1. De Prinzip vun der Vakuum-Ionenbeschichtungstechnologie
Mat Hëllef vun der Vakuum-Boguntladungstechnologie an enger Vakuumkammer gëtt Bougeliicht op der Uewerfläch vum Kathodmaterial generéiert, wouduerch Atomer an Ionen um Kathodmaterial geformt ginn. Ënnert der Wierkung vum elektresche Feld bombardéieren d'Atom- an d'Ionenstralen d'Uewerfläch vum Werkstéck als Anod mat héijer Geschwindegkeet. Gläichzäiteg gëtt e Reaktiounsgas an d'Vakuumkammer agefouert, an eng Beschichtungsschicht mat exzellenten Eegeschafte gëtt op der Uewerfläch vum Werkstéck geformt.
2. Charakteristike vun der Vakuum-Ionenbeschichtung
(1) Gudde Haftung vun der Beschichtungsschicht, d'Filmeschicht fällt net einfach of.
(2) Gudde Wrap-around-Beschichtung a verbessert Uewerflächenofdeckung.
(3) Gudde Qualitéit vun der Beschichtungsschicht.
(4) Héich Oflagerungsquote a séier Filmbildung.
(5) Grouss Auswiel u passenden Substratmaterialien a Filmmaterialien fir d'Beschichtung
Groussskaleg Multi-Arc Magnetron Anti-Fangerofdrock integréiert Beschichtungsausrüstung
D'Maschinn fir d'Sputterung géint Fangerofdréck vum Magnetron benotzt eng Kombinatioun vu Magnetron-Sputterung mat mëttlerer Frequenz, Multi-Arc-Ionen- an AF-Technologie, déi wäit verbreet an der Hardwareindustrie, Geschirrhardware, Titan-Edelstahlplacken, Edelstahlspullen a grousser Edelstahlplackeveraarbechtung benotzt gëtt. Si huet eng gutt Haftung, Widderhuelbarkeet, Dicht an Uniformitéit vun der Filmschicht, eng héich Leeschtung an en héije Produktausbezuch.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 31. Mee 2024