Chào mừng đến với Công ty TNHH Công nghệ Guangdong Zhenhua.
Tin tức
-
Máy phủ chân không chống dấu vân tay kim loại
Việc sử dụng máy phủ chân không chống dấu vân tay kim loại là một bước tiến lớn trong công nghệ bảo vệ bề mặt. Bằng cách kết hợp công nghệ chân không và lớp phủ chuyên dụng, những máy này tạo ra một lớp mỏng, chống mài mòn trên bề mặt kim loại, bảo vệ chống lại dấu vân tay và các tác động khác...Đọc thêm -
Máy phủ chân không thực tế
Trong lĩnh vực sản xuất tiên tiến và sản xuất công nghiệp, nhu cầu về máy phủ chân không thực tế đang tăng lên. Những máy tiên tiến này đang cách mạng hóa cách phủ nhiều loại vật liệu, mang lại độ bền, hiệu suất và tính thẩm mỹ được cải thiện. Trong blog này, po...Đọc thêm -
Nguyên tắc lựa chọn vật liệu mục tiêu và phân loại
Với sự phát triển ngày càng tăng của công nghệ phủ phun, đặc biệt là công nghệ phủ phun magnetron, hiện nay, đối với bất kỳ vật liệu nào cũng có thể chế tạo màng bia bắn phá ion, vì bia được phun trong quá trình phủ lên một số loại chất nền, chất lượng...Đọc thêm -
Các tính năng chính của lớp phủ phun RF
A. Tốc độ phun cao. Ví dụ, khi phun SiO2, tốc độ lắng đọng có thể lên tới 200nm/phút, thường lên tới 10~100nm/phút. Và tốc độ hình thành màng tỷ lệ thuận với công suất tần số cao. B. Độ bám dính giữa màng và chất nền lớn hơn độ chân không hơi...Đọc thêm -
Dây chuyền sản xuất màng phủ đèn ô tô
Dây chuyền sản xuất phim đèn ô tô là một phần thiết yếu của ngành sản xuất ô tô. Các dây chuyền sản xuất này chịu trách nhiệm phủ và sản xuất phim đèn ô tô, đóng vai trò quan trọng trong việc nâng cao tính thẩm mỹ và chức năng của đèn ô tô. Do nhu cầu về chất lượng cao...Đọc thêm -
Vai trò của từ trường trong quá trình phún xạ magnetron
Quá trình phún xạ magnetron chủ yếu bao gồm quá trình vận chuyển plasma phóng điện, khắc mục tiêu, lắng đọng màng mỏng và các quá trình khác, từ trường trên quá trình phún xạ magnetron sẽ có tác động. Trong hệ thống phún xạ magnetron cộng với từ trường trực giao, các electron chịu tác động của...Đọc thêm -
Yêu cầu của hệ thống bơm đối với máy phủ chân không
Máy phủ chân không trên hệ thống bơm có các yêu cầu cơ bản sau: (1) Hệ thống phủ chân không phải có tốc độ bơm đủ lớn, không chỉ phải bơm nhanh các khí thoát ra từ vật liệu nền và vật liệu bay hơi cùng các thành phần trong hệ thống chân không...Đọc thêm -
Máy phủ PVD trang sức
Máy phủ PVD trang sức sử dụng một quy trình được gọi là lắng đọng hơi vật lý (PVD) để phủ một lớp phủ mỏng nhưng bền lên các món đồ trang sức. Quy trình này bao gồm việc sử dụng các mục tiêu kim loại rắn có độ tinh khiết cao, được bốc hơi trong môi trường chân không. Hơi kim loại thu được sau đó được điều hòa...Đọc thêm -
Máy phủ chân không Pvd linh hoạt nhỏ
Một trong những ưu điểm chính của máy phủ chân không PVD linh hoạt nhỏ là tính linh hoạt của chúng. Những máy này được thiết kế để phù hợp với nhiều kích thước và hình dạng của chất nền, khiến chúng trở nên lý tưởng cho các quy trình sản xuất quy mô nhỏ hoặc tùy chỉnh. Ngoài ra, kích thước nhỏ gọn và tính linh hoạt của nó...Đọc thêm -
Máy cắt dụng cụ máy phủ chân không
Trong ngành sản xuất không ngừng phát triển, dụng cụ cắt đóng vai trò quan trọng trong việc định hình các sản phẩm mà chúng ta sử dụng hàng ngày. Từ việc cắt chính xác trong ngành hàng không vũ trụ đến các thiết kế phức tạp trong lĩnh vực y tế, nhu cầu về dụng cụ cắt chất lượng cao tiếp tục tăng. Để đáp ứng nhu cầu này, chúng tôi...Đọc thêm -
Hiệu ứng của sự bắn phá ion lên giao diện lớp màng/chất nền
Khi quá trình lắng đọng các nguyên tử màng bắt đầu, sự bắn phá ion có những tác động sau đây lên giao diện màng/chất nền. (1) Trộn vật lý. Do sự phun ion năng lượng cao, sự bắn phá các nguyên tử lắng đọng và sự phun giật lùi của các nguyên tử bề mặt và hiện tượng va chạm tầng, wi...Đọc thêm -
Sự hồi sinh và phát triển của lớp phủ phun chân không
Phun xạ là hiện tượng trong đó các hạt năng lượng (thường là các ion dương của khí) va chạm với bề mặt của một chất rắn (sau đây gọi là vật liệu mục tiêu), khiến các nguyên tử (hoặc phân tử) trên bề mặt của vật liệu mục tiêu thoát ra khỏi nó. Hiện tượng này được Grove phát hiện vào năm 1842 khi...Đọc thêm -
Đặc điểm của lớp phủ phún xạ magnetron Chương 2
Đặc điểm của lớp phủ phun magnetron (3) Phun năng lượng thấp. Do điện áp catốt thấp được áp dụng cho mục tiêu, plasma bị ràng buộc bởi từ trường trong không gian gần catốt, do đó ức chế các hạt tích điện năng lượng cao ở phía bên của chất nền mà mọi người bắn. Các...Đọc thêm -
Đặc điểm của lớp phủ phún xạ magnetron Chương 1
So với các công nghệ phủ khác, công nghệ phủ phún xạ magnetron có đặc điểm sau: các thông số làm việc có phạm vi điều chỉnh động lớn về tốc độ lắng đọng lớp phủ và độ dày (trạng thái của khu vực phủ) có thể dễ dàng kiểm soát và không cần thiết kế...Đọc thêm -
Công nghệ lắng đọng hỗ trợ chùm ion
Công nghệ lắng đọng chùm ion là công nghệ phun chùm ion và phủ lắng đọng hơi kết hợp với công nghệ xử lý bề mặt composite ion. Trong quá trình biến tính bề mặt vật liệu phun ion, dù là vật liệu bán dẫn hay vật liệu kỹ thuật, nó là...Đọc thêm
