لکه څنګه چې د پتلي فلم غوښتنلیکونه وده کوي، د کوټینګ یو واحد طبقه ډیری وختونه نور د نظري فعالیت، بریښنایی چالکتیا، د اغوستلو مقاومت، د زنګ مقاومت، چاپیریالي ثبات، د سطحې انرژۍ، او آرائشی ظاهري ګډو اړتیاو پوره کولو لپاره کافي ندي. په ډیری پرمختللو محصولاتو کې، اړین فعالیت د څو پرتونو فلم سټیک له لارې ترلاسه کیږي چیرې چې هر طبقه یو ځانګړی فعالیت ترسره کوي او د هغې پورته او لاندې پرتونو سره تعامل کوي.
عادي جوړښتونو کې ممکن د چپکولو طبقه، فلزي یا ډایالټریک فعال طبقه، د نظري تنظیم کولو طبقه، د خپریدو خنډ، یو سخت محافظتي طبقه، او د ټیټ سطحې انرژۍ ټاپ کوټ شامل وي. په نظري غوښتنلیکونو کې، د لوړ او ټیټ انعکاسي شاخص لرونکي موادو بدیل ممکن د لیږد، انعکاس، رنګ، او طیفي غبرګون کنټرول لپاره وکارول شي. په بریښنایی او فوتوولټیک غوښتنلیکونو کې، شفاف کنډکټیو اکسایډونه، فلزي الکترودونه، بفر پرتونه، او د خنډ پرتونه ممکن په ترتیب سره زیرمه شي. په موټرو او مصرف کونکي-الیکټرانیک غوښتنلیکونو کې، فلزي شوي پرتونه ممکن د محافظتي کوټینګونو، غیر کنډکټیو ویکیوم فلز کولو پرتونو، د الماس په څیر کاربن کوټینګونو، یا د ګوتو نښې ضد پرتونو سره یوځای شي.
د دې څو پوړیز سیسټمونو فعالیت یوازې پدې پورې اړه نلري چې ایا هر انفرادي مواد په بریالیتوب سره زیرمه کیدی شي. دا پدې پورې اړه لري چې ایا د ویکیوم کوټینګ ټول سیسټم کولی شي د ویکیوم شرایط، د زیرمه کولو سرچینې، د پروسس ګازونه، د سبسټریټ حرکت، تودوخه، د تعصب ولتاژ، د فلم ضخامت څارنه، او د پرت لیږد وخت د بشپړ کوټینګ دورې په اوږدو کې همغږي کړي.
له همدې امله، د څو پوړیزو فعال فلمونو زیرمه کول باید د څو واحد پوړیزو پروسو ساده تکرار په توګه ونه پیژندل شي. دا د سیسټم په کچه د تولید دنده ده چې د دقیق تجهیزاتو همغږۍ پراساس ده.
د فلم سټک باید د یوې دوامداره پروسې په توګه وګڼل شي
په څو پوړیزه پوښ کې، د یوې طبقې بشپړیدل د بلې طبقې د پیل حالت هم دی. د سطحې جوړښت، ناهموارۍ، تودوخه، پاتې شوني فشار، جذب شوی ګاز، د پلازما افشا کول، او د انٹرفیس ککړتیا ټول کولی شي د راتلونکي طبقې نیوکلیشن او ودې اغیزه وکړي.
یوه طبقه چې خپل واحد ضخامت یا د جوړښت هدف پوره کوي ممکن لاهم د بشپړ فلم سټیک لپاره ستونزې رامینځته کړي. د ګڼ فعال طبقې د زیرمه کولو پرمهال د ایون ډیر بمبار کول ممکن د فشار فشار زیات کړي. د دوو طبقو ترمنځ اوږد انتظار موده ممکن پاتې ګازونو ته اجازه ورکړي چې په سطحه جذب شي. د عکس العمل ګاز ناسم بدلول ممکن د کراس ککړتیا یا بې ثباته مرکب جوړښت لامل شي. د سبسټریټ ډیر تودوخه ممکن د یو پرت کثافت ښه کړي پداسې حال کې چې د سبسټریټ د تودوخې زغم څخه ډیریږي یا دمخه زیرمه شوي پرتونه خرابوي.
