PVD-pinnoitus on yksi tärkeimmistä ohutkalvomateriaalien valmistustekniikoista.
Kalvokerros antaa tuotteen pinnalle metallisen tekstuurin ja rikkaan värin, parantaa kulutuskestävyyttä ja korroosionkestävyyttä sekä pidentää käyttöikää.
Sputterointi ja tyhjiöhöyrystys ovat kaksi yleisintä PVD-pinnoitusmenetelmää.
1. Määritelmä
Fysikaalinen höyrypinnoitus on eräänlainen fysikaalisen höyryreaktion kasvatusmenetelmä. Pinnoitusprosessi suoritetaan tyhjiössä tai matalapainekaasupurkausolosuhteissa eli matalan lämpötilan plasmassa.
Pinnoitteen materiaalilähde on kiinteä materiaali. "Höyrystymisen tai sputteroinnin" jälkeen kappaleen pinnalle muodostuu uusi kiinteä materiaalipinnoite, joka on täysin erilainen kuin perusmateriaalin ominaisuudet.
2, PVD-pinnoitteen perusprosessi
1. Raaka-aineiden hiukkaspäästöt (haihtumisen, sublimaation, sputteroinnin ja hajoamisen kautta);
2. Hiukkaset kulkeutuvat substraattiin (hiukkaset törmäävät toisiinsa, mikä johtaa ionisaatioon, rekombinaatioon, reaktioon, energianvaihtoon ja liikesuunnan muutokseen);
3. Hiukkaset tiivistyvät, ydintyvät, kasvavat ja muodostavat kalvon alustalle.
Julkaisun aika: 31. tammikuuta 2023