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Noticias de la industria
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Máquina de recubrimiento al vacío de nanocerámica
La máquina de recubrimiento al vacío de nanocerámica es una tecnología de vanguardia que utiliza un proceso de deposición al vacío para recubrir capas delgadas de materiales cerámicos sobre diversos sustratos. Este avanzado método de recubrimiento ofrece numerosas ventajas, como mayor dureza, mejor estabilidad térmica y una resistencia superior...Leer más -
Varios materiales objetivo comunes
1. Objetivo de cromo. El cromo, como material para películas de pulverización catódica, no solo se combina fácilmente con el sustrato con alta adhesión, sino que también se combina con cromo y óxido para generar películas de CrO₃. Sus propiedades mecánicas, resistencia a los ácidos y estabilidad térmica son mejores. Además, el cromo, en la oxidación incompleta...Leer más -
Tecnología de deposición asistida por haz de iones
La tecnología de deposición asistida por haz de iones se caracteriza por una fuerte adhesión entre la membrana y el sustrato, y la capa de membrana es muy resistente. Los experimentos demuestran que la adhesión de la deposición asistida por haz de iones es mucho mayor que la de la deposición térmica de vapor, hasta cientos de veces mayor.Leer más -
Características y aplicaciones del recubrimiento por pulverización catódica reactiva
En el proceso de recubrimiento por pulverización catódica, los compuestos pueden utilizarse como dianas para la preparación de películas sintetizadas químicamente. Sin embargo, la composición de la película generada tras la pulverización catódica del material diana suele diferir considerablemente de la composición original del material diana, por lo que...Leer más -
Características del coeficiente de temperatura de la resistencia de película metálica
El coeficiente de resistencia térmica de la película metálica varía con el espesor de la película: las películas delgadas son negativas, las gruesas son positivas y las más gruesas son similares, pero no idénticas, a los materiales a granel. En general, el coeficiente de resistencia térmica varía de negativo a positivo.Leer más -
Características y aplicación del recubrimiento iónico Capítulo 2
③ Alta calidad del recubrimiento Como el bombardeo de iones puede mejorar la densidad de la membrana, mejorar la estructura organizativa de la membrana, haciendo que la uniformidad de la capa de membrana sea buena, la organización del recubrimiento denso, menos poros y burbujas, mejorando así la calidad de la membrana l...Leer más -
Características y aplicaciones del recubrimiento iónico - Capítulo 1
En comparación con el recubrimiento por evaporación y el recubrimiento por pulverización catódica, la característica más importante del recubrimiento iónico es que los iones energéticos bombardean el sustrato y la película durante la deposición. Este bombardeo de iones cargados produce una serie de efectos, principalmente los siguientes: ① Membrana/base...Leer más -
Equipo especial de recubrimiento por control magnético para películas de color
El equipo especial de recubrimiento por magnetrón para películas a color utiliza la potencia del campo magnético para controlar con precisión la deposición de los materiales de recubrimiento sobre el sustrato. Esta innovadora tecnología permite una uniformidad y consistencia inigualables durante el proceso de recubrimiento, lo que resulta en una alta calidad...Leer más -
Ver la máquina de recubrimiento por pulverización catódica
La máquina de recubrimiento por pulverización catódica para relojes utiliza el proceso de deposición física de vapor (PVD) para aplicar una fina película de material de recubrimiento a las piezas del reloj. El método proporciona una excelente adhesión, una cobertura uniforme y diversas opciones de recubrimiento, incluyendo recubrimientos metálicos, cerámicos y de carbono tipo diamante. Como resultado,...Leer más -
Máquina de recubrimiento de película resistente a la oxidación
La máquina de recubrimiento con película resistente a la oxidación es una tecnología de vanguardia que proporciona una capa protectora para prevenir la oxidación y mejorar la durabilidad y longevidad de los componentes metálicos. Esta máquina aplica una fina película a la superficie de los materiales, creando una barrera contra la corrosión.Leer más -
Equipo de película protectora de lámpara integrada
La incorporación de tecnología avanzada en las luminarias modernas mejora significativamente su rendimiento y eficiencia. Sin embargo, también las hace más susceptibles a daños causados por diversos factores externos. Por lo tanto, para proteger estos valiosos activos y maximizar su vida útil,...Leer más -
Selección y clasificación de objetivos
Con el creciente desarrollo del recubrimiento por pulverización catódica, especialmente la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón, en la actualidad, para cualquier material se puede preparar una película objetivo mediante bombardeo de iones, debido a que el objetivo se pulveriza en el proceso de recubrimiento sobre algún tipo de sustrato, la calidad de la medición...Leer más -
Máquina de recubrimiento por plasma de acero inoxidable
Recientemente, la demanda de productos de acero inoxidable ha aumentado debido a su superior resistencia a la corrosión y su moderna estética. Por ello, los fabricantes buscan constantemente métodos nuevos y mejorados para recubrir el acero inoxidable y satisfacer las crecientes demandas del mercado. Es por ello que...Leer más -
Máquina de recubrimiento al vacío de grifos dorados
El lanzamiento de la máquina líder de recubrimiento al vacío de oro representa un avance importante en el campo de la tecnología de recubrimiento de superficies. Tradicionalmente, la aplicación de recubrimientos de oro es un proceso complejo y costoso que requiere equipos especializados y técnicos cualificados. Sin embargo, esta nueva máquina promete...Leer más -
Factores que afectan la formación de la película Capítulo 2
(4) Material objetivo. El material objetivo es fundamental para el recubrimiento por pulverización catódica. En general, siempre que cumpla con los requisitos, se requiere un control estricto de los parámetros del proceso para obtener la capa de película. Las impurezas en el material objetivo, los óxidos superficiales y otras sustancias impuras...Leer más
