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業界ニュース
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真空ポンプの意味
真空引きは「真空ポンプ」とも呼ばれ、複数の真空ポンプを用いて容器内の空気を除去し、空間内の圧力を1気圧以下に下げることを指します。現在、真空を得るためには、ロータリーベーンなどの一般的な装置が用いられています。続きを読む -
真空蒸着プロセス
真空蒸着プロセスは、一般的に、基板表面の洗浄、コーティング前の準備、蒸着、部品のピックアップ、めっき後処理、検査、完成品などの工程から構成されます。（1）基板表面の洗浄。真空チャンバーの壁、基板フレーム、その他の…続きを読む -
真空コーティング入門
真空を使用する理由：汚染の防止：真空中では空気やその他のガスが存在しないため、成膜材料が大気中のガスと反応して膜を汚染するのを防ぎます。密着性の向上：空気がないため、膜は基板に直接密着し、空気の侵入を防ぎます。続きを読む -
薄膜堆積技術
薄膜堆積は、半導体産業をはじめ、材料科学・工学の多くの分野で用いられる基本的なプロセスです。基板上に薄い材料層を形成するプロセスです。堆積される膜の厚さは、数原子から10原子程度まで、幅広い範囲にわたります。続きを読む -
光学産業で使用されるさまざまな光学フィルム
光学分野では、光学ガラスまたは石英の表面に、異なる物質の層または複数の層をフィルムでメッキすることで、高い反射率または無反射率（つまり、フィルムの透過率の向上）が得られたり、光の反射率または透過率を一定の割合に抑えたりすることができます。続きを読む -
真空コーティング装置部品
真空コーティング装置は、真空環境下での薄膜堆積技術の一種であり、電子工学、光学、材料科学、エネルギーなどの分野で広く利用されています。真空コーティング装置は主に以下の部品で構成されています。真空チャンバー：真空コーティング装置の中核部分であり、真空チャンバーは真空状態を維持するための装置です。続きを読む -
真空コーティング装置の用途
真空コーティング装置は、様々な業界や分野を網羅する幅広い応用分野を有しています。主な応用分野は以下のとおりです。民生用電子機器および集積回路：真空コーティング技術は、金属構造物などの民生用電子機器において、幅広い用途で使用されています。続きを読む -
振華自動車産業における自動車ランプの表面処理の応用
ランプは自動車の重要な部品の一つであり、ランプリフレクターの表面処理は機能性と装飾性を高めることができます。ランプカップの表面処理には、化学メッキ、塗装、真空コーティングなどの一般的な方法があります。塗装スプレー処理と化学メッキは、より伝統的なランプカップ処理です。続きを読む -
真空コーティング装置のコンポーネント
真空コーティング装置は通常、それぞれ独自の機能を持つ複数の主要コンポーネントで構成されており、それらが連携して効率的で均一な膜堆積を実現します。以下は主要コンポーネントとその機能の説明です。主要コンポーネント 真空チャンバー： 機能：…続きを読む -
熱蒸発コーティングシステムの動作原理
蒸着コーティング装置は、基板表面に薄膜材料を堆積させる装置の一種で、光学デバイス、電子デバイス、装飾コーティングなどの分野で広く使用されています。蒸着コーティングは主に高温を利用して固体を薄膜化し、薄膜材料を基板表面に堆積させます。続きを読む -
インラインコーターの紹介
真空インラインコーターは、連続的な高スループット生産環境向けに設計された高度なコーティングシステムです。基板を個別に処理するバッチコーターとは異なり、インラインコーターでは、基板がコーティングプロセスの様々な段階を連続的に移動できます。続きを読む -
スパッタリング真空コーター
スパッタリング真空コーターは、基板上に材料の薄膜を堆積するために使用される装置です。このプロセスは、半導体、太陽電池、光学・電子用途の様々なコーティングの製造に広く用いられています。その基本的な仕組みは次のとおりです。1. V…続きを読む -
真空コーティングシステムの紹介
真空コーティングシステムは、真空環境下で表面に薄膜またはコーティングを施す技術です。このプロセスにより、高品質で均一かつ耐久性のあるコーティングが実現します。これは、電子機器、光学、自動車、航空宇宙など、様々な産業において極めて重要です。真空コーティングシステムには様々な種類があります。続きを読む -
スパッタリング光学インライン真空コーティングシステムとは
マグネトロンスパッタリング光学インライン真空コーティングシステムは、様々な基板に薄膜を堆積させる高度な技術であり、光学、電子工学、材料科学などの業界で広く利用されています。以下は詳細な概要です。コンポーネントと機能：1...続きを読む -
ダイヤモンド薄膜技術-第2章
(3) 高周波プラズマCVD (RFCVD)RFは、容量結合法と誘導結合法の2つの異なる方法でプラズマを生成するために使用できます。RFプラズマCVDは、13.56MHzの周波数を使用します。RFプラズマの利点は、マイクロ波プラズマよりもはるかに広い領域に拡散することです。続きを読む
