Peralatan pelapisan rol ke rol eksperimental mengadopsi teknologi pelapisan yang menggabungkan sputtering magnetron dan busur katode, yang memenuhi persyaratan kekompakan film dan laju ionisasi tinggi. Peralatan berstruktur vertikal, dan sistem penggulungan benda kerja dipasang secara vertikal di ruang vakum. Desain pintu multiruang, katode dipasang di pintu samping, enam set sumber katode atau sumber ion dapat dipasang, dan target dapat dirawat atau diganti saat pintu dibuka. Peralatan dapat melakukan perawatan permukaan benda kerja dan pelapisan multilapis pada satu waktu untuk mewujudkan pengendapan film multilapis. Cocok untuk berbagai bahan pelapis logam atau senyawa.
Peralatan ini memiliki karakteristik tampilan yang cantik, struktur yang ringkas, luas lantai yang kecil, tingkat otomatisasi yang tinggi, pengoperasian yang sederhana dan fleksibel, kinerja yang stabil, dan perawatan yang mudah. Peralatan ini sangat cocok untuk digunakan di laboratorium dan perguruan tinggi. Pelanggan dapat memilih sesuai dengan kebutuhan mereka yang berbeda.
| Model opsional | Ukuran peralatan (lebar) |
| RCW300 | 300 mm2 |