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Recubrimientos al vacío antihuellas de metal
El uso de máquinas de recubrimiento al vacío antihuellas para metales representa un avance importante en la tecnología de protección de superficies. Al combinar la tecnología de vacío con recubrimientos especializados, estas máquinas crean una fina capa resistente al desgaste sobre superficies metálicas que protege contra huellas dactilares y otros daños.Leer más -
Máquina práctica de recubrimiento al vacío
En los campos de la fabricación avanzada y la producción industrial, la demanda de máquinas de recubrimiento al vacío prácticas está en aumento. Estas máquinas de vanguardia están revolucionando la forma de recubrir diversos materiales, ofreciendo mayor durabilidad, rendimiento y estética. En este blog...Leer más -
Principio de selección y clasificación del material objetivo
Con el creciente desarrollo de la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica, especialmente la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón, en la actualidad, para cualquier material se puede preparar una película objetivo mediante bombardeo de iones, debido a que el objetivo se pulveriza en el proceso de recubrimiento sobre algún tipo de sustrato, la calidad de...Leer más -
Características principales del recubrimiento por pulverización catódica de RF
A. Alta velocidad de pulverización catódica. Por ejemplo, al pulverizar SiO₂, la velocidad de deposición puede alcanzar los 200 nm/min, generalmente entre 10 y 100 nm/min. La velocidad de formación de la película es directamente proporcional a la potencia de alta frecuencia. B. La adhesión entre la película y el sustrato es mayor que la del vapor de vacío...Leer más -
Líneas de recubrimiento para producción de películas para lámparas de automóviles
Las líneas de producción de películas para faros de automóvil son esenciales en la industria automotriz. Estas líneas se encargan del recubrimiento y la producción de películas para faros, las cuales desempeñan un papel crucial en la mejora de la estética y la funcionalidad de los faros. Ante la creciente demanda de alta calidad...Leer más -
El papel del campo magnético en la pulverización catódica con magnetrón
La pulverización catódica con magnetrón incluye principalmente el transporte de plasma de descarga, el grabado de objetivos, la deposición de películas delgadas y otros procesos. El campo magnético del proceso de pulverización catódica con magnetrón tendrá un impacto. En el sistema de pulverización catódica con magnetrón, más el campo magnético ortogonal, los electrones están sujetos a...Leer más -
Requisitos del sistema de bombeo de la máquina de recubrimiento al vacío
La máquina de recubrimiento al vacío en el sistema de bombeo tiene los siguientes requisitos básicos: (1) El sistema de recubrimiento al vacío debe tener una velocidad de bombeo suficientemente grande, que no solo debe bombear rápidamente los gases liberados del sustrato y los materiales evaporados y los componentes en el vacío ch...Leer más -
Máquina de recubrimiento PVD para joyería
La máquina de recubrimiento PVD para joyería utiliza un proceso conocido como Deposición Física de Vapor (PVD) para aplicar un recubrimiento fino pero duradero a las piezas de joyería. Este proceso implica el uso de placas metálicas sólidas de alta pureza, que se evaporan al vacío. El vapor metálico resultante se acondiciona...Leer más -
Máquina de recubrimiento al vacío de PVD flexible y pequeña
Una de las principales ventajas de las máquinas de recubrimiento al vacío PVD flexibles y pequeñas es su versatilidad. Estas máquinas están diseñadas para adaptarse a una variedad de tamaños y formas de sustratos, lo que las hace ideales para procesos de fabricación a pequeña escala o personalizados. Además, su tamaño compacto y su configuración flexible...Leer más -
Máquina de recubrimiento al vacío con herramientas de corte
En la industria manufacturera, en constante evolución, las herramientas de corte desempeñan un papel fundamental en la conformación de los productos que utilizamos a diario. Desde el corte de precisión en la industria aeroespacial hasta los diseños complejos en el sector médico, la demanda de herramientas de corte de alta calidad sigue en aumento. Para satisfacer esta demanda, EE. UU....Leer más -
Efecto del bombardeo de iones en la interfaz capa de película/sustrato
Cuando comienza la deposición de átomos de membrana, el bombardeo iónico tiene los siguientes efectos en la interfaz membrana/sustrato: (1) Mezcla física. Debido a la inyección de iones de alta energía, la pulverización catódica de los átomos depositados, la inyección por retroceso de los átomos superficiales y el fenómeno de colisión en cascada...Leer más -
Renacimiento y desarrollo del recubrimiento por pulverización catódica al vacío
La pulverización catódica es un fenómeno en el que partículas energéticas (generalmente iones positivos de gases) impactan la superficie de un sólido (en adelante, el material objetivo), provocando la liberación de átomos (o moléculas) de la superficie del material objetivo. Este fenómeno fue descubierto por Grove en 1842 cuando...Leer más -
Características del recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón Capítulo 2
Características del recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón (3) Pulverización catódica de baja energía. Debido al bajo voltaje catódico aplicado al objetivo, el plasma queda ligado por el campo magnético en el espacio cercano al cátodo, inhibiendo así la propagación de partículas cargadas de alta energía hacia el sustrato. El...Leer más -
Características del recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón Capítulo 1
En comparación con otras tecnologías de recubrimiento, el recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón se caracteriza por las siguientes características: los parámetros de trabajo tienen un amplio rango de ajuste dinámico de la velocidad de deposición del recubrimiento y el espesor (el estado del área recubierta) se puede controlar fácilmente y no hay diseño.Leer más -
Tecnología de deposición asistida por haz de iones
La tecnología de deposición asistida por haz de iones consiste en la inyección de haz de iones y el recubrimiento por deposición de vapor, combinados con la tecnología de procesamiento de compuestos de superficie iónica. En el proceso de modificación de la superficie de materiales inyectados con iones, ya sean semiconductores o de ingeniería, es...Leer más
