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Noticias

  • Introducción al principio PVD

    Introducción al principio PVD

    Introducción: En el mundo de la ingeniería de superficies avanzada, la deposición física de vapor (PVD) se ha consolidado como un método clave para mejorar el rendimiento y la durabilidad de diversos materiales. ¿Te has preguntado alguna vez cómo funciona esta técnica de vanguardia? Hoy, profundizamos en la compleja mecánica de la PVD...
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  • Tecnología de recubrimiento óptico: Efectos visuales mejorados

    En el vertiginoso mundo actual, donde el contenido visual tiene una gran influencia, la tecnología de recubrimientos ópticos desempeña un papel fundamental en la mejora de la calidad de diversas pantallas. Desde teléfonos inteligentes hasta pantallas de televisión, los recubrimientos ópticos han revolucionado la forma en que percibimos y experimentamos el contenido visual.
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  • Mejora del recubrimiento por pulverización catódica magnetrónica con fuente de alimentación de descarga de arco

    Mejora del recubrimiento por pulverización catódica magnetrónica con fuente de alimentación de descarga de arco

    El recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón se realiza mediante descarga luminiscente, con baja densidad de corriente de descarga y baja densidad de plasma en la cámara de recubrimiento. Esto hace que la tecnología de pulverización catódica con magnetrón tenga desventajas como baja fuerza de unión de la película al sustrato, baja tasa de ionización del metal y baja tasa de deposición...
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  • Utilización de descargas de radiofrecuencia

    Utilización de descargas de radiofrecuencia

    1. Beneficioso para la pulverización catódica y el recubrimiento de películas aislantes. El rápido cambio de polaridad del electrodo se puede utilizar para pulverizar directamente objetivos aislantes y obtener películas aislantes. Si se utiliza una fuente de alimentación de CC para pulverizar y depositar la película aislante, esta bloqueará los iones positivos...
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  • Características técnicas del recubrimiento por evaporación al vacío

    Características técnicas del recubrimiento por evaporación al vacío

    1. El proceso de recubrimiento por evaporación al vacío incluye la evaporación de los materiales de la película, el transporte de átomos de vapor en alto vacío y el proceso de nucleación y crecimiento de átomos de vapor en la superficie de la pieza de trabajo. 2. El grado de vacío de deposición del recubrimiento por evaporación al vacío es alto, generalmente...
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  • Tipos de recubrimientos duros

    Tipos de recubrimientos duros

    El TiN es el primer recubrimiento duro utilizado en herramientas de corte, con ventajas como alta resistencia, alta dureza y resistencia al desgaste. Es el primer material de recubrimiento duro industrializado y ampliamente utilizado, presente en herramientas y moldes recubiertos. El recubrimiento duro de TiN se depositó inicialmente a 1000 ℃...
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  • Características de la modificación de superficies mediante plasma

    Características de la modificación de superficies mediante plasma

    El plasma de alta energía puede bombardear e irradiar materiales poliméricos, rompiendo sus cadenas moleculares, formando grupos activos, aumentando la energía superficial y generando grabado. El tratamiento superficial con plasma no afecta la estructura interna ni el rendimiento del material en masa, sino que solo modifica significativamente...
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  • El proceso de recubrimiento iónico con fuente de arco pequeño

    El proceso de recubrimiento iónico con fuente de arco pequeño

    El proceso de recubrimiento iónico con fuente de arco catódico es básicamente el mismo que el de otras tecnologías de recubrimiento, y algunas operaciones, como la instalación de las piezas y el aspirado, ya no se repiten. 1. Limpieza por bombardeo de las piezas: Antes del recubrimiento, se introduce gas argón en la cámara de recubrimiento con un...
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  • Características y métodos de generación del flujo de electrones de arco

    Características y métodos de generación del flujo de electrones de arco

    1. Características del flujo de electrones en la descarga de arco La densidad del flujo de electrones, el flujo de iones y los átomos neutros de alta energía en el plasma de arco generado por la descarga de arco es mucho mayor que la de la descarga luminiscente. Hay más iones de gas e iones metálicos ionizados, átomos excitados de alta energía y diversos grupos funcionales activos...
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  • Campos de aplicación de la modificación de superficies mediante plasma

    Campos de aplicación de la modificación de superficies mediante plasma

    1) La modificación superficial mediante plasma se refiere principalmente a ciertas modificaciones de papel, películas orgánicas, textiles y fibras químicas. El uso de plasma para la modificación de textiles no requiere el uso de activadores, y el proceso de tratamiento no daña las características de las fibras.
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  • Aplicación del recubrimiento iónico en el campo de las películas delgadas ópticas.

    Aplicación del recubrimiento iónico en el campo de las películas delgadas ópticas.

    La aplicación de películas delgadas ópticas es muy extensa, abarcando desde gafas, lentes de cámaras, cámaras de teléfonos móviles, pantallas LCD para teléfonos móviles, ordenadores y televisores, iluminación LED, dispositivos biométricos, hasta ventanas de ahorro energético en automóviles y edificios, así como instrumentos médicos, te...
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  • Películas para visualización de información y tecnología de recubrimiento iónico

    Películas para visualización de información y tecnología de recubrimiento iónico

    1. Tipo de película en la pantalla de información Además de las películas delgadas TFT-LCD y OLED, la pantalla de información también incluye películas de electrodos de cableado y películas de electrodos de píxeles transparentes en el panel de visualización. El proceso de recubrimiento es el proceso central de las pantallas TFT-LCD y OLED. Con el continuo progreso...
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  • Ley de crecimiento de la capa de película de recubrimiento por evaporación al vacío

    Ley de crecimiento de la capa de película de recubrimiento por evaporación al vacío

    Durante el recubrimiento por evaporación, la nucleación y el crecimiento de la capa de película son la base de diversas tecnologías de recubrimiento iónico. 1. Nucleación En la tecnología de recubrimiento por evaporación al vacío, después de que las partículas de la capa de película se evaporan de la fuente de evaporación en forma de átomos, vuelan directamente hacia el...
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  • Características comunes de la tecnología de recubrimiento iónico por descarga luminiscente mejorada

    Características comunes de la tecnología de recubrimiento iónico por descarga luminiscente mejorada

    1. La polarización de la pieza de trabajo es baja. Debido a la adición de un dispositivo para aumentar la tasa de ionización, la densidad de corriente de descarga aumenta y la tensión de polarización se reduce a 0,5~1 kV. La retropulverización causada por el bombardeo excesivo de iones de alta energía y el efecto dañino en la superficie de la pieza de trabajo...
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  • Ventajas de los objetivos cilíndricos

    Ventajas de los objetivos cilíndricos

    1) Los blancos cilíndricos tienen una tasa de utilización mayor que los blancos planos. En el proceso de recubrimiento, ya sea un blanco de pulverización cilíndrico de tipo magnético rotatorio o de tipo tubo rotatorio, todas las partes de la superficie del tubo del blanco pasan continuamente a través del área de pulverización generada frente a...
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