DESCRIPCIÓ DEL PRODUCTE
L'equip experimental de recobriment de rotlle a rotllo adopta la tecnologia de recobriment que combina la catòdicació de magnetrons i l'arc catòdic, que compleix els requisits tant de compacitat de la pel·lícula com d'alta taxa d'ionització.L'equip és d'estructura vertical i el sistema de bobinat de la peça s'instal·la verticalment a la cambra de buit.Disseny de la porta de múltiples cambres, el càtode s'instal·la a la porta lateral, es poden instal·lar sis conjunts de fonts de càtode o fonts d'ions i l'objectiu es pot mantenir o substituir quan s'obre la porta.L'equip pot dur a terme un tractament de superfície de la peça i un recobriment multicapa alhora per realitzar la deposició de pel·lícules multicapa.Apte per a diversos materials de recobriment metàl·lics o compostos.
L'equip té les característiques d'aspecte bonic, estructura compacta, superfície reduïda, alt grau d'automatització, funcionament senzill i flexible, rendiment estable i fàcil manteniment.És especialment adequat per al seu ús en laboratoris i universitats.Els clients poden triar segons les seves diferents necessitats.
| Models opcionals | Mida de l'equip (amplada) |
| RCW300 | 300 mm |
DISPOSITIUS RELATIUS
Feu clic a Veure
Equips experimentals de recobriment per polverització
L'equip integra la tecnologia de revestiment iònic de magnetron i la tecnologia de recobriment d'ions, i proporciona una solució per millorar la consistència del color, la taxa de deposició i l'estabilitat del compost...
Equips de neteja per plasma de buit
L'equip de neteja de plasma al buit adopta una estructura integrada, equipat amb un sistema de neteja d'ions RF, control totalment automàtic, funcionament i manteniment còmodes.El RF h...
Control magnètic integrat + capa d'evaporació...
L'equip integra tecnologia d'evaporació i evaporació de resistència amb magnetrons i proporciona una solució per recobrir una varietat de substrats diferents.L'experimentació...
Recobriment d'evaporació de feix d'electrons petit GX600 e...
L'equip adopta una estructura vertical de la porta frontal i una disposició de clúster.Es pot equipar amb fonts d'evaporació per a metalls i diversos materials orgànics, i es pot evaporar...