Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd မှ ကြိုဆိုပါတယ်။
စက်မှုသတင်း
-
မာကျောသောအပေါ်ယံပိုင်းအမျိုးအစားများ
TiN သည် ခိုင်ခံ့မှုမြင့်မားခြင်း၊ မာကျောခြင်းနှင့် ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းစသည့် အားသာချက်များဖြင့် ဖြတ်တောက်ရာတွင် အသုံးပြုသည့် အစောဆုံး hard coating ဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် ပထမဆုံးစက်မှုလုပ်ငန်းနှင့် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသော hard coating material ဖြစ်ပြီး coated tools နှင့် coated မှိုများတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည်။ TiN hard coating ကို ကနဦး 1000 ℃ တွင် အပ်နှံခဲ့သည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Plasma Surface Modification ၏ လက္ခဏာများ
စွမ်းအင်မြင့်မားသော ပလာစမာသည် ပိုလီမာပစ္စည်းများကို ဗုံးကြဲနိုင်ပြီး ၎င်းတို့၏ မော်လီကျူးကွင်းဆက်များကို ချိုးဖျက်ကာ တက်ကြွသောအုပ်စုများဖွဲ့စည်းခြင်း၊ မျက်နှာပြင်စွမ်းအင်ကို တိုးမြင့်စေပြီး အက်ကြောင်းများကို ထုတ်ပေးနိုင်သည်။ ပလာစမာမျက်နှာပြင် ကုသမှုသည် အစုလိုက်ပစ္စည်း၏ အတွင်းပိုင်းဖွဲ့စည်းပုံနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို မထိခိုက်စေဘဲ သိသိသာသာ ဂ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Small Arc Source Ion Coating ၏ လုပ်ငန်းစဉ်
cathodic arc source ion coating ၏လုပ်ငန်းစဉ်သည် အခြေခံအားဖြင့် အခြားသော coating နည်းပညာများနှင့် အတူတူပင်ဖြစ်ပြီး workpieces တပ်ဆင်ခြင်းနှင့် vacuuming ကဲ့သို့သော အချို့သောလုပ်ဆောင်ချက်များသည် ထပ်ခါတလဲလဲ မရှိတော့ပါ။ 1.Bombardment of cleaning of workpieces ကို အပေါ်ယံမလိမ်းမီ၊ အာဂွန်ဓာတ်ငွေ့ကို အပေါ်ယံခန်းထဲသို့ ထည့်ပေးသည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Arc Electron Flow ၏ လက္ခဏာများနှင့် မျိုးဆက်နည်းလမ်းများ
1. Arc အလင်းအီလက်ထရွန် စီးဆင်းမှု လက္ခဏာများ အီလက်ထရွန် စီးဆင်းမှု၊ အိုင်းယွန်း စီးဆင်းမှုနှင့် စွမ်းအင်မြင့်မားသော ကြားနေအက်တမ်များ ၏ သိပ်သည်းဆသည် arc ပလာစမာမှ ထုတ်ပေးသော တောက်ပသော အထွက်နှုန်းထက် များစွာ မြင့်မားသည်။ ဓာတ်ငွေ့အိုင်းယွန်းများနှင့် သတ္တုအိုင်းယွန်းများ အိုင်ယွန်များ ပိုများပြီး၊ စိတ်လှုပ်ရှားဖွယ်ရာ စွမ်းအင်မြင့် အက်တမ်များနှင့် အမျိုးမျိုးသော တက်ကြွသည့် gro...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Plasma Surface Modification ၏ အပလီကေးရှင်းနယ်ပယ်များ
1) ပလာစမာမျက်နှာပြင် ပြုပြင်မွမ်းမံမှုသည် အဓိကအားဖြင့် စက္ကူ၊ အော်ဂဲနစ်ရုပ်ရှင်များ၊ အထည်အလိပ်များနှင့် ဓာတုအမျှင်များ၏ အချို့သော ပြုပြင်မွမ်းမံမှုများကို ရည်ညွှန်းသည်။ အထည်အလိပ်ပြုပြင်မွမ်းမံမှုအတွက် ပလာစမာအသုံးပြုမှုသည် တက်ကြွလှုပ်ရှားသူများအသုံးပြုရန်မလိုအပ်ဘဲ ကုသမှုလုပ်ငန်းစဉ်သည် အမျှင်များကိုယ်တိုင်၏ဝိသေသလက္ခဏာများကိုမထိခိုက်စေပါ။ ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