له همدې امله د کنټرول سیسټم باید د فلم سټیک د یوې دوامداره پروسې په توګه اداره کړي نه د خپلواکو زیرمو مرحلو ټولګه په توګه. هر طبقه باید په واضح ډول تعریف شوي د ننوتلو شرایط، د زیرمو شرایط، د پای ته رسیدو معیارونه، او د لیږد شرایط ولري.
مخکې لدې چې بل طبقه پیل شي، تجهیزات ممکن اړتیا ولري چې تایید کړي چې د چیمبر فشار، د پاتې ګاز کچه، د سبسټریټ تودوخه، د هدف حالت، د ګاز جوړښت، د بریښنا رسولو حالت، او د سبسټریټ موقعیت ټاکل شوي پروسې کړکۍ ته رسیدلي دي. دا مشروط اجرا منطق یوازې د ټاکل شوي وخت ترتیب سره سم د پرتونو بدلولو په پرتله ډیر باوري دی.
د پیچلو سټېکونو لپاره، د پروسې ترکیبونه باید د انټرپرېر عملیات هم ولري لکه د پلازما پاکول، د ایون فعالول، د ګاز پاکول، د سرچینې محافظت، د شټر سویچنګ، د بریښنا ریمپینګ، د سبسټریټ یخ کول، یا کنټرول شوي انتظار. دا انتقالي عملیات د کوټینګ پروسې اړینې برخې دي ځکه چې دوی په مستقیم ډول د انٹرفیس چپکولو، کیمیاوي جوړښت، د ناهموارۍ خپریدو، او پاتې فشار اغیزه کوي.
د خلا-سیسټم همغږي د ګډې پروسې اساس جوړوي
په څو پوړیزه جوړښت کې ټولې طبقې ورته خلا چاپیریال شریکوي، مګر مختلف مواد او د زیرمه کولو پروسې ممکن مختلف عملیاتي فشارونو، ګاز ترکیبونو، د پمپ کولو سرعتونو، او د ککړتیا کنټرول ستراتیژیو ته اړتیا ولري.
د خلا سیسټم باید لومړی د زیرمو د پیل کیدو دمخه په کافي اندازه پاک او باثباته اساس فشار چمتو کړي. د اوبو بخار، اکسیجن، هایدروکاربنونه، او پاتې شوني پروسې ګازونه کولی شي د فلم پاکوالي، چپکولو، نظري جذب، بریښنایی مقاومت، او د انٹرفیس ثبات اغیزمن کړي. د رطوبت یا اکسیجن حساس طبقو لپاره، حتی د پاتې شوني ګاز جوړښت کې یو کوچنی بدلون ممکن د سټیک وروستي ملکیتونه بدل کړي.
په هرصورت، د چیمبر ترټولو ټیټ ممکنه فشار تل یوازینی هدف نه وي. د زیرمه کولو پرمهال، سیسټم باید د ګاز داخلولو او مؤثره پمپ کولو سرعت ترمنځ سم متحرک توازن وساتي. د فشار کنټرول والو، ویکیوم پمپونه، د ډله ایز جریان کنټرولرونه، د ګاز ویش سیسټم، او د چیمبر چلښت باید په ګډه کار وکړي ترڅو په هره طبقه کې د پروسې ثابت فشار وساتي.
کله چې پروسه د فلزي سپټرینګ څخه د غبرګون سپټرینګ ته بدلیږي، یا د ارګون پلازما پاکولو څخه د اکسیجن یا نایتروجن په مرسته زیرمه کیدو ته بدلیږي، د چیمبر اتموسفیر سمدلاسه نشي بدلیدلی. د کنټرول سیسټم باید د ګاز استوګنې وخت، دیوال جذب، د هدف عکس العمل، او د پمپ کولو سیسټم د غبرګون ځانګړتیاوې په پام کې ونیسي. یو ضعیف کنټرول شوی لیږد ممکن د بل طبقې پیل د بې ثباته ګاز جوړښت لاندې زیرمه شي.
دا مسله په ځانګړي ډول د تعاملي مقناطیسي سپټرینګ کې خورا مهمه ده. د تعاملي سپټرینګ سیسټمونه کولی شي د تعاملي ګاز جریان، د هدف سطحې حالت، د خارجیدو ولتاژ، د زیرمو کچه، او د فلم سټوچیومیټري ترمنځ غیر خطي اړیکه وښيي. د فلزي او زهر شوي هدف حالتونو ترمنځ د لیږد نږدې عملیات ممکن د مناسب فیډبیک کنټرول پرته بې ثباته شي. له همدې امله د جزوي فشار څارنه، د پلازما اخراج څارنه، د هدف ولتاژ فیډبیک، او د لوړ غبرګون ډله ایز جریان تنظیم کول د پروسې ثبات لپاره مدغم کیدی شي.
