El recubrimiento PVD es una de las principales tecnologías para preparar materiales de película delgada.
La capa de película otorga a la superficie del producto una textura metálica y un color intenso, mejora la resistencia al desgaste y a la corrosión y extiende la vida útil.
La pulverización catódica y la evaporación al vacío son los dos métodos de recubrimiento PVD más habituales.
1、 Definición
La deposición física de vapor es un método de crecimiento por reacción física de vapor. El proceso de deposición se lleva a cabo al vacío o mediante descarga de gas a baja presión, es decir, en plasma de baja temperatura.
El material del recubrimiento es sólido. Tras la evaporación o pulverización catódica, se genera sobre la superficie de la pieza un nuevo recubrimiento sólido, con un rendimiento completamente diferente al del material base.
2、 Proceso básico del recubrimiento PVD
1. Emisión de partículas de las materias primas (por evaporación, sublimación, pulverización catódica y descomposición);
2. Las partículas son transportadas al sustrato (las partículas chocan entre sí, lo que resulta en ionización, recombinación, reacción, intercambio de energía y cambio de dirección del movimiento);
3. Las partículas se condensan, se nuclean, crecen y forman una película sobre el sustrato.
Hora de publicación: 31 de enero de 2023