Chào mừng đến với Công ty TNHH Công nghệ Guangdong Zhenhua.
Tin tức
-
Công nghệ phủ quang học: Tăng cường hiệu ứng hình ảnh
Trong thế giới phát triển nhanh như hiện nay, nơi nội dung trực quan có nhiều ảnh hưởng, công nghệ phủ quang học đóng vai trò quan trọng trong việc cải thiện chất lượng của nhiều loại màn hình. Từ điện thoại thông minh đến màn hình TV, lớp phủ quang học đã cách mạng hóa cách chúng ta cảm nhận và trải nghiệm nội dung trực quan. ...Đọc thêm -
Tăng cường lớp phủ phún xạ Magnetron với nguồn điện phóng điện hồ quang
Phủ phủ bằng phương pháp phún xạ magnetron được thực hiện bằng phương pháp phóng điện phát sáng, mật độ dòng điện phóng điện thấp và mật độ plasma thấp trong buồng phủ. Điều này làm cho công nghệ phún xạ magnetron có những nhược điểm như lực liên kết nền màng thấp, tốc độ ion hóa kim loại thấp và tốc độ lắng đọng thấp...Đọc thêm -
Sử dụng phóng điện RF
1. Có lợi cho việc phun và mạ màng cách điện. Sự thay đổi nhanh chóng về cực điện cực có thể được sử dụng để phun trực tiếp các mục tiêu cách điện để thu được màng cách điện. Nếu sử dụng nguồn điện DC để phun và lắng đọng màng cách điện, màng cách điện sẽ chặn các ion dương từ ent...Đọc thêm -
Đặc điểm kỹ thuật của lớp phủ bốc hơi chân không
1. Quá trình phủ bốc hơi chân không bao gồm quá trình bốc hơi vật liệu màng, quá trình vận chuyển các nguyên tử hơi trong chân không cao và quá trình hình thành và phát triển các nguyên tử hơi trên bề mặt phôi. 2. Độ chân không lắng đọng của lớp phủ bốc hơi chân không cao, tạo ra...Đọc thêm -
Các loại lớp phủ cứng
TiN là lớp phủ cứng đầu tiên được sử dụng trong các công cụ cắt, với các ưu điểm như độ bền cao, độ cứng cao và khả năng chống mài mòn. Đây là vật liệu phủ cứng đầu tiên được công nghiệp hóa và sử dụng rộng rãi, được sử dụng rộng rãi trong các công cụ phủ và khuôn phủ. Lớp phủ cứng TiN ban đầu được lắng đọng ở 1000 ℃...Đọc thêm -
Đặc điểm của sự biến đổi bề mặt Plasma
Plasma năng lượng cao có thể bắn phá và chiếu xạ vật liệu polyme, phá vỡ chuỗi phân tử của chúng, hình thành các nhóm hoạt động, tăng năng lượng bề mặt và tạo ra quá trình khắc. Xử lý bề mặt plasma không ảnh hưởng đến cấu trúc bên trong và hiệu suất của vật liệu khối, nhưng chỉ ảnh hưởng đáng kể đến...Đọc thêm -
Quy trình phủ ion nguồn hồ quang nhỏ
Quá trình phủ ion nguồn hồ quang catốt về cơ bản giống với các công nghệ phủ khác và một số thao tác như lắp phôi và hút chân không không còn được lặp lại nữa. 1. Làm sạch phôi bằng phương pháp bắn phá Trước khi phủ, khí argon được đưa vào buồng phủ với một...Đọc thêm -
Đặc điểm và phương pháp tạo ra dòng điện tử hồ quang
1. Đặc điểm của dòng electron hồ quang Mật độ dòng electron, dòng ion và các nguyên tử trung tính năng lượng cao trong plasma hồ quang do phóng điện hồ quang tạo ra cao hơn nhiều so với phóng điện phát sáng. Có nhiều ion khí và ion kim loại bị ion hóa, các nguyên tử năng lượng cao bị kích thích và nhiều nguyên tử hoạt động khác nhau...Đọc thêm -
Các lĩnh vực ứng dụng của sửa đổi bề mặt Plasma
1) Biến đổi bề mặt plasma chủ yếu đề cập đến một số biến đổi của giấy, màng hữu cơ, hàng dệt may và sợi hóa học. Việc sử dụng plasma để biến đổi hàng dệt may không yêu cầu sử dụng chất hoạt hóa và quá trình xử lý không làm hỏng đặc tính của chính sợi. ...Đọc thêm -
Ứng dụng của lớp phủ ion trong lĩnh vực màng mỏng quang học
Ứng dụng của màng mỏng quang học rất rộng rãi, từ kính, ống kính máy ảnh, camera điện thoại di động, màn hình LCD cho điện thoại di động, máy tính và tivi, đèn LED, thiết bị sinh trắc học, đến cửa sổ tiết kiệm năng lượng trong ô tô và tòa nhà, cũng như dụng cụ y tế, thiết bị...Đọc thêm -
Phim hiển thị thông tin và công nghệ phủ ion
1. Loại màng trong màn hình hiển thị thông tin Ngoài màng mỏng TFT-LCD và OLED, màn hình hiển thị thông tin còn bao gồm màng điện cực nối dây và màng điện cực pixel trong suốt trong bảng hiển thị. Quy trình phủ là quy trình cốt lõi của màn hình TFT-LCD và OLED. Với quy trình liên tục...Đọc thêm -
Quy luật tăng trưởng của lớp màng phủ bay hơi chân không
Trong quá trình phủ bay hơi, quá trình hình thành và phát triển của lớp màng là cơ sở của nhiều công nghệ phủ ion khác nhau 1. Hình thành Trong công nghệ phủ bay hơi chân không, sau khi các hạt lớp màng được bốc hơi khỏi nguồn bốc hơi dưới dạng nguyên tử, chúng bay trực tiếp đến w...Đọc thêm -
Các đặc điểm chung của công nghệ phủ ion phóng điện tăng cường
1. Độ lệch phôi thấp Do bổ sung thiết bị tăng tốc độ ion hóa nên mật độ dòng điện phóng điện tăng lên, điện áp phân cực giảm xuống còn 0,5~1kV. Hiện tượng bắn phá ngược do các ion năng lượng cao quá mức và tác động gây hư hỏng bề mặt phôi...Đọc thêm -
Ưu điểm của mục tiêu hình trụ
1) Mục tiêu hình trụ có tỷ lệ sử dụng cao hơn mục tiêu phẳng. Trong quá trình phủ, cho dù là mục tiêu phun hình trụ loại từ tính quay hay loại ống quay, tất cả các bộ phận của bề mặt ống mục tiêu đều liên tục đi qua vùng phun được tạo ra ở phía trước...Đọc thêm -
Quá trình trùng hợp trực tiếp plasma
Quá trình trùng hợp trực tiếp bằng Plasma Quá trình trùng hợp bằng Plasma tương đối đơn giản đối với cả thiết bị trùng hợp điện cực bên trong và thiết bị trùng hợp điện cực bên ngoài, nhưng việc lựa chọn thông số quan trọng hơn trong quá trình trùng hợp bằng Plasma, vì các thông số có ảnh hưởng lớn hơn...Đọc thêm