په څو-چیمبرونو یا ان-لاین کوټینګ سیسټمونو کې، د ویکیوم همغږي کې د نږدې پروسې زونونو ترمنځ د فشار جلا کول هم شامل دي. د بار کولو خونې، بفر چیمبرونه، د لیږد خونې، د سلیټ والوز، د توپیر پمپ کولو برخې، او د ګاز جلا کولو جوړښتونه کولی شي کراس ککړتیا کمه کړي او مختلف پرتونو ته اجازه ورکړي چې د خپلواک اتموسفیر لاندې زیرمه شي.
د رول-ټو-رول او دوامداره ان-لاین سیسټمونو لپاره، د کوټینګ ګاونډیو زونونو کې ممکن مختلف فلزي، ډایالټریک، یا غبرګوني پروسې شاملې وي. د ګاز جلا کول، کنټرول شوي پمپ کول، د سبسټریټ د تودوخې مدیریت، او د ان-سیټو اندازه کول باید یوځای کار وکړي ترڅو د پروسې یوه برخه د بلې برخې د اغیزمن کیدو مخه ونیسي.
د زیرمو سرچینې، د بریښنا رسولو، او د ګازو رسولو باید د یو سیسټم په توګه کار وکړي
څو پوړیزه فعال فلمونه ممکن د ورته تجهیزاتو پلیټ فارم دننه څو زیرمه کولو ټیکنالوژیو ته اړتیا ولري. د غوښتنلیک پورې اړه لري، سیسټم ممکن د DC میګنیټرون سپټرینګ، نبض شوي DC سپټرینګ، د مینځنۍ فریکونسۍ سپټرینګ، د راډیو فریکونسۍ سپټرینګ، HiPIMS، حرارتي تبخیر، د الکترون بیم تبخیر، د ایون په مرسته زیرمه کول، PECVD، یا ځایي ALD مدغم کړي.
هره سرچینه خپل د اور لګېدو ځانګړتیاوې، د بریښنا غبرګون، د زیرمو کچه چلند، د تودوخې بار، پلازما ویش، او د موادو کارولو نمونه لري. باثباته څو پوړیز تولید پدې پورې اړه لري چې دا سرچینې څنګه همغږي کیږي نه یوازې د دې چې څومره سرچینې نصب شوي دي.
مخکې لدې چې هدف د محصول د زیرمه کولو لپاره وکارول شي، سیسټم ممکن د شټر تړلو سره د پری سپټرینګ یا د هدف کنډیشن کولو ته اړتیا ولري. دا د سطحې ککړتیا لرې کوي او د هدف ولټاژ، د خارجیدو جریان، او زیرمه کولو کچه ثبات کوي. کله چې له یو موادو څخه بل ته بدلیږي، د سرچینې شیلډ، د شټر موقعیت، د ګاز جوړښت، د بریښنا ریمپ، او د سبسټریټ موقعیت باید په سم ترتیب کې اجرا شي.
د بریښنا رسولو باید تل په مستقیم ډول له صفر څخه وروستي سیټ پواینټ ته ونه لیږدول شي. کنټرول شوي ریمپ اپ او ریمپ ښکته سلسلې کولی شي غیر معمولي خارجیدل، د ذراتو تولید، حرارتي شاک، او آرک پیښې کمې کړي. د غبرګوني پروسو لپاره، د بریښنا تنظیم باید د ګاز جریان او پمپ کولو غبرګون سره هم همغږي شي ترڅو هدف په چټکۍ سره بې ثباته عملیاتي سیمې ته د تګ مخه ونیسي.
