපද්‍රව්‍ය, කැපුම් තරල, ඔක්සයිඩ සහ ගැඹුරු කුහරවලින් ඉවත් කිරීමට අපහසු දූෂක අඩංගු වේ. මෙම දූෂක දුර්වල ඇලවීම, සිදුරු, වායු පිටවීම සහ දේශීයකරණය වූ ආලේපන දෝෂ සඳහා ප්‍රධාන මූලාශ්‍රයක් බවට පත්විය හැකිය.
එබැවින් තැන්පත් වීමට පෙර රික්ත ප්ලාස්මා පිරිසිදු කිරීමේ ක්‍රියාවලියක් උපකරණ වින්‍යාසයට ඒකාබද්ධ කළ හැකිය. උපස්ථරය සහ ආලේපන පද්ධතිය මත පදනම්ව, මතුපිට දූෂණය ඉවත් කිරීමට සහ මතුපිට ක්‍රියාකාරිත්වය වැඩි කිරීමට Ar ප්ලාස්මා පිරිසිදු කිරීම, අයන කැටයම් කිරීම හෝ වෙනත් ප්ලාස්මා සහාය සහිත මතුපිට සක්‍රීය කිරීමේ ක්‍රියාවලීන් යෙදිය හැකිය.
තීරණාත්මක යෙදුම් සඳහා, ක්‍රියාවලීන් අතර නැවත එකතු කිරීම අවම කිරීම සඳහා පිරිසිදු කිරීමේ සහ තැන්පත් කිරීමේ කුටි බහු-කුටි පද්ධතියක් ලෙස වෙන් කළ හැකිය හෝ වින්‍යාසගත කළ හැකිය. අතුරුමුහුණත් පිරිසිදුකම ඇලවීම සහ දිගුකාලීන විශ්වසනීයත්වයට සෘජුවම බලපාන ඉහළ කාර්යසාධනයක් සහිත ආලේපන සඳහා මෙය විශේෂයෙන් වටිනා වේ.
7. රික්තක පද්ධති නිර්මාණය ක්‍රියාවලි ස්ථායිතාව තීරණය කරයි
ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත ආලේපන යෙදීම් ද රික්ත පද්ධතියට ඉහළ ඉල්ලුමක් ඇති කරයි. ප්‍රතිනිෂ්පාදනය කළ හැකි ප්ලාස්මා පරිසරයක් පවත්වා ගැනීම සඳහා ස්ථාවර පාදක පීඩනය, ප්‍රමාණවත් පොම්ප කිරීමේ වේගය සහ ඵලදායී වායු ප්‍රවාහ පාලනය අත්‍යවශ්‍ය වේ.
උසස් තත්ත්වයේ රික්ත පද්ධතියක් ක්‍රියාවලි ආරම්භ කිරීමට පෙර ප්‍රමාණවත් තරම් අඩු පාදක පීඩනයක් ලබා ගත යුතු අතර, අවශේෂ ජල වාෂ්ප, ඔක්සිජන්, හයිඩ්‍රොකාබන සහ අනෙකුත් දූෂක අවම කළ යුතුය. තැන්පත් වීමේදී, වායු ප්‍රවාහයේ සහ ප්ලාස්මා භාරයේ වෙනස්කම් තිබියදීත්, වායු ආදාන පද්ධතිය සහ පොම්ප පද්ධතිය ස්ථාවර ක්‍රියාකාරී පීඩනයක් පවත්වා ගත යුතුය.
නිෂ්පාදන උපකරණ සඳහා, කුටිය වායු සන්නායකතාවයට බලපෑම් කළ හැකි හෝ දූෂණය වීමේ ප්‍රභවයන් බවට පත්විය හැකි අනවශ්‍ය අභ්‍යන්තර ව්‍යුහයන් අවම කළ යුතුය. නිසි කුටීර සැලසුම, පොම්ප කිරීමේ වින්‍යාසය, රික්ත මිනුම් සහ මුද්‍රා තැබීමේ තාක්ෂණය එක්ව ආලේපන ක්‍රියාවලියේ දිගුකාලීන ස්ථායිතාව තීරණය කරයි.
8. උපකරණ තෝරා ගැනීම ක්‍රියාවලි ගැලපීම මත පදනම් විය යුතුය.
ඉහළ දර්ශන අනුපාත සංරචක සඳහා, විශ්වීය වශයෙන් ප්‍රශස්ත රික්ත ආලේපන යන්ත්‍රයක් නොමැත. උපකරණ වින්‍යාසය උපස්ථර ද්‍රව්‍ය, සංරචක මානයන්, දර්ශන අනුපාතය, ආලේපන ද්‍රව්‍ය, අවශ්‍ය පටල ඝණකම, ආලේපන ක්‍රියාකාරිත්වය, නිෂ්පාදන ධාරිතාව සහ අවසර ලත් උෂ්ණත්වය අනුව තීරණය කළ යුතුය.
අලංකාර යෙදුම් සඳහා, වර්ණ අනුකූලතාව, මතුපිට පෙනුම සහ ත්‍රිමාණ ආවරණය කෙරෙහි අවධාරණය කළ හැකිය. DLC, ඇඳුම්-ප්‍රතිරෝධී ආලේපන, සන්නායක පටල, විසරණ බාධක හෝ දෘශ්‍ය පටල වැනි ක්‍රියාකාරී ආලේපන සඳහා, පටල ඝනත්වය, ඇලවුම් ශක්තිය, දෘඪතාව, විද්‍යුත් ගුණාංග, දෘශ්‍ය ක්‍රියාකාරිත්වය සහ ඝනකම ඒකාකාරිත්වය කෙරෙහි වැඩි අවධානයක් යොමු කළ යුතුය.
එබැවින්, උපකරණ අනුවර්තනය වීමේ ක්‍රියාවලිය සාමාන්‍යයෙන් වැඩ කොටසෙහි තාක්ෂණික ඇගයීමකින් ආරම්භ විය යුතු අතර, පසුව සවිකිරීම් නිර්මාණය, තැන්පත් කිරීමේ-ප්‍රභව වින්‍යාසය, ප්ලාස්මා-ක්‍රියාවලි තේරීම සහ නියැදි ආලේපන සත්‍යාපනය සිදු කළ යුතුය. ආලේපන ප්‍රතිඵල අවශ්‍ය කාර්ය සාධන දර්ශක සපුරාලීමෙන් පසුව පමණක් අවසාන නිෂ්පාදන උපකරණ වින්‍යාසය තීරණය කළ යුතුය.
9. “ආලේප කළ හැකි” සිට “ඒකාකාරව ආලේපිත” දක්වා
සාම්ප්‍රදායික අතර ඇති විශාලතම වෙනසසංරචක සහ ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත ව්‍යුහයන්ගේ ප්‍රධාන වාසිය නම්, පටලයක් තැන්පත් කිරීමට හැකිවීම සුදුසුකම් ලත් ආලේපන ආවරණයක් ලබා ගැනීමට සමාන නොවන බවයි.
සරල ජ්‍යාමිතීන් සඳහා, සාම්ප්‍රදායික PVD උපකරණ දැනටමත් සතුටුදායක ප්‍රතිඵල ලබා දිය හැකිය. කෙසේ වෙතත්, ගැඹුරු කුහර, පටු කට්ට, අන්ධ සිදුරු සහ සංකීර්ණ ත්‍රිමාණ ව්‍යුහයන් සඳහා, උපකරණ අනුවර්තනය රික්ත උත්පාදනය සහ ප්ලාස්මා උද්දීපනයේ සිට මූලාශ්‍ර සැකැස්ම, උපස්ථර චලිතය, පක්ෂග්‍රාහී පාලනය, සවිකිරීම් නිර්මාණය සහ ක්‍රියාවලි ප්‍රශස්තිකරණය දක්වා සමස්ත තැන්පත් කිරීමේ පද්ධතියටම ආමන්ත්‍රණය කළ යුතුය.
අරමුණ වන්නේ ආලේපන විශේෂය සංරචකයට ළඟා වීමට සැලැස්වීම පමණක් නොව, ප්‍රමාණවත් පියවර ආවරණයක්, ඒකාකාර පටල ඝණකම, ස්ථාවර ඇලීම සහ ස්ථාවර කණ්ඩායමෙන් කණ්ඩායමට කාර්ය සාධනය සපයන පාලනය කළ හැකි සහ නැවත නැවත කළ හැකි තැන්පත් කිරීමේ පරිසරයක් ස්ථාපිත කිරීමයි.
මේ හේතුව නිසා, ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත ආලේපනය, හුදෙක් විශාල රික්ත කුටියක් තෝරා ගැනීම හෝ තැන්පත් කිරීමේ බලය වැඩි කිරීම පිළිබඳ කාරණයක් ලෙස නොව, පද්ධති මට්ටමේ උපකරණ සහ ක්‍රියාවලි ඉංජිනේරු ගැටලුවක් ලෙස ප්‍රවේශ විය යුතුය.
10. ෂෙන්හුවා රික්තය: යෙදුම් අවශ්‍යතා මත පදනම් වූ උපකරණ අනුවර්තනය
ඉහළ-දර්ශන-අනුපාත සංරචක සඳහා, Zhenhua Vacuum හට වැඩ කොටසෙහි සැබෑ ජ්‍යාමිතිය සහ ආලේපන අවශ්‍යතා අනුව උපකරණ වින්‍යාසය සංවර්ධනය කළ හැකිය. රික්ත කුටීර ව්‍යුහය, තැන්පත් කිරීමේ ප්‍රභවයන්, ග්‍රහලෝක උපස්ථර සවිකිරීම්, උපස්ථර නැඹුරු පද්ධතිය, ප්ලාස්මා පිරිසිදු කිරීම, වායු-ප්‍රවාහ පාලනය සහ ස්වයංක්‍රීය ක්‍රියාවලි පාලනය සම්බන්ධීකරණය කරන ලද සැලසුම හරහා, ආලේපන පද්ධතිය සංකීර්ණ ත්‍රිමාණ සංරචක සහ ඉල්ලුමක් ඇති ක්‍රියාකාරී ආලේපන යෙදුම් වලට අනුවර්තනය කළ හැකිය.
අවසාන උපකරණ විසඳුම සත්‍ය සාම්පල සහ ක්‍රියාවලි දත්ත හරහා වලංගු කළ යුතු අතර, ඒවාට පටල-ඝනකම ව්‍යාප්තිය, පියවර ආවරණය, ඇලවීම, දෘඪතාව, මතුපිට රූප විද්‍යාව, දෘශ්‍ය හෝ විද්‍යුත් ගුණාංග සහ නිෂ්පාදන චක්‍ර කාලය ඇතුළත් වේ. මෙම යෙදුම්-නැඹුරු ප්‍රවේශය මඟින් ආලේපන උපකරණ සාමාන්‍ය වින්‍යාසයකින් ස්ථාවර කාර්මික නිෂ්පාදනයට සහාය විය හැකි ක්‍රියාවලි-විශේෂිත විසඳුමක් කරා ගමන් කිරීමට ඉඩ සලසයි.
-මෙම ලිපිය ප්‍රකාශයට පත් කරන ලද්දේරික්තක ආලේපන උපකරණ නිෂ්පාදකයාෂෙන්හුවා රික්තකය
පළ කිරීමේ කාලය: අගෝස්තු-01-2026