Фотоволтаичните клетки са били използвани главно в космоса, военните и други области в ранните фотоволтаични технологии. През последните 20 години цената на фотоволтаичните клетки е спаднала драстично, което е довело до широк спектър от глобални приложения на фотоволтаичните системи. В края на 2019 г. общият инсталиран капацитет на слънчевите фотоволтаични системи в световен мащаб достигна 616 GW и се очаква да достигне 50% от общия световен капацитет за производство на електроенергия до 2050 г. Поради факта, че полупроводниковите материали на фотоволтаичните клетки абсорбират светлина главно в диапазон от няколко микрона до стотици микрона, а повърхностните характеристики на полупроводниковия материал на клетката са много важни, така че технологията с вакуумно тънък филм има широк спектър от приложения в производството на слънчева електроенергия.
Индустриализираните фотоволтаични клетки се разделят на две основни категории: кристални силициеви слънчеви клетки и тънкослойни слънчеви клетки. Най-съвременните технологии за кристални силициеви клетки включват технология с пасивиран емитер и задна страна на клетката (PERC), технология с хетеропреход (HJT), технология с пасивиран емитер и задна страна на пълната дифузия (PERT) и технология с тунелен оксиден пасивиран контакт (Topcon). Функциите на тънките слоеве в кристалните силициеви клетки включват главно пасивация, намаляване на отражението, P/N легиране и проводимост. Основните технологии за тънкослойни батерии включват кадмиев телурид, медно-индиево-галиев селенид и халкогенид. Тънките слоеве се използват главно като поглъщащ светлина слой, проводим слой и др. Приготвянето на тънки слоеве във фотоволтаични клетки се използва по-често в различни видове технологии за вакуумно покритие.
–Тази статия е публикувана отпроизводител на машини за вакуумно покритиеГуандун Джънхуа
Време на публикуване: 12 септември 2023 г.