ລາຍລະອຽດຂອງຜະລິດຕະພັນ
ການທົດລອງອຸປະກອນການເຄືອບມ້ວນເຖິງມ້ວນຮັບຮອງເອົາເທກໂນໂລຍີການເຄືອບການສົມທົບການ sputtering magnetron ແລະ cathode arc, ເຊິ່ງຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງຮູບເງົາແລະອັດຕາການ ionization ສູງ.ອຸປະກອນແມ່ນໂຄງສ້າງແນວຕັ້ງ, ແລະລະບົບ winding workpiece ແມ່ນຕິດຕັ້ງຕາມແນວຕັ້ງຢູ່ໃນຫ້ອງສູນຍາກາດ.ການອອກແບບປະຕູຫຼາຍຫ້ອງ, cathode ໄດ້ຖືກຕິດຕັ້ງຢູ່ໃນປະຕູຂ້າງ, ຫົກຊຸດຂອງແຫຼ່ງ cathode ຫຼືແຫຼ່ງ ion ສາມາດຕິດຕັ້ງໄດ້, ແລະເປົ້າຫມາຍສາມາດຮັກສາຫຼືປ່ຽນແທນເມື່ອປະຕູເປີດ.ອຸປະກອນສາມາດປະຕິບັດການປິ່ນປົວພື້ນຜິວ workpiece ແລະການເຄືອບຫຼາຍຊັ້ນໃນເວລາດຽວເພື່ອຮັບຮູ້ການຝາກຮູບເງົາຫຼາຍຊັ້ນ.ເຫມາະສໍາລັບອຸປະກອນການເຄືອບໂລຫະຫຼືປະສົມຕ່າງໆ.
ອຸປະກອນດັ່ງກ່າວມີລັກສະນະທີ່ສວຍງາມ, ໂຄງສ້າງທີ່ຫນາແຫນ້ນ, ພື້ນທີ່ຂະຫນາດນ້ອຍ, ລະດັບອັດຕະໂນມັດສູງ, ການດໍາເນີນງານງ່າຍດາຍແລະມີຄວາມຍືດຫຍຸ່ນ, ການປະຕິບັດທີ່ຫມັ້ນຄົງແລະການບໍາລຸງຮັກສາງ່າຍ.ມັນເຫມາະສົມໂດຍສະເພາະສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນຫ້ອງທົດລອງແລະວິທະຍາໄລ.ລູກຄ້າສາມາດເລືອກໄດ້ຕາມຄວາມຕ້ອງການທີ່ແຕກຕ່າງກັນ.
| ຮູບແບບທາງເລືອກ | ຂະໜາດອຸປະກອນ (ກວ້າງ) |
| RCW300 | 300 ມມ |
ອຸປະກອນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ
ກົດເບິ່ງ
ການທົດລອງອຸປະກອນການເຄືອບ sputtering
ອຸປະກອນປະສົມປະສານ magnetron sputtering ແລະເຕັກໂນໂລຊີການເຄືອບ ion, ແລະສະຫນອງການແກ້ໄຂສໍາລັບການປັບປຸງຄວາມສອດຄ່ອງຂອງສີ, ອັດຕາການຝາກແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງ compoun ...
ອຸປະກອນທໍາຄວາມສະອາດ plasma ສູນຍາກາດ
ອຸປະກອນທໍາຄວາມສະອາດ plasma ສູນຍາກາດຮັບຮອງເອົາໂຄງສ້າງປະສົມປະສານ, ອຸປະກອນທີ່ມີລະບົບທໍາຄວາມສະອາດ RF ion, ການຄວບຄຸມອັດຕະໂນມັດຢ່າງເຕັມສ່ວນ, ການດໍາເນີນງານສະດວກແລະການບໍາລຸງຮັກສາ.RF h...
ການຄວບຄຸມແມ່ເຫຼັກປະສົມປະສານ + ເຄືອບການລະເຫີຍ ...
ອຸປະກອນດັ່ງກ່າວປະສົມປະສານການ sputtering magnetron ແລະຄວາມຕ້ານທານ evaporation ເຕັກໂນໂລຊີ, ແລະສະຫນອງການແກ້ໄຂສໍາລັບການເຄືອບຊະນິດຂອງ substrates ທີ່ແຕກຕ່າງກັນ.ການທົດລອງ...
GX600 ການເຄືອບ evaporation beam ເອເລັກໂຕຣນິກຂະຫນາດນ້ອຍ e ...
ອຸປະກອນດັ່ງກ່າວຮັບຮອງເອົາໂຄງສ້າງປະຕູທາງຫນ້າແນວຕັ້ງແລະຮູບແບບຂອງກຸ່ມ.ມັນສາມາດໄດ້ຮັບການຕິດຕັ້ງກັບແຫຼ່ງລະເຫີຍສໍາລັບໂລຫະແລະອຸປະກອນການຕ່າງໆ, ແລະສາມາດ evapor ...