په هایبرډ ډیپوزیسون سیسټم کې، همغږي نوره هم مهمه کیږي. د مثال په توګه، یو فلزي طبقه ممکن د DC میګنیټرون سپټرینګ لخوا زیرمه شي، پداسې حال کې چې یو ډایالټریک طبقه د نبض شوي DC، منځنۍ فریکونسۍ، یا RF هڅونې ته اړتیا لري. د محافظتي پولیمر په څیر طبقه ممکن وروسته د PECVD لخوا زیرمه شي. د پروسې کنټرولر باید د بریښنا مختلف جوړښتونه، مطابقت لرونکي شبکې، د ګاز رسولو چینلونه، د پلازما د اور لګولو شرایط، او د خوندیتوب انټرلاکونه په یوه ترکیب کې اداره کړي.
تجهیزات باید د سرچینو د غیر ارادي تعامل مخه هم ونیسي. په ورته وخت کې کار کونکي کیتوډونه ممکن د پلازما کثافت، د چیمبر پوټینشیل، د تعامل وړ ګاز مصرف، او محلي سبسټریټ تودوخې اغیزه وکړي. که چیرې ډیری سرچینې د ګډ زیرمو لپاره وکارول شي، د ترکیب کنټرول د دوی د انفرادي زیرمو نرخونو ترمنځ مستحکم تناسب پورې اړه لري. دا ممکن د خپلواک بریښنا فیډبیک، کیلیبریټ شوي زیرمو نرخ ماډلونو، یا د تړل شوي لوپ ترکیب څارنې ته اړتیا ولري.
د ګازو د ویش ډیزاین هم په مساوي ډول مهم دی. یوازې د ګازو ټول جریان د فلم یووالي یا سټوچیومیټري نه ټاکي. د ګازو د داخلیدو، پمپ کولو بندرونو، کیتوډونو، سبسټریټ کیریرونو، او چیمبر شیلډونو موقعیت د ګاز محلي غلظت او پلازما چاپیریال ټاکي. له همدې امله د تجهیزاتو کنټرول ستراتیژي باید د چیمبر جوړښت او سرچینې ترتیب سره یوځای رامینځته شي پرځای د میخانیکي ډیزاین بشپړیدو وروسته اضافه شي.
د سبسټریټ حرکت همغږي کوي یونیفورمیت، د طبقې ضخامت، او حرارتي بار
د سبسټریټ حرکت سیسټم د څو پوړونو د جمع کولو مرکزي برخه ده ځکه چې دا ټاکي چې څنګه د سطحې هره سیمه د جمع کولو جریان، پلازما، تودوخې، او تعاملي ګاز چاپیریال سره مخ کیږي.
په بیچ کوټینګ تجهیزاتو کې، د سبسټریټ گردش، انقلاب، سیارې حرکت، څرخیدل، یا څو محور حرکت ممکن د فلیټ، منحني، یا درې اړخیز کاري ټوټو کې د کوټینګ یووالي ښه کولو لپاره وکارول شي. په دوامداره سیسټمونو کې، د لیږد سرعت او د پروسې زونونو ترمنځ همغږي په مستقیم ډول د جمع کولو وخت او راټول شوي پرت ضخامت ټاکي.
د حرکت ستراتیژي د هرې طبقې لپاره په خپلواکه توګه نشي ډیزاین کیدی. هغه سرعت یا لاره چې د فلزي طبقې لپاره مناسبه وي ممکن د ډایالټریک طبقې لپاره غوره نه وي چې د مختلف زیرمو ویش ولري. په ورته ډول، د سیارې د گردش یو ثابت تناسب ممکن د پیچلي درې اړخیزو برخو کې د پلازما - افشا کولو مختلف تاریخونه رامینځته کولو پرمهال ښه اوسط ضخامت یووالي رامینځته کړي.
کنټرولر باید د سبسټریټ موقعیت د سرچینې ځواک، شټر حالت، ګاز جریان، او د طبقې پای نقطې سره همغږي کړي. زیرمه کول باید یوازې هغه وخت پیل شي کله چې د سبسټریټ کیریر د کوټینګ ټاکل شوي زون ته ننوځي او یو مستحکم حرکت حالت ته ورسیږي. کله چې طبقه بشپړه شي، د سرچینې ځواک یا د شټر موقعیت ممکن د ځایی شوي اوور کوټینګ مخنیوي لپاره په ځانګړي زاویه موقعیت کې بدلون ته اړتیا ولري.
د سیارې گردش او کنټرول شوي سبسټریټ حرکت په پراخه کچه د دقیق نظري کوټینګ تجهیزاتو کې کارول کیږي ترڅو د سبسټریټ سطحې په اوږدو کې د ضخامت ویش او تکرار وړتیا ښه کړي.
