1.Das Prinzip der Vakuum-Ionenbeschichtungstechnologie
Mithilfe der Vakuumbogenentladungstechnologie in einer Vakuumkammer wird Lichtbogenlicht auf der Oberfläche des Kathodenmaterials erzeugt, wodurch sich Atome und Ionen auf dem Kathodenmaterial bilden. Unter Einwirkung eines elektrischen Felds bombardieren die Atom- und Ionenstrahlen mit hoher Geschwindigkeit die Oberfläche des Werkstücks als Anode. Gleichzeitig wird ein Reaktionsgas in die Vakuumkammer eingeleitet, wodurch sich auf der Oberfläche des Werkstücks eine Beschichtung mit hervorragenden Eigenschaften bildet.
2. Eigenschaften der Vakuum-Ionenbeschichtung
(1) Gute Haftung der Beschichtungsschicht, die Filmschicht fällt nicht leicht ab.
(2) Gute Rundumbeschichtung und verbesserte Oberflächenabdeckung.
(3) Gute Qualität der Beschichtungsschicht.
(4) Hohe Abscheidungsrate und schnelle Filmbildung.
(5) Große Auswahl an geeigneten Substratmaterialien und Filmmaterialien für die Beschichtung
Großflächige integrierte Anti-Fingerabdruck-Beschichtungsanlage mit Mehrfachlichtbogen-Magnetron
Die Anti-Fingerprint-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage kombiniert Mittelfrequenz-Magnetron-Sputtern, Mehrbogen-Ionen- und AF-Technologie und wird häufig in der Eisenwarenindustrie, bei der Verarbeitung von Geschirr, Titan-Edelstahlplatten, Edelstahlspülen und großen Edelstahlplatten eingesetzt. Sie zeichnet sich durch gute Haftung, Wiederholbarkeit, Dichte und Gleichmäßigkeit der Filmschicht sowie hohe Leistung und Produktausbeute aus.
Veröffentlichungszeit: 31. Mai 2024