Sugeng rawuh ing Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Kabar
-
Teknologi Coating Optik: Meningkat Efek Visual
Ing donya cepet-dileksanakke saiki, ngendi isi visual wis akèh pengaruh, teknologi lapisan optik muter peran penting kanggo nambah kualitas saka macem-macem tampilan. Saka smartphone nganti layar TV, lapisan optik wis ngowahi cara kita ndeleng lan ngalami konten visual. ...Waca liyane -
Nambahake Magnetron Sputtering Coating karo Arc Discharge Power Supply
lapisan sputtering Magnetron digawa metu ing discharge cemlorot, karo Kapadhetan saiki discharge kurang lan Kapadhetan plasma kurang ing kamar nutupi. Iki ndadekake teknologi sputtering magnetron duwe kekurangan kayata gaya ikatan substrat film sing kurang, tingkat ionisasi logam sing kurang, lan ra ...Waca liyane -
Panggunaan RF discharge
1.Beneficial kanggo sputtering lan plating film jampel. Owah-owahan kanthi cepet ing polaritas elektroda bisa digunakake kanggo langsung sputter target insulating kanggo njupuk film insulating. Yen sumber daya DC digunakake kanggo sputter lan nyimpen film insulasi, film insulasi bakal mblokir ion positif saka ent ...Waca liyane -
Karakteristik teknis lapisan penguapan vakum
1. Proses lapisan penguapan vakum kalebu penguapan bahan film, transportasi atom uap ing vakum dhuwur, lan proses nukleasi lan pertumbuhan atom uap ing permukaan benda kerja. 2. Deposition jurusan vakum saka nutupi penguapan vakum dhuwur, gener ...Waca liyane -
Jinis lapisan hard
TiN minangka lapisan hard paling wiwitan sing digunakake ing alat pemotong, kanthi kaluwihan kayata kekuatan dhuwur, kekerasan dhuwur, lan tahan nyandhang. Iki minangka bahan lapisan industri sing pertama lan akeh digunakake, digunakake ing alat sing dilapisi lan cetakan sing dilapisi. TiN hard coating wiwitane disimpen ing 1000 ℃ ...Waca liyane -
Karakteristik Modifikasi Lumahing Plasma
Plasma energi dhuwur bisa ngebom lan nyirnakake bahan polimer, ngrusak rantai molekul, mbentuk klompok aktif, nambah energi permukaan, lan ngasilake etsa. Perawatan lumahing plasma ora mengaruhi struktur internal lan kinerja materi akeh, nanging mung c...Waca liyane -
Proses Pelapisan Ion Sumber Arc Cilik
Proses lapisan ion sumber busur cathodic ing dasare padha karo teknologi lapisan liyane, lan sawetara operasi kayata nginstal workpieces lan vacuuming ora diulang maneh. 1. Bombardment reresik saka workpieces Sadurunge nutupi, gas argon ngenalaken menyang kamar nutupi karo ...Waca liyane -
Karakteristik lan Metode Generasi Aliran Elektron Busur
1.Karakteristik aliran elektron cahya busur Kapadhetan aliran elektron, aliran ion, lan atom netral energi dhuwur ing plasma busur sing diasilake dening discharge busur luwih dhuwur tinimbang discharge cemlorot. Ana luwih akeh ion gas lan ion logam sing diionisasi, atom energi dhuwur sing bungah, lan macem-macem bahan aktif ...Waca liyane -
Bidang Aplikasi Modifikasi Lumahing Plasma
1) Modifikasi lumahing plasma utamane nuduhake modifikasi tartamtu saka kertas, film organik, tekstil, lan serat kimia. Panggunaan plasma kanggo modifikasi tekstil ora mbutuhake panggunaan aktivator, lan proses perawatan ora ngrusak karakteristik serat kasebut. ...Waca liyane -
Aplikasi lapisan ion ing bidang film tipis optik
Aplikasi film tipis optik iki jembar banget, wiwit saka kaca tingal, lensa kamera, kamera ponsel, layar LCD kanggo ponsel, komputer, lan televisi, lampu LED, piranti biometrik, nganti jendhela hemat energi ing mobil lan bangunan, uga piranti medis, ...Waca liyane -
Film tampilan informasi lan teknologi lapisan ion
1. Jinis film ing tampilan informasi Saliyane film tipis TFT-LCD lan OLED, tampilan informasi uga kalebu film elektroda kabel lan film elektroda piksel transparan ing panel tampilan. Proses lapisan minangka proses inti saka tampilan TFT-LCD lan OLED. Kanthi prog terus ...Waca liyane -
Hukum pertumbuhan lapisan film lapisan penguapan vakum
Sajrone lapisan penguapan, nukleasi lan pertumbuhan lapisan film minangka basis saka macem-macem teknologi lapisan ion.Waca liyane -
Fitur umum teknologi lapisan ion glow discharge sing ditingkatake
1. Bias workpiece kurang Amarga tambahan piranti kanggo nambah tingkat ionisasi, Kapadhetan saiki discharge tambah, lan voltase bias suda kanggo 0,5 ~ 1kV. Backsputtering disebabake bombardment gedhe banget saka ion energi dhuwur lan efek karusakan ing surfing workpiece ...Waca liyane -
Kaluwihan saka target Cylindrical
1) Target silinder nduweni tingkat pemanfaatan sing luwih dhuwur tinimbang target planar. Ing proses lapisan, apa iku jinis Magnetik Rotary utawa tabung Rotary jinis target sputtering silinder, kabeh bagean saka lumahing tabung target terus-terusan liwat area sputtering kui ing ngarepe ...Waca liyane -
Proses polimerisasi langsung plasma
Proses polimerisasi langsung Plasma Proses polimerisasi Plasma relatif prasaja kanggo peralatan polimerisasi elektroda internal lan peralatan polimerisasi elektroda eksternal, nanging pilihan parameter luwih penting ing polimerisasi Plasma, amarga paramèter duweni ...Waca liyane
