1. Princip tehnologije vakuumskog ionskog premazivanja
Korištenjem tehnologije vakuumskog lučnog pražnjenja u vakuumskoj komori, lučna svjetlost se generira na površini katodnog materijala, uzrokujući stvaranje atoma i iona na katodnom materijalu. Pod djelovanjem električnog polja, atomski i ionski snopovi bombardiraju površinu obratka kao anodu velikom brzinom. Istovremeno, reakcijski plin se uvodi u vakuumsku komoru, a na površini obratka se formira sloj premaza s izvrsnim svojstvima.
2. Karakteristike vakuumskog ionskog premaza
(1) Dobro prianjanje sloja premaza, sloj filma se ne skida lako.
(2) Dobar premaz koji obavija i poboljšana pokrivenost površine.
(3) Dobra kvaliteta sloja premaza.
(4) Visoka brzina taloženja i brzo stvaranje filma.
(5) Širok raspon prikladnih materijala za podlogu i filmskih materijala za premazivanje
Oprema za integrirani premaz velikih razmjera s višestrukim lučnim magnetronom protiv otisaka prstiju
Stroj za magnetronsko raspršivanje protiv otisaka prstiju koristi kombinaciju magnetronskog raspršivanja srednje frekvencije, višelučnog iona i AF tehnologije, koja se široko koristi u industriji hardvera, pribora za jelo, ploča od titana i nehrđajućeg čelika, sudopera od nehrđajućeg čelika i obrade velikih ploča od nehrđajućeg čelika. Ima dobro prianjanje, ponovljivost, gustoću i ujednačenost sloja filma, visoku učinkovitost i visok prinos proizvoda.
Vrijeme objave: 31. svibnja 2024.