PVD-Beschichtung ass eng vun den Haapttechnologien fir d'Virbereedung vun Dënnschichtmaterialien
D'Filgeschicht gëtt der Produktuewerfläch eng Metalltextur a räich Faarf, verbessert d'Verschleißbeständegkeet an d'Korrosiounsbeständegkeet a verlängert d'Liewensdauer.
Sputtering a Vakuumverdampfung sinn déi zwee meescht üblech PVD-Beschichtungsmethoden.
1. Definitioun
Physikalesch Gasoflagerung ass eng Aart vu physikalesche Gasreaktiounswachstumsmethod. Den Oflagerungsprozess gëtt ënner Vakuum oder Gasentladungsbedingungen mat niddregem Drock duerchgefouert, dat heescht a Plasma mat niddreger Temperatur.
D'Materialquell vun der Beschichtung ass e fest Material. Nom "Verdampfung oder Sputteren" gëtt eng nei fest Materialbeschichtung op der Uewerfläch vum Deel generéiert, déi komplett anescht ass wéi d'Leeschtung vum Basismaterial.
2. Basisprozess vun der PVD-Beschichtung
1. Emissioun vu Partikelen aus Réistoffer (duerch Verdampfung, Sublimatioun, Sputtering an Zersetzung);
2. D'Partikelen ginn op de Substrat transportéiert (d'Partikelen kollidéieren mateneen, wat zu Ioniséierung, Rekombinatioun, Reaktioun, Energieaustausch a Bewegungsrichtungsännerung féiert);
3. D'Partikelen kondenséieren, bilden sech nukleär, wuessen a bilden e Film um Substrat.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 31. Januar 2023