RZW300

စမ်းသပ် roll to roll coating ကိရိယာသည် magnetron sputtering နှင့် cathode arc ပေါင်းစပ်ထားသော coating နည်းပညာကို အသုံးပြုထားပြီး film compactness နှင့် ionization rate မြင့်မားခြင်း နှစ်မျိုးလုံး၏ လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီပါသည်။ ကိရိယာသည် ဒေါင်လိုက်ဖွဲ့စည်းပုံရှိပြီး workpiece winding စနစ်ကို vacuum chamber တွင် ဒေါင်လိုက်တပ်ဆင်ထားပါသည်။ အခန်းများစွာပါသော တံခါးဒီဇိုင်း၊ cathode ကို ဘေးတံခါးတွင် တပ်ဆင်ထားပြီး cathode sources သို့မဟုတ် ion sources ခြောက်စုံကို တပ်ဆင်နိုင်ပြီး တံခါးဖွင့်လိုက်သောအခါ target ကို ထိန်းသိမ်း သို့မဟုတ် အစားထိုးနိုင်ပါသည်။ ကိရိယာသည် workpiece မျက်နှာပြင်ကုသမှုနှင့် multi-layer coating ကို တစ်ပြိုင်နက်တည်း ပြုလုပ်နိုင်ပြီး multi-layer film deposition ကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။ သတ္တု သို့မဟုတ် compound coating ပစ္စည်းအမျိုးမျိုးအတွက် သင့်လျော်ပါသည်။
ဤပစ္စည်းကိရိယာများသည် လှပသောအသွင်အပြင်၊ ကျစ်လစ်သိပ်သည်းသောဖွဲ့စည်းပုံ၊ ကြမ်းပြင်ဧရိယာသေးငယ်ခြင်း၊ အလိုအလျောက်လုပ်ဆောင်နိုင်မှုမြင့်မားခြင်း၊ ရိုးရှင်းပြီး ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်လည်ပတ်မှု၊ တည်ငြိမ်သောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုလွယ်ကူခြင်းစသည့် ဝိသေသလက္ခဏာများရှိသည်။ ၎င်းသည် ဓာတ်ခွဲခန်းများနှင့် ကောလိပ်များတွင် အသုံးပြုရန် အထူးသင့်လျော်ပါသည်။ ဖောက်သည်များသည် ၎င်းတို့၏ ကွဲပြားသောလိုအပ်ချက်များအလိုက် ရွေးချယ်နိုင်ပါသည်။