RZW300

စမ်းသပ်ထားသော roll to roll coating စက်ပစ္စည်းသည် magnetron sputtering နှင့် cathode arc တို့ကို ပေါင်းစပ်ထားသည့် coating technology ကို လက်ခံထားပြီး၊ film compactness နှင့် high ionization rate နှစ်မျိုးလုံး၏ လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီပါသည်။စက်ပစ္စည်းသည် ဒေါင်လိုက်ဖွဲ့စည်းပုံဖြစ်ပြီး အလုပ်ခွင်အကွေ့အကောက်စနစ်အား လေဟာနယ်ခန်းတွင် ဒေါင်လိုက်တပ်ဆင်ထားသည်။Multi chamber တံခါးဒီဇိုင်း၊ ဘေးဘက်တံခါးတွင် cathode တပ်ဆင်ထားပြီး cathode ရင်းမြစ်ခြောက်ခု သို့မဟုတ် အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်များကို တပ်ဆင်နိုင်ပြီး တံခါးဖွင့်သည့်အခါ ပစ်မှတ်ကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်သည် သို့မဟုတ် အစားထိုးနိုင်သည်။စက်ပစ္စည်းများသည် အလွှာပေါင်းများစွာ ဖလင်များ ကွဲထွက်ခြင်းကို သိရှိနိုင်ရန် တစ်ကြိမ်တည်းတွင် အလွှာလိုက် မျက်နှာပြင် ကုသမှုနှင့် အလွှာပေါင်းများစွာကို ဖုံးအုပ်ပေးနိုင်သည်။အမျိုးမျိုးသောသတ္တု သို့မဟုတ် ဒြပ်ပေါင်းအပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းများအတွက် သင့်လျော်သည်။
စက်ပစ္စည်းများသည် လှပသောအသွင်အပြင်၊ ကျစ်လစ်သောဖွဲ့စည်းပုံ၊ သေးငယ်သောကြမ်းပြင်ဧရိယာ၊ မြင့်မားသောအလိုအလျောက်စနစ်၊ ရိုးရှင်းပြီး လိုက်လျောညီထွေရှိသောလည်ပတ်မှု၊ တည်ငြိမ်သောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းရလွယ်ကူသောလက္ခဏာများရှိသည်။ဓာတ်ခွဲခန်းများနှင့် ကောလိပ်များတွင် အသုံးပြုရန် အထူးသင့်လျော်ပါသည်။ဖောက်သည်များသည် ၎င်းတို့၏ မတူညီသော လိုအပ်ချက်အလိုက် ရွေးချယ်နိုင်သည်။