د لویې ساحې شیشې، سیمیکمډکټر ویفرونو، انعطاف منونکي سبسټریټونو، او دوامداره ویب موادو لپاره، د حرکت ثبات د فلم ضخامت کنټرول لوپ برخه ګرځي. د ټرانسپورټ سرعت، د ډرم تودوخې، ویب فشار، د کیریر فاصله، یا د تمځای موقعیت کې بدلونونه ممکن د ضخامت انحراف، د رنګ توپیر، د شیټ غیر یونیفورم مقاومت، یا غیر متناسب نظري فعالیت پایله ولري.
د تودوخې مدیریت باید د سبسټریټ حرکت سره همغږی شي. د تبخیر سرچینو څخه وړانګې، د ایون بمباري، د پلازما تودوخه، او د کنډیشن انرژي کولی شي د اوږدې څو پوړیزې پروسې په جریان کې د سبسټریټ تودوخې په تدریجي ډول لوړیدو لامل شي. که چیرې تجهیزات یوازې د هیټر محصول کنټرول کړي پرته لدې چې د راټول شوي پروسې تودوخې په پام کې ونیسي، د سبسټریټ اصلي تودوخه ممکن د ترکیب سیټ پوائنټ څخه د پام وړ انحراف وکړي.
له همدې امله، سیسټم باید د ټول سټیک د تودوخې بودیجې سره سم تودوخه، یخ کول، د سبسټریټ حرکت، د زیرمو ځواک، او د انتظار دورې همغږي کړي. د تودوخې کنټرول شوي ډرمونه، د شا اړخ یخ کول، د کیریر یخ کول، د تودوخې پروفایلونه، او د پرت یخولو مرحلې ممکن د تودوخې حساس سبسټریټ یا د تودوخې حساس فلم جوړښتونو لپاره اړین وي.
په ساحه کې څارنه ډیزاین شوی سټیک د زیرمه شوي سټیک سره نښلوي
د څو پوړیز فلم ډیزاین د هر طبقې نظریاتي ضخامت، انعکاس شاخص، جوړښت او ترتیب تعریفوي. تجهیزات باید دا ډیزاین د تولید شرایطو بدلولو لاندې په ریښتیني کوټینګ سټیک بدل کړي.
د زیرمو کچه ممکن د هدف له منځه تللو سره توپیر ولري، د تبخیر سرچینه جیومیټري بدلوي، د چیمبر شیلډونه پوښ راټولوي، یا د تعامل وړ ګاز شرایط تیریږي. له همدې امله، یوازې د ټاکل شوي وخت په کارولو سره د هرې طبقې کنټرول ممکن په تدریجي ډول د تیوریکي او اصلي سټیک ترمنځ توپیر زیات کړي.
د کوارټز کرسټال مایکرو بیلانسونه عموما د زیرمو کچه او جمع شوي فزیکي ضخامت څارلو لپاره کارول کیږي. د څو پوړونو آپټیکل کوټینګونو لپاره، مستقیم آپټیکل څارنه کولی شي د ودې فلم د آپټیکل غبرګون په اړه اضافي معلومات چمتو کړي. د سیسټم پورې اړه لري، لیږد، انعکاس، یا براډبنډ سپیکٹرل غبرګون ممکن په وضعیت کې اندازه شي.
نظري څارنه په ځانګړي ډول ارزښتناکه ده ځکه چې د نظري سټیک وروستۍ فعالیت یوازې د جیومیټریک ضخامت پرځای په نظري ضخامت پورې اړه لري. سیسټم کولی شي هر پرت د خپل اندازه شوي نظري غبرګون سره سم پای ته ورسوي او په ډیرو پرمختللو ستراتیژیو کې، د راتلونکو پرتونو ضخامت تنظیم کولو سره د کوچنیو انحرافاتو لپاره تاوان ورکړي.
عصري نظري څارنې سیسټمونه کولی شي د څرخیدونکي سبسټریټ هولډرونو په مستقیم ډول د څو پوړونو وده اندازه کړي او د انفرادي طبقو لپاره د پای ټکی کنټرول چمتو کړي.
