PVD-bedekking is een van die belangrikste tegnologieë vir die voorbereiding van dunfilmmateriale
Die filmlaag gee die produkoppervlak 'n metaaltekstuur en ryk kleur, verbeter slytasie- en korrosieweerstand en verleng die lewensduur.
Sputtering en vakuumverdamping is die twee mees algemene PVD-bedekkingsmetodes.
1. Definisie
Fisiese dampafsetting is 'n soort fisiese dampreaksiegroeimetode. Die afsettingsproses word uitgevoer onder vakuum- of laedrukgasontladingstoestande, dit wil sê in laetemperatuurplasma.
Die bron van die deklaag is 'n vaste materiaal. Na "verdamping of verstuiwing" word 'n nuwe vaste materiaallaag op die oppervlak van die onderdeel gegenereer wat heeltemal anders is as die basismateriaal se werkverrigting.
2. Basiese proses van PVD-laag
1. Emissie van deeltjies uit grondstowwe (deur verdamping, sublimasie, verstuiwing en ontbinding);
2. Die deeltjies word na die substraat vervoer (deeltjies bots met mekaar, wat lei tot ionisasie, rekombinasie, reaksie, energie-uitruiling en verandering van bewegingsrigting);
3. Die deeltjies kondenseer, nukleeer, groei en vorm 'n film op die substraat.
Plasingstyd: 31 Januarie 2023