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Branchen-News
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Nano-Keramik-Vakuumbeschichtungsmaschine
Die Nanokeramik-Vakuumbeschichtungsanlage ist eine hochmoderne Technologie, die im Vakuumverfahren dünne Schichten keramischer Materialien auf verschiedene Substrate aufträgt. Dieses fortschrittliche Beschichtungsverfahren bietet viele Vorteile, darunter erhöhte Härte, verbesserte thermische Stabilität und überlegene...Mehr lesen -
Mehrere gängige Zielmaterialien
1. Chromtarget: Chrom als Sputterfilmmaterial lässt sich nicht nur gut mit dem Substrat verbinden und bietet eine hohe Haftung. Chrom und Oxid bilden auch CrO₃-Filme. Die mechanischen Eigenschaften, die Säurebeständigkeit und die thermische Stabilität sind besser. Chrom in der unvollständigen Oxidation...Mehr lesen -
Ionenstrahlunterstützte Abscheidungstechnologie
1. Die ionenstrahlunterstützte Abscheidungstechnologie zeichnet sich durch eine starke Haftung zwischen Membran und Substrat aus, wodurch die Membranschicht sehr stark ist. Experimente zeigen, dass die Haftung bei ionenstrahlunterstützter Abscheidung im Vergleich zur thermischen Gasphasenabscheidung um ein Vielfaches bis auf das Hundertfache zunimmt.Mehr lesen -
Eigenschaften und Anwendungen reaktiver Sputterbeschichtungen
Beim Sputterbeschichtungsverfahren können Verbindungen als Targets für die Herstellung chemisch synthetisierter Filme verwendet werden. Die Zusammensetzung des nach dem Sputtern des Targetmaterials erzeugten Films weicht jedoch häufig stark von der ursprünglichen Zusammensetzung des Targetmaterials ab und kann daher...Mehr lesen -
Temperaturkoeffizienteneigenschaften von Metallschichtwiderständen
Der Temperaturkoeffizient des Widerstands von Metallfilmen variiert mit der Filmdicke. Dünne Filme sind negativ, dicke Filme positiv und dickere Filme ähneln, sind aber nicht identisch mit Massenmaterialien. Im Allgemeinen ändert sich der Temperaturkoeffizient des Widerstands von negativ zu positiv.Mehr lesen -
Eigenschaften und Anwendung der Ionenbeschichtung Kapitel 2
3. Hohe Qualität der Beschichtung: Da Ionenbeschuss die Dichte der Membran verbessern und die Organisationsstruktur der Membran verbessern kann, ist die Membranschicht gleichmäßiger, die Beschichtung ist dichter und es treten weniger Nadellöcher und Blasen auf, wodurch die Qualität der Membran verbessert wird.Mehr lesen -
Eigenschaften und Anwendung der Ionenbeschichtung – Kapitel 1
Im Vergleich zur Aufdampf- und Sputterbeschichtung ist das wichtigste Merkmal der Ionenbeschichtung, dass die energiereichen Ionen während der Abscheidung das Substrat und die Filmschicht bombardieren. Der Beschuss geladener Ionen erzeugt eine Reihe von Effekten, hauptsächlich die folgenden. ① Membran / Basis...Mehr lesen -
Spezielle magnetisch gesteuerte Beschichtungsanlage für Farbfilme
Die spezielle Magnetron-Beschichtungsanlage für Farbfilme nutzt die Kraft eines Magnetfelds, um die Abscheidung von Beschichtungsmaterialien auf dem Filmsubstrat präzise zu steuern. Diese innovative Technologie ermöglicht eine beispiellose Gleichmäßigkeit und Konsistenz während des Beschichtungsprozesses und führt zu hoher Qualität.Mehr lesen -
Sputterbeschichtungsmaschine für Uhren
Die Uhren-Sputter-Beschichtungsanlage nutzt das PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition), um einen dünnen Film aus Beschichtungsmaterial auf Uhrenteile aufzutragen. Das Verfahren bietet hervorragende Haftung, gleichmäßige Deckung und eine Vielzahl von Beschichtungsmöglichkeiten, darunter metallische, keramische und diamantähnliche Kohlenstoffbeschichtungen. Dadurch...Mehr lesen -
Oxidationsbeständige Filmbeschichtungsmaschine
Die oxidationsbeständige Filmbeschichtungsmaschine ist eine Spitzentechnologie, die eine Schutzschicht erzeugt, die Oxidation verhindert und die Haltbarkeit und Langlebigkeit von Metallkomponenten verbessert. Diese Maschine trägt eine dünne Filmbeschichtung auf die Materialoberfläche auf und bildet so eine Barriere gegen Korrosion ...Mehr lesen -
Integrierte Lampenschutzfolienausrüstung
Der Einsatz fortschrittlicher Technologie in modernen Leuchten verbessert deren Leistung und Effizienz deutlich. Dadurch werden sie jedoch auch anfälliger für Schäden durch verschiedene äußere Einflüsse. Um diese wertvollen Anlagen zu schützen und ihre Lebensdauer zu maximieren, …Mehr lesen -
Zielauswahl und -klassifizierung
Mit der zunehmenden Entwicklung der Sputterbeschichtung, insbesondere der Magnetron-Sputterbeschichtungstechnologie, können derzeit Targetfilme für jedes Material durch Ionenbeschuss hergestellt werden. Da das Target während des Beschichtungsprozesses auf eine Art Substrat gesputtert wird, verbessert sich die Qualität der Messung.Mehr lesen -
Plasmabeschichtungsmaschine aus Edelstahl
Die Nachfrage nach Edelstahlprodukten ist aufgrund ihrer hervorragenden Korrosionsbeständigkeit und modernen Ästhetik gestiegen. Daher suchen Hersteller ständig nach neuen und verbesserten Methoden zur Edelstahlbeschichtung, um der wachsenden Marktnachfrage gerecht zu werden. Hier ist …Mehr lesen -
Wasserhahn-Gold-Vakuumbeschichtungsmaschine
Die Einführung der führenden Gold-Vakuumbeschichtungsanlage ist ein wichtiger Fortschritt in der Oberflächenbeschichtungstechnologie. Traditionell ist das Aufbringen von Goldbeschichtungen ein komplexer und teurer Prozess, der Spezialausrüstung und qualifizierte Techniker erfordert. Diese neue Maschine verspricht jedoch...Mehr lesen -
Faktoren, die die Filmbildung beeinflussen Kapitel 2
(4) Zielmaterial. Das Zielmaterial ist der Schlüssel zur Sputterbeschichtung. Es muss die Anforderungen erfüllen und erfordert eine strenge Kontrolle der Prozessparameter, um die Filmschicht zu erhalten. Verunreinigungen im Zielmaterial, Oberflächenoxide und andere unreine Substanzen können die Folge sein.Mehr lesen