د کنډکټیو، سیمیکمډکټر، او انرژۍ پورې اړوند کوټینګونو لپاره، د موقعیت دننه څارنه ممکن سپیکٹروسکوپیک ایلیپسومیټري، د پلازما اخراج سپیکٹروسکوپي، د پاتې ګاز تحلیل، د شیټ مقاومت اندازه کول، یا نور د پروسې ځانګړي سینسرونه شامل وي. د څارنې طریقه باید د هغه فعالیت ځانګړتیا سره سم غوره شي چې د پروسې توپیر سره خورا حساس وي.
د څارنې یو باوري سیسټم د سینسر نصبولو څخه ډیر څه ته اړتیا لري. د سینسر موقعیت، د وسایلو فکتور، نظري لاره، د سیګنال فلټر کول، د کیلیبریشن فریکونسي، د شټر وخت، او د معلوماتو همغږي کول ټول د اندازه کولو دقت اغیزه کوي. کنټرولر باید د نورمال سیګنال بدلونونو ترمنځ توپیر وکړي چې د طبقې ودې له امله رامینځته کیږي او د پلازما بدلون، د سینسر پوښښ، د سرچینې بې ثباتۍ، یا د سبسټریټ حرکت له امله رامینځته شوي غیر معمولي بدلونونه.
د کنټرول تر ټولو اغېزمنه ستراتیژي معمولا د فیډ فارورډ او فیډبیک منطق سره یوځای کوي. د فیډ فارورډ کنټرول د لومړني پیرامیټر ترتیباتو د ټاکلو لپاره د کیلیبریټ شوي پروسې ماډلونه، د هدف ژوند جبران، او پیژندل شوي چیمبر شرایط کاروي. د فیډبیک کنټرول بیا د زیرمه کولو پرمهال د انحرافاتو سمولو لپاره د ریښتیني وخت اندازه کولو څخه کار اخلي.
د انٹرفیس مدیریت دا ټاکي چې ایا انفرادي پرتونه یو فعال سټیک کیږي
د دوو طبقو ترمنځ اړیکه اکثرا د هرې طبقې د بلک ځانګړتیاو په پرتله ډیره مهمه وي. چپکیدل، انټرفیوژن، اکسیډیشن، ناهمواروالی، د جالیو بې اتفاقي، ککړتیا، او د فشار لیږد ټول په انٹرفیس کې واقع کیږي.
که چیرې د مخکینۍ طبقې سطحه ککړه وي یا په کیمیاوي لحاظ بې ثباته وي، نو راتلونکی طبقه ممکن ضعیف نیوکلیشن یا ضعیف اړیکه ښکاره کړي. که چیرې د انرژي لرونکي ایون بمباري ډیره قوي وي، نو دا ممکن کثافت ښه کړي مګر د تنفس کولو، انٹرفیس مخلوط کولو، عیبونو رامینځته کیدو، یا ډیر فشاري فشار لامل هم شي. که چیرې دا ډیره کمزورې وي، نو پوښ ممکن یو سوری یا ستوني جوړښت رامینځته کړي.
له همدې امله تجهیزات باید د سبسټریټ تعصب، د ایون سرچینې ځواک، پلازما کثافت، د سبسټریټ تودوخې، او د لیږد وخت د پرت ځانګړي کنټرول چمتو کړي. دا پیرامیټرې باید د ټولې څو پرتې پروسې په اوږدو کې بدلې نه شي.
د چپکونکې طبقه ممکن د سطحې قوي فعالولو او نسبتا لوړ ایون مرستې ته اړتیا ولري. یو حساس آپټیکل طبقه ممکن د جذب او انٹرفیس مخلوط کمولو لپاره ټیټ ایون انرژي ته اړتیا ولري. یو سخت محافظتي طبقه ممکن د کافي کثافت او سختۍ ترلاسه کولو لپاره د پلازما کثافت یا تعصب زیاتوالي ته اړتیا ولري. د ټیټ سطحې انرژۍ ټاپ کوټ ممکن د سبسټریټ ټیټ تودوخې او په احتیاط سره کنټرول شوي مخکیني تحویلي ته اړتیا ولري.
د طبقې دننه ناهمواروالی هم د سټېک له لارې خپریدلی شي. کله چې د سطحې نیمګړتیاوې یا د غوټۍ وده پیل شي، نو وروسته طبقې ممکن دوی پراخ کړي. له همدې امله دا پروسه باید د ذراتو تولید، د قوس فشار، د سرچینې پاکوالی، د فکسچر ککړتیا، او د لومړۍ طبقې څخه وروسته د پوښ حالت کنټرول کړي.
