В состоянии вакуума поместите заготовку на катод тлеющего разряда низкого давления и впрысните соответствующий газ. При определенной температуре на поверхности заготовки образуется покрытие с помощью процесса ионизационной полимеризации, сочетающего химическую реакцию и плазму, при этом газообразные вещества абсорбируются на поверхности заготовки и реагируют друг с другом, и в конечном итоге образуется твердая пленка, которая осаждается на поверхности заготовки.
Характеристика:
1. Формирование пленки при низкой температуре, температура не оказывает существенного влияния на заготовку, что позволяет избежать грубой зернистости, характерной для формирования пленки при высокой температуре, а слой пленки не так легко отслаивается.
2. Может быть покрыто толстой пленкой, которая имеет однородный состав, хороший барьерный эффект, компактность, малое внутреннее напряжение и не склонна к образованию микротрещин.
3. Плазменная обработка оказывает очищающее действие, что повышает адгезию пленки.
Оборудование в основном используется для нанесения высокопрочного барьера SiOx на ПЭТ, ПА, ПП и другие пленочные материалы. Оно широко используется в упаковке медицинских/фармацевтических продуктов, электронных компонентов и пищевых продуктов, а также в упаковочных контейнерах для напитков, жирных продуктов и пищевых масел. Пленка обладает превосходными барьерными свойствами, адаптивностью к окружающей среде, высокой проницаемостью для микроволн и прозрачностью, и практически не подвержена влиянию влажности и перепадов температуры окружающей среды. Оно решает проблему, связанную с тем, что традиционные упаковочные материалы могут оказывать воздействие на здоровье.
| Дополнительные модели | Размер оборудования (ширина) |
| RBW1250 | 1250(мм) |