Peralatan pelapisan roll-to-roll eksperimental ini mengadopsi teknologi pelapisan yang menggabungkan sputtering magnetron dan busur katoda, yang memenuhi persyaratan kekompakan film dan tingkat ionisasi tinggi. Peralatan ini memiliki struktur vertikal, dan sistem penggulungan benda kerja dipasang secara vertikal di dalam ruang vakum. Desain pintu multi-ruang, katoda dipasang di pintu samping, enam set sumber katoda atau sumber ion dapat dipasang, dan target dapat dipertahankan atau diganti saat pintu dibuka. Peralatan ini dapat melakukan perawatan permukaan benda kerja dan pelapisan multi-lapisan sekaligus untuk mewujudkan pengendapan film multi-lapisan. Cocok untuk berbagai bahan pelapis logam atau senyawa.
Peralatan ini memiliki karakteristik tampilan yang menarik, struktur yang ringkas, luas lantai yang kecil, tingkat otomatisasi yang tinggi, pengoperasian yang sederhana dan fleksibel, kinerja yang stabil, dan perawatan yang mudah. Peralatan ini sangat cocok untuk digunakan di laboratorium dan perguruan tinggi. Pelanggan dapat memilih sesuai dengan kebutuhan mereka yang berbeda.
| Model opsional | Ukuran peralatan (lebar) |
| RCW300 | 300 mm |