د نانومیټر پیمانه څو پوړونو لپاره، د انٹرفیس ناهموارۍ او د پرتونو جوړښت کولی شي په مستقیم ډول نظري یا بریښنایی فعالیت اغیزمن کړي، د سرچینې ثبات، د حرکت دقت، او د انٹرفیس کنټرول د تجهیزاتو ډیزاین څخه جلا کیدونکی نه ګرځیدونکی کوي.
د فشار مدیریت باید په ټول سټک کې هم په پام کې ونیول شي. هر مواد ممکن د زیرمو فشار، ایون انرژي، تودوخې، مایکرو جوړښت او ضخامت پورې اړه ولري چې کشش یا فشاري فشار رامینځته کړي. حتی کله چې د هرې انفرادي طبقې فشار د منلو وړ وي، د ګڼ څو طبقې جوړښت جمع شوی فشار ممکن د خرابوالي، درزیدو، پوستکي کولو، یا نظري تحریف لامل شي.
له همدې امله د تجهیزاتو ترکیب باید د طبقو ترتیب، د زیرمو انرژي، د تودوخې پروفایل، ضخامت ویش، او د یخولو شرایط متوازن کړي. په ځینو غوښتنلیکونو کې، د فشار جبران پرتونه یا درجه بندي شوي انٹرفیسونه ممکن د ساختماني ثبات ښه کولو لپاره معرفي شي.
د ترکیب تنظیم د پروسې پوهه په تکراري تولید بدلوي
د څو پوړیزو زیرمو بشپړ همغږۍ منطق په نهایت کې د پروسې ترکیب او اتومات کنټرول جوړښت له لارې پلي کیږي.
د څو پوړیزه ترکیب باید یوازې د طبقو نومونه، د زیرمه کولو وخت، د ګاز جریان، او د بریښنا ترتیبات ونه لري. دا باید د تجهیزاتو بشپړ حالت لیږد تعریف کړي، پشمول د پمپ کولو شرایط، د اساس فشار وړتیا، د سرچینې کنډیشن، د سبسټریټ تودوخه، د پلازما پاکول، د ګاز ثبات، د بریښنا ریمپینګ، د شټر عملیات، د حرکت همغږي کول، د پای ټکی کشف، د پرت لیږد، یخ کول، وینټینګ، او انلوډ کول.
هر عملیات باید د پروسې شرایطو سره وصل شي نه یوازې د تیر شوي وخت سره. د مثال په توګه، زیرمه کول باید یوازې د پمپ کولو ټایمر پای ته رسیدو له امله پیل نشي. سیسټم باید تایید کړي چې فشار، د لیکیدو کچه، د سبسټریټ تودوخه، د یخولو اوبو حالت، او د سرچینې چمتووالی اړین شرایط پوره کوي.
په ورته ډول، بل طبقه باید د پخوانۍ سرچینې له بندیدو وروسته سمدلاسه پیل نشي. کنټرولر ممکن اړتیا ولري چې تایید کړي چې پخوانی ګاز خالي شوی، د ګاز نوی جریان مستحکم دی، هدف د تویولو دمخه بشپړ شوی، او سبسټریټ سم موقعیت او تودوخې ته رسیدلی دی.
د ترکیب نسخې کنټرول د ډله ایز تولید لپاره هم مهم دی. د بریښنا، فشار، ګاز جریان، د طبقې ضخامت، تعصب ولتاژ، یا د پای ټکي معیارونو کې بدلونونه باید ثبت شي او د اړونده تولید بیچ سره وصل شي. دا د دې امکان برابروي چې د فلم فعالیت توپیر بیرته د تجهیزاتو پیرامیټرو او پروسې بدلونونو ته تعقیب شي.
د هغو محصولاتو لپاره چې ډیری مشخصات لري، تجهیزات باید د ماډلر ترکیب جوړښتونو ملاتړ وکړي. عام عملیات لکه پمپ کول، د پلازما پاکول، د چپکولو پرت جمع کول، یا یخ کول د بیا کارونې وړ پروسې ماډلونو په توګه تنظیم کیدی شي، پداسې حال کې چې د محصول ځانګړي پرت سټیکونه په جلا توګه کنټرول کیږي.
