Добро пожаловать в Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Новости
-
Технология химического осаждения паров плазмы с использованием горячей дуги
Технология химического осаждения паров плазмы с использованием горячей проволоки использует пистолет с горячей проволокой для испускания дуговой плазмы, сокращенно называемая технологией PECVD с горячей проволокой. Эта технология похожа на технологию ионного покрытия с использованием горячей проволоки, но разница заключается в том, что твердая пленка, полученная с помощью горячей проволоки,...Читать далее -
Введение в традиционные методы нанесения твердых покрытий
1. Технология термического CVD Твердые покрытия в основном представляют собой металлокерамические покрытия (TiN и т. д.), которые образуются в результате реакции металла в покрытии и реактивной газификации. Сначала технология термического CVD использовалась для обеспечения энергии активации реакции сочетания тепловой энергией при ...Читать далее -
Что такое покрытие с резистивным источником испарения?
Покрытие с использованием источника резистивного испарения является основным методом вакуумного испарения. «Испарение» относится к методу подготовки тонкой пленки, при котором материал покрытия в вакуумной камере нагревается и испаряется, так что атомы или молекулы материала испаряются и выходят из...Читать далее -
Введение в технологию катодно-дугового ионного осаждения
Технология катодного дугового ионного покрытия использует технологию холодного дугового разряда. Самое раннее применение технологии холодного дугового разряда в области покрытий было осуществлено компанией Multi Arc Company в Соединенных Штатах. Английское название этой процедуры — arc ionplating (AIP). Катодное дуговое ионное покрытие...Читать далее -
Применение оптических тонких пленок в производстве стекол с покрытием
Существует множество типов субстратов для очков и линз, например, CR39, PC (поликарбонат), 1,53 Trivex156, пластик со средним показателем преломления, стекло и т. д. Для корректирующих линз коэффициент пропускания как смоляных, так и стеклянных линз составляет всего около 91%, и часть света отражается обратно двумя с...Читать далее -
Характеристики вакуумной напылительной машины
1.Пленка вакуумного покрытия очень тонкая (обычно 0,01-0,1 мкм)| 2.Вакуумное покрытие можно использовать для многих пластиков, таких как ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA и т. д. 3.Температура формирования пленки низкая. В металлургической промышленности температура покрытия при горячем цинковании обычно составляет от 400 ℃ до...Читать далее -
Введение в технологию тонких пленок солнечных фотоэлектрических систем
После открытия фотоэлектрического эффекта в Европе в 1863 году, в США был создан первый фотоэлектрический элемент с (Se) в 1883 году. В первые дни фотоэлектрические элементы в основном использовались в аэрокосмической, военной и других областях. За последние 20 лет резкое снижение стоимости фотоэлектрических элементов...Читать далее -
Технологический процесс машины для нанесения покрытий методом напыления
1. Бомбардировка очищающей подложки 1.1) Машина для распыления использует тлеющий разряд для очистки подложки. То есть, заряжает газ аргон в камере, напряжение разряда составляет около 1000 В, После включения питания генерируется тлеющий разряд, и подложка очищается ...Читать далее -
Применение оптической пленки в мобильных телефонах
Применение оптических тонких пленок в потребительской электронике, такой как мобильные телефоны, перешло от традиционных объективов камер к более разнообразным направлениям, таким как объективы камер, защитные пленки для объективов, инфракрасные отсекающие фильтры (IR-CUT) и покрытие NCVM на крышках аккумуляторов сотовых телефонов. Специфика...Читать далее -
Характеристики оборудования для нанесения покрытий методом химического осаждения из газовой фазы
Технология нанесения покрытий методом химического осаждения из газовой фазы имеет следующие характеристики: 1. Технологический процесс оборудования для химического осаждения из газовой фазы относительно прост и гибок, и с его помощью можно изготавливать отдельные или составные пленки, а также пленки из сплавов с различными пропорциями; 2. Покрытие методом химического осаждения из газовой фазы имеет широкий спектр применения и может использоваться для подготовки...Читать далее -
Каковы процессы вакуумного напыления? Каков принцип работы?
Процесс вакуумного напыления подразделяется на: нанесение покрытия методом вакуумного напыления, нанесение покрытия методом вакуумного напыления и нанесение покрытия методом вакуумного ионного напыления. 1. Нанесение покрытия методом вакуумного напыления. В условиях вакуума материал, например металл, металлический сплав и т. д., испаряется, а затем наносится на поверхность подложки...Читать далее -
Для чего нужен вакуумный аппарат?
1. Что такое процесс вакуумного покрытия? Какова его функция? Так называемый процесс вакуумного покрытия использует испарение и распыление в вакуумной среде для выделения частиц пленочного материала, которые наносятся на металл, стекло, керамику, полупроводники и пластиковые детали для формирования слоя покрытия, для деко...Читать далее -
Экологические требования к оборудованию для вакуумного нанесения покрытий
Поскольку вакуумное напылительное оборудование работает в условиях вакуума, оно должно соответствовать требованиям вакуума для окружающей среды. Отраслевые стандарты для различных типов вакуумного напылительного оборудования, разработанные в моей стране (включая общие технические условия для вакуумного напылительного оборудования,...Читать далее -
Характеристики и применение ионного осаждения
Тип пленки Материал пленки Подложка Характеристики пленки и применение Металлическая пленка CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt сталь, мягкая стальТитановый сплав, высокоуглеродистая сталь, мягкая стальТитановый сплавТвердый стеклопластик Никель, сталь Inconel, нержавеющая сталь Кремний Противоизносные ...Читать далее -
Вакуумное ионное покрытие и его классификация
Вакуумное ионное напыление (сокращенно ионное напыление) — это новая технология обработки поверхности, которая быстро развивалась в 1970-х годах и была предложена в 1963 году DM Mattox из компании Somdia в США. Она представляет собой процесс использования источника испарения или распыляемой мишени для испарения или распыления...Читать далее
