Photovoltaikzellen wurden in der frühen Photonentechnologie hauptsächlich in der Raumfahrt, beim Militär und in anderen Bereichen eingesetzt. In den letzten 20 Jahren sind die Kosten für Photovoltaikzellen drastisch gesunken, was den Vormarsch der Photovoltaik in den Weltraum und ein breites Spektrum globaler Anwendungen ermöglicht hat. Ende 2019 lag die weltweit installierte Gesamtleistung von Solar-PV bei 616 GW und wird bis 2050 voraussichtlich 50 % der weltweiten Stromerzeugungskapazität ausmachen. Da die Lichtabsorption bei Photovoltaik-Halbleitermaterialien hauptsächlich in Dickenbereichen von wenigen bis hundert Mikrometern erfolgt und die Leistung der Halbleitermaterialoberfläche der Zelle sehr wichtig ist, findet die Vakuum-Dünnschichttechnologie ein breites Anwendungsspektrum bei der Erzeugung von Solarstrom.
Industrielle Photovoltaikzellen lassen sich in zwei Hauptkategorien unterteilen: kristalline Silizium-Solarzellen und Dünnschicht-Solarzellen. Zu den modernsten Technologien für kristalline Siliziumzellen zählen die PERC-Technologie (Passivated Emitter and Backside Cell), die HJT-Technologie (Heterojunction), die PERT-Technologie (Passivated Emitter Backside Full Diffusion) und die Topcon-Technologie (Tunneled Oxide Passivated Contact). Dünnschichten in kristallinen Siliziumzellen dienen vor allem der Passivierung, Reflexionsminderung, P/N-Dotierung und Leitfähigkeit. Zu den gängigen Dünnschicht-Batterietechnologien zählen Cadmiumtellurid, Kupfer-Indium-Gallium-Diselenid und Chalkogenid. Dünnschichten werden darin hauptsächlich als lichtabsorbierende oder leitfähige Schichten eingesetzt. Die Herstellung von Dünnschichten in Photovoltaikzellen erfolgt häufig mittels verschiedener Vakuumbeschichtungsverfahren.
–Dieser Artikel wurde veröffentlicht vonHersteller von VakuumbeschichtungsanlagenGuangdong Zhenhua
Veröffentlichungszeit: 12. September 2023