د اتوماتیک سیسټم باید د اوسني طبقې سره سم غیر معمولي شرایط هم اداره کړي. د یو موټی فلزي طبقې په جریان کې د قوس یوه لنډه پیښه ممکن د اتوماتیک قوس فشار او دوامداره زیرمه کولو له لارې اداره شي. د نانومیټر پیمانه آپټیکل طبقې په جریان کې ورته پیښه ممکن سیسټم ته اړتیا ولري چې طبقه ودروي، تاوان ورکړي، تکرار کړي، یا د تفتیش لپاره بیچ په نښه کړي.
دا د طبقې په اړه پوهاوی لرونکی استثنا اداره کولو منطق د اساسي ماشین اتومات کولو او د ریښتینې پروسې اتومات کولو ترمنځ یو مهم توپیر دی.
د انفرادي تجهیزاتو ثبات څخه تر بشپړ سټیک تسلسل پورې
د تجهیزاتو د همغږۍ وروستۍ موخه یوازې د پروسې هر ګام په اتوماتيک ډول بشپړول ندي، بلکې دا ډاډ ترلاسه کول دي چې زیرمه شوي څو پوړیز سټیک په دوامداره توګه ډیزاین شوي فعال فعالیت بیا تولیدوي.
دا په څلورو کچو کې همغږۍ ته اړتیا لري. لومړی د ویکیوم پمپونو، والوزونو، بریښنا رسولو، ګاز سیسټمونو، سرچینو، هیټرونو، حرکت میکانیزمونو، سینسرونو او یخولو سرکټونو ترمنځ د هارډویر همغږي ده. دوهم د پاکولو، فعالولو، زیرمه کولو، غبرګون، لیږد او یخولو ترمنځ د پروسې همغږي ده. دریم د ترکیبونو، سینسر سیګنالونو، الارم ریکارډونو، د پای ټکي پایلو، او د کیفیت اندازه کولو ترمنځ د معلوماتو همغږي ده. څلورم د ژوند دورې همغږي ده، پشمول د هدف تخریب، د سرچینې ساتنه، د چیمبر پاکول، د سینسر کیلیبریشن، د فکسچر حالت، او د پروسې جبران.
لکه څنګه چې فعال پوښښونه ډیر پیچلي کیږي، د تجهیزاتو وړتیا به په زیاتیدونکي توګه د بشپړ فلم سټیک کنټرول کولو وړتیا لخوا ارزول کیږي نه د یوې واحد زیرمې سرچینې پرځای. مهمې پوښتنې به نور محدود نه وي چې ایا ماشین کولی شي یو ځانګړی مواد زیرمه کړي. تولید کونکي به دا هم وښيي چې ایا تجهیزات کولی شي د انٹرفیس کیفیت وساتي، راټول شوي فشار کنټرول کړي، د کراس ککړتیا کم کړي، د سرچینې ډرافټ لپاره تاوان ورکړي، د طیف یا بریښنایی فعالیت بیا تولید کړي، او د بیچ څخه بیچ ثبات ترلاسه کړي.
له همدې امله د څو پوړونو فعال فلم زیرمه کول د تجهیزاتو جوړښت او د پروسې انجینرۍ ترمنځ همغږي تعامل دی. د ویکیوم ثبات د چاپیریال بنسټ چمتو کوي، د سرچینې او بریښنا همغږي د موادو تحویلي ټاکي، د ګاز کنټرول جوړښت تنظیموي، د سبسټریټ حرکت د ځایي یووالي ټاکي، د تودوخې او تعصب کنټرول د فلم وده اغیزه کوي، او په ساحه کې څارنه د ډیزاین شوي پرت سټیک سره د اصلي کوټینګ پایله سره نښلوي.
یوازې هغه وخت چې دا فرعي سیسټمونه د یوې متحدې پروسې کنټرول ستراتیژۍ لاندې کار وکړي، ډیری انفرادي پرتونه کولی شي یو باثباته، تکرار کیدونکی، او په ډله ایز ډول تولید کیدونکی فعال فلم سیسټم شي.
- دا مقاله د لخوا خپره شوې دهد ویکیوم کوټینګ تجهیزاتو جوړونکید ژینهوا ویکیوم
د پوسټ وخت: جولای-۱۶-۲۰۲۶