DESKRIPSI PRODUK
Peralatan pelapis roll to roll eksperimental mengadopsi teknologi pelapis yang menggabungkan sputtering magnetron dan busur katoda, yang memenuhi persyaratan kekompakan film dan laju ionisasi tinggi.Peralatannya berstruktur vertikal, dan sistem belitan benda kerja dipasang secara vertikal di ruang vakum.Desain pintu multi ruang, katoda dipasang di pintu samping, enam set sumber katoda atau sumber ion dapat dipasang, dan target dapat dipertahankan atau diganti saat pintu dibuka.Peralatan tersebut dapat melakukan perawatan permukaan benda kerja dan pelapisan multi-layer pada satu waktu untuk mewujudkan deposisi film multi-layer.Cocok untuk berbagai bahan pelapis logam atau senyawa.
Peralatan tersebut memiliki karakteristik penampilan cantik, struktur kompak, luas lantai kecil, otomatisasi tingkat tinggi, pengoperasian sederhana dan fleksibel, kinerja stabil, dan perawatan mudah.Ini sangat cocok untuk digunakan di laboratorium dan perguruan tinggi.Pelanggan dapat memilih sesuai dengan kebutuhan mereka yang berbeda.
| Model opsional | Ukuran peralatan ( lebar ) |
| RCW300 | 300mm |
PERANGKAT RELATIF
Klik Lihat
Peralatan pelapis sputtering eksperimental
Peralatan ini mengintegrasikan magnetron sputtering dan teknologi pelapisan ion, dan memberikan solusi untuk meningkatkan konsistensi warna, laju deposisi, dan stabilitas senyawa...
Peralatan pembersih plasma vakum
Peralatan pembersih plasma vakum mengadopsi struktur terintegrasi, dilengkapi dengan sistem pembersihan ion RF, kontrol otomatis penuh, pengoperasian dan pemeliharaan yang mudah.RF h...
Kontrol magnetik terintegrasi + lapisan evaporasi...
Peralatan ini mengintegrasikan teknologi magnetron sputtering dan resistance evaporation, dan memberikan solusi untuk melapisi berbagai substrat yang berbeda.Eksperimen ...
GX600 lapisan penguapan berkas elektron kecil ...
Peralatan mengadopsi struktur pintu depan vertikal dan tata letak cluster.Itu dapat dilengkapi dengan sumber penguapan untuk logam dan berbagai bahan organik, dan dapat menguapkan...