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Nachricht
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Metall-Anti-Fingerabdruck-Vakuumbeschichtung
Der Einsatz von Anti-Fingerprint-Vakuumbeschichtungsanlagen für Metall stellt einen bedeutenden Fortschritt in der Oberflächenschutztechnologie dar. Durch die Kombination von Vakuumtechnologie und Spezialbeschichtungen erzeugen diese Maschinen eine dünne, verschleißfeste Schicht auf Metalloberflächen, die vor Fingerabdrücken und anderen Verunreinigungen schützt.Mehr lesen -
Praktische Vakuumbeschichtungsmaschine
In der modernen Fertigung und industriellen Produktion steigt die Nachfrage nach praktischen Vakuumbeschichtungsanlagen. Diese hochmodernen Maschinen revolutionieren die Beschichtung verschiedenster Materialien und sorgen für verbesserte Haltbarkeit, Leistung und Ästhetik. In diesem Blogbeitrag...Mehr lesen -
Prinzip und Klassifizierung der Zielmaterialauswahl
Mit der zunehmenden Entwicklung der Sputterbeschichtungstechnologie, insbesondere der Magnetronsputtern-Beschichtungstechnologie, können derzeit für jedes Material Targetfilme durch Ionenbeschuss hergestellt werden, da das Target während des Beschichtungsprozesses auf eine Art Substrat gesputtert wird. Die Qualität von …Mehr lesen -
Hauptmerkmale der HF-Sputterbeschichtung
A. Hohe Sputterrate. Beispielsweise kann die Abscheidungsrate beim Sputtern von SiO2 bis zu 200 nm/min betragen, üblicherweise bis zu 10–100 nm/min. Die Filmbildungsrate ist direkt proportional zur Hochfrequenzleistung. B. Die Haftung zwischen Film und Substrat ist größer als die des Vakuumdampfs.Mehr lesen -
Beschichtungslinien für die Produktion von Autolampenfolien
Produktionslinien für Autolampenfolien sind ein wesentlicher Bestandteil der Automobilindustrie. Diese Produktionslinien sind für die Beschichtung und Herstellung von Autolampenfolien zuständig, die maßgeblich zur Verbesserung der Ästhetik und Funktionalität von Autolampen beitragen. Da die Nachfrage nach hochwertigen...Mehr lesen -
Die Rolle des Magnetfelds beim Magnetronsputtern
Magnetronsputtern umfasst hauptsächlich Entladungsplasmatransport, Targetätzen, Dünnschichtabscheidung und andere Prozesse. Das Magnetfeld hat Einfluss auf den Magnetronsputtern-Prozess. Im Magnetronsputtern-System und dem orthogonalen Magnetfeld unterliegen die Elektronen der ...Mehr lesen -
Anforderungen an das Pumpsystem einer Vakuumbeschichtungsmaschine
An das Pumpsystem einer Vakuumbeschichtungsanlage werden folgende Grundanforderungen gestellt: (1) Das Beschichtungsvakuumsystem muss über eine ausreichend große Pumpleistung verfügen, damit nicht nur die aus dem Substrat freigesetzten Gase und verdampften Materialien sowie die Komponenten im Vakuumbehälter schnell abgepumpt werden.Mehr lesen -
PVD-Beschichtungsmaschine für Schmuck
Die Schmuck-PVD-Beschichtungsanlage nutzt das Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), um Schmuckstücke mit einer dünnen, aber haltbaren Beschichtung zu versehen. Bei diesem Verfahren werden hochreine, feste Metalltargets verwendet, die im Vakuum verdampft werden. Der entstehende Metalldampf wird dann kondensiert...Mehr lesen -
Kleine flexible PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine
Einer der Hauptvorteile kleiner, flexibler PVD-Vakuumbeschichtungsanlagen ist ihre Vielseitigkeit. Diese Anlagen sind für eine Vielzahl von Substratgrößen und -formen ausgelegt und eignen sich daher ideal für kleine oder kundenspezifische Fertigungsprozesse. Darüber hinaus überzeugen ihre kompakte Größe und die flexible Konfiguration...Mehr lesen -
Vakuumbeschichtungsmaschine für Schneidwerkzeuge
In der sich ständig weiterentwickelnden Fertigungsindustrie spielen Schneidwerkzeuge eine entscheidende Rolle bei der Gestaltung unserer alltäglichen Produkte. Von Präzisionsschnitten in der Luft- und Raumfahrt bis hin zu komplexen Designs im medizinischen Bereich steigt die Nachfrage nach hochwertigen Schneidwerkzeugen stetig. Um dieser Nachfrage gerecht zu werden, …Mehr lesen -
Auswirkung des Ionenbeschusses auf die Filmschicht/Substrat-Grenzfläche
Wenn die Ablagerung von Membranatomen beginnt, hat der Ionenbeschuss folgende Auswirkungen auf die Membran-Substrat-Grenzfläche. (1) Physikalische Vermischung. Aufgrund der hochenergetischen Ioneninjektion, des Zerstäubens der abgeschiedenen Atome, der Rückstoßinjektion von Oberflächenatomen und des Kaskadenkollisionsphänomens...Mehr lesen -
Wiederbelebung und Entwicklung der Vakuum-Sputterbeschichtung
Sputtern ist ein Phänomen, bei dem energiereiche Teilchen (meist positive Ionen von Gasen) auf die Oberfläche eines Festkörpers (im Folgenden Targetmaterial genannt) treffen und dadurch Atome (oder Moleküle) auf der Oberfläche des Targetmaterials austreten. Dieses Phänomen wurde 1842 von Grove entdeckt, als...Mehr lesen -
Eigenschaften der Magnetron-Sputter-Beschichtung Kapitel 2
Eigenschaften der Magnetron-Sputter-Beschichtung (3) Niedrigenergie-Sputtern. Aufgrund der niedrigen Kathodenspannung am Target wird das Plasma durch das Magnetfeld im Raum nahe der Kathode gebunden, wodurch die hochenergetischen geladenen Teilchen an der Substratseite verhindert werden. Die...Mehr lesen -
Eigenschaften der Magnetron-Sputter-Beschichtung Kapitel 1
Im Vergleich zu anderen Beschichtungstechnologien zeichnet sich die Magnetronsputtern-Beschichtung durch folgende Merkmale aus: Die Arbeitsparameter verfügen über einen großen dynamischen Einstellbereich, die Beschichtungsabscheidungsgeschwindigkeit und -dicke (der Zustand der beschichteten Fläche) lassen sich leicht steuern und es gibt kein Design...Mehr lesen -
Ionenstrahlunterstützte Abscheidungstechnologie
Die ionenstrahlunterstützte Abscheidungstechnologie ist eine Kombination aus Ionenstrahlinjektion und Dampfabscheidungsbeschichtung mit einer Ionenoberflächen-Verbundwerkstoff-Verarbeitungstechnologie. Bei der Oberflächenmodifizierung von ioneninjizierten Materialien, seien es Halbleitermaterialien oder technische Werkstoffe, ist sie von...Mehr lesen