optical ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များတွင်အိုင်းယွန်းအလွှာကိုအသုံးပြုခြင်း။
မျက်မှန်များ၊ ကင်မရာမှန်ဘီလူးများ၊ မိုဘိုင်းလ်ဖုန်းကင်မရာများ၊ မိုဘိုင်းလ်ဖုန်းများ၊ ကွန်ပျူတာများနှင့် ရုပ်မြင်သံကြားများအတွက် LCD ဖန်သားပြင်များ၊ LED မီးချောင်းများ၊ biometric ကိရိယာများ၊ မော်တော်ကားနှင့် အဆောက်အဦများရှိ စွမ်းအင်ချွေတာသော ပြတင်းပေါက်များအထိ ကျယ်ပြန့်စွာ အသုံးချခြင်းမှာ အလွန်ကျယ်ပြန့်ပါသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
သတင်းအချက်အလက်ပြသရုပ်ရှင်များနှင့် အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာ
1. သတင်းအချက်အလက်ပြသသည့်ဖလင်အမျိုးအစား TFT-LCD နှင့် OLED ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များအပြင် သတင်းအချက်အလက်ပြသမှုတွင် ဝိုင်ယာလျှပ်ကူးပစ္စည်းရုပ်ရှင်များနှင့် ဖန်သားပြင်ပေါ်ရှိ ဖောက်ထွင်းမြင်ရသော pixel လျှပ်ကူးပစ္စည်းရုပ်ရှင်များပါ၀င်ပါသည်။ အဆိုပါအပေါ်ယံပိုင်းလုပ်ငန်းစဉ်သည် TFT-LCD နှင့် OLED မျက်နှာပြင်တို့၏ အဓိကလုပ်ငန်းစဉ်ဖြစ်သည်။ စဉ်ဆက်မပြတ်အစီအစဉ်နှင့်အတူ ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဖုန်စုပ်စက်၏ အငွေ့ပျံခြင်းဆိုင်ရာ ဥပဒေသသည် ဖလင်အလွှာ
အငွေ့ပျံမှုအပေါ်ယံပိုင်းအတွင်း၊ ဖလင်အလွှာ၏ နျူကလိယနှင့် ကြီးထွားမှုသည် အမျိုးမျိုးသော အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံနည်းပညာ၏ အခြေခံများဖြစ်သည် 1.Nucleation လေဟာနယ်တွင် အငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာတွင်၊ ဖလင်အမှုန်များသည် အက်တမ်ပုံသဏ္ဍာန်ရှိ အငွေ့ပျံခြင်းအရင်းအမြစ်မှ အငွေ့ပျံသွားပြီးနောက် ၎င်းတို့သည် w...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ပိုမိုကောင်းမွန်သော glow discharge ion coating နည်းပညာ၏ ဘုံအင်္ဂါရပ်များ
1. workpiece bias နိမ့်သည် ionization နှုန်းကို တိုးမြှင့်ရန် ကိရိယာတစ်ခု ပေါင်းထည့်ခြင်းကြောင့်၊ discharge current density တိုးလာပြီး ဘက်လိုက်ဗို့အား 0.5~1kV သို့ လျှော့ချသည်။ စွမ်းအင်မြင့်မားသော အိုင်းယွန်းများ အလွန်အကျွံ ဗုံးကြဲခြင်းကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသော backsputtering နှင့် workpiece surf ပေါ်တွင် ထိခိုက်မှုရှိသော...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Cylindrical ပစ်မှတ်များ၏ အားသာချက်များ
1) Cylindrical ပစ်မှတ်များသည် Planar ပစ်မှတ်များထက် အသုံးချမှုနှုန်း မြင့်မားသည်။ coating လုပ်ငန်းစဉ်တွင်၊ rotary magnetic type သို့မဟုတ် rotary tube အမျိုးအစား cylindrical sputtering target သည် ပစ်မှတ်ပြွန်၏ မျက်နှာပြင်၏ အစိတ်အပိုင်းအားလုံးကို အရှေ့ဘက်မှ ထုတ်ပေးသော sputtering area မှတဆင့် ဆက်တိုက်ဖြတ်သန်းသွားပါသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ပလာစမာတိုက်ရိုက်ပိုလီမာ ဖြစ်စဉ်
Plasma direct polymerization လုပ်ငန်းစဉ် Plasma polymerization ၏လုပ်ငန်းစဉ်သည် internal electrode polymerization equipment နှင့် external electