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業界ニュース

  • RFスパッタリングコーティングの主な特徴

    RFスパッタリングコーティングの主な特徴

    A. 高いスパッタリング速度。例えば、SiO2をスパッタリングする場合、堆積速度は最大200nm/分、通常は10~100nm/分に達します。そして、膜形成速度は高周波電力に正比例します。B. 膜と基板間の密着性は、真空蒸着法よりも優れています。
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  • 自動車ランプフィルム製造コーティングライン

    自動車ランプフィルム生産ラインは、自動車製造業界にとって不可欠な要素です。これらの生産ラインは、自動車ランプの美観と機能性を高める上で重要な役割を果たす自動車ランプフィルムのコーティングと製造を担っています。高品質への需要が高まるにつれ、...
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  • マグネトロンスパッタリングにおける磁場の役割

    マグネトロンスパッタリングにおける磁場の役割

    マグネトロンスパッタリングは主に放電プラズマ輸送、ターゲットエッチング、薄膜堆積などのプロセスで構成されており、マグネトロンスパッタリングプロセスにおける磁場は重要な役割を果たします。マグネトロンスパッタリングシステムに直交磁場を加えると、電子は…
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  • 真空コーティング機のポンプシステムの要件

    真空コーティング機のポンプシステムの要件

    真空コーティング機のポンプシステムには、次の基本要件があります。(1) コーティング真空システムは、十分に大きなポンプ速度を備えていなければなりません。これは、基板から放出されたガスや蒸発した材料、真空チャンバー内のコンポーネントを迅速に排出するだけでなく、コーティングプロセス全体にわたって、真空コーティングに必要なすべての材料とコンポーネントを効率的に処理できる能力も備えている必要があります。
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  • ジュエリーPVDコーティング機

    ジュエリーPVDコーティング装置は、物理蒸着(PVD)と呼ばれるプロセスを用いて、ジュエリーに薄くて耐久性のあるコーティングを施します。このプロセスでは、高純度の固体金属ターゲットを真空環境で蒸発させます。得られた金属蒸気は、その後、…
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  • 小型フレキシブルPVD真空コーティング機

    小型フレキシブルPVD真空コーティング装置の主な利点の一つは、その汎用性です。これらの装置は、様々なサイズや形状の基板に対応できるよう設計されており、小規模製造やカスタム製造プロセスに最適です。さらに、コンパクトなサイズと柔軟な構成により、様々な用途に対応できます。
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  • 切削工具真空コーティング機

    絶えず進化を続ける製造業において、切削工具は私たちが日々使用する製品の製造において重要な役割を果たしています。航空宇宙産業における精密切削から医療分野における複雑な設計まで、高品質な切削工具への需要は高まり続けています。この需要に応えるため、当社は…
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  • イオン衝撃によるフィルム層/基板界面への影響

    イオン衝撃によるフィルム層/基板界面への影響

    膜原子の堆積が始まると、イオン衝撃は膜/基板界面に以下の効果をもたらします。(1) 物理的混合。高エネルギーイオン注入、堆積原子のスパッタリング、表面原子の反跳注入、そしてカスケード衝突現象により、膜/基板界面は物理的混合状態となります。(2) 物理的混合。高エネルギーイオン注入、堆積原子のスパッタリング、表面原子の反跳注入、そしてカスケード衝突現象により、膜/基板界面は物理的混合状態となります。(3) 物理的混合。
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  • 真空スパッタリングコーティングの復活と発展

    真空スパッタリングコーティングの復活と発展

    スパッタリングとは、高エネルギー粒子(通常はガスの陽イオン)が固体(以下、ターゲット物質)の表面に衝突し、ターゲット物質表面の原子(または分子)がそこから飛び出す現象です。この現象は1842年にグローブによって発見されました。
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  • マグネトロンスパッタリングコーティングの特性 第2章

    マグネトロンスパッタリングコーティングの特性 第2章

    マグネトロンスパッタリングコーティングの特徴(3)低エネルギースパッタリング。ターゲットに印加されるカソード電圧が低いため、プラズマはカソード近傍の空間の磁場によって束縛され、基板側面への高エネルギー荷電粒子の飛翔が抑制されます。…
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  • マグネトロンスパッタリングコーティングの特性 第1章

    マグネトロンスパッタリングコーティングの特性 第1章

    他のコーティング技術と比較して、マグネトロンスパッタリングコーティングには、作業パラメータのコーティング堆積速度と厚さ(コーティングされた領域の状態)の動的調整範囲が広く、簡単に制御でき、設計上の制約がないという特徴があります。
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  • イオンビーム支援蒸着技術

    イオンビーム支援蒸着技術

    イオンビームアシスト蒸着技術は、イオンビーム注入・蒸着コーティング技術とイオン表面複合加工技術を組み合わせた技術です。半導体材料やエンジニアリング材料など、イオン注入された材料の表面改質プロセスにおいて、この技術は重要な役割を果たします。
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  • 実験用真空コーティング機

    近年、真空コーティング技術の分野では大きな進歩と飛躍が遂げられています。これは、実験と研究へのたゆまぬ努力によってのみ可能となりました。この分野で使用されている多くの機械の中でも、実験用真空コーティング装置は、優れた性能を達成するための重要なツールです。
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  • CVD技術の動作原理

    CVD技術の動作原理

    CVD技術は化学反応に基づいています。反応物が気体状態にあり、生成物の1つが固体状態にある反応は、通常CVD反応と呼ばれます。そのため、その化学反応系は以下の3つの条件を満たす必要があります。(1) 堆積温度において…
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  • 眼鏡レンズ光学真空コーティング機

    めまぐるしく変化する現代社会において、メガネは私たちの生活に欠かせない存在となっています。一見シンプルなアクセサリーであるメガネは、必需品からファッションアイテムへと進化を遂げてきました。しかし、完璧なメガネレンズを作るために、どれほどの複雑な工程が踏まれているかを知らない人は少なくありません。これが、メガネのレンズ選びの秘訣です。
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