HDA1112

ဤပစ္စည်းကိရိယာသည် cathode arc ion coating နည်းပညာကို အသုံးပြုထားပြီး အဆင့်မြင့် IET etching စနစ် တပ်ဆင်ထားသည်။ ကုသမှုပြီးနောက်၊ ထုတ်ကုန်သည် transition layer မပါဘဲ hard coating ကို တိုက်ရိုက်ထည့်သွင်းနိုင်သည်။ တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ ရိုးရာ arc နည်းပညာကို permanent magnet နှင့် electromagnetic coil scanning နည်းပညာသို့ အဆင့်မြှင့်တင်ထားသည်။ ဤနည်းပညာသည် ion စွမ်းအင်ကို ထိရောက်စွာ မြှင့်တင်ပေးနိုင်ပြီး၊ ionization rate နှင့် target utilization rate ကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်သည်၊ arc spot movement speed ကို အရှိန်မြှင့်ပေးနိုင်သည်၊ droplet များ ဖြစ်ပေါ်ခြင်းကို ထိရောက်စွာ ဟန့်တားပေးနိုင်သည်၊ film ၏ roughness ကို လျှော့ချပေးနိုင်သည်၊ နှင့် film ၏ friction coefficient ကို လျှော့ချပေးနိုင်သည်။ အထူးသဖြင့် aluminum target အတွက်၊ ၎င်းသည် workpiece ၏ ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းကို သိသိသာသာ မြှင့်တင်ပေးနိုင်သည်။ နောက်ဆုံးပေါ် ပေါ့ပါးသော 3D fixture တပ်ဆင်ထားသောကြောင့် uniformity နှင့် stability ပိုမိုကောင်းမွန်သည်။
စက်ပစ္စည်းကို AlTiN / AlCrN / TiCrAlN / TiAlSiN / CrN နှင့် အခြားအပူချိန်မြင့် အလွန်မာကျောသော အပေါ်ယံလွှာများဖြင့် ဖုံးအုပ်နိုင်ပြီး၊ ၎င်းတို့ကို မှို၊ ဖြတ်တောက်သည့်ကိရိယာများ၊ ဖောက်စက်များ၊ မော်တော်ကားအစိတ်အပိုင်းများ၊ ပလပ်ဂျာနှင့် အခြားထုတ်ကုန်များတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုခဲ့ကြသည်။