Große horizontale Magnetron-Sputter-Beschichtungsproduktionslinie
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PRODUKTBESCHREIBUNG
Die große horizontale Magnetron-Sputteranlage ist eine planare Magnetron-Sputteranlage für die kontinuierliche Produktion. Ihr modulares Design ermöglicht zukünftige Erweiterungen und Modernisierungen. Ausgestattet mit mehreren Gruppen großer Magnetronkathoden, kann sie zur Kombination mehrerer Membranstrukturen eingesetzt werden. Die vollautomatische Steuerung und das hochstabile Übertragungssystem ermöglichen die nahtlose Anbindung an den Manipulator für einen kontinuierlichen und stabilen Linienbetrieb. Hohe Produktionsgeschwindigkeit und große Produktionskapazität zeichnen die Anlage aus.
Die Beschichtungsanlage eignet sich für die Abscheidung von ITO, AZO, TCO und anderen transparenten leitfähigen Schichten sowie von elementaren Metallen wie Ti, Ag, Cu, Al, Cr, Ni und weiteren Materialien. Sie findet hauptsächlich Anwendung in Smart-Home-Panels, Displays, Touchscreens, Fahrzeugglas, Photovoltaikmodulen und anderen Produkten.
VERWANDTE GERÄTE
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ITO/ISI Horizontales kontinuierliches Beschichtungsprodukt...
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Großflächige optische Plattenbeschichtung Inline-Beschichtung...
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Horizontale doppelseitige Halbleiterbeschichtung p...
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