1. Принципот на технологијата за вакуумско-јонско обложување
Користејќи технологија на вакуумско лачно празнење во вакуумска комора, на површината на катодниот материјал се генерира лачна светлина, предизвикувајќи формирање на атоми и јони на катодниот материјал. Под дејство на електрично поле, атомските и јонските зраци ја бомбардираат површината на обработуваниот дел како анодата со голема брзина. Во исто време, реакциски гас се внесува во вакуумската комора, а на површината на обработуваниот дел се формира слој за обложување со одлични својства.
2.Карактеристики на вакуумско-јонска обвивка
(1) Добра адхезија на слојот за обложување, филмскиот слој не е лесен за паѓање.
(2) Добар обвивлив слој и подобрена површинска покриеност.
(3) Добар квалитет на слојот за обложување.
(4) Висока стапка на таложење и брзо формирање на филм.
(5) Широк спектар на соодветни материјали за подлога и филмски материјали за обложување
Голема опрема за интегрирано обложување со повеќе лачни магнетрони против отпечатоци од прсти
Машината за премачкување со магнетронско распрскување против отпечатоци од прсти користи комбинација од среднофреквентно магнетронско распрскување, повеќелачно-јонска и AF технологија, која е широко користена во индустријата за железарија, прибор за јадење, плочи од титаниумски не'рѓосувачки челик, мијалници од не'рѓосувачки челик и обработка на големи плочи од не'рѓосувачки челик. Има добра адхезија, повторување, густина и униформност на филмскиот слој, висок капацитет и висок принос на производот.
Време на објавување: 31 мај 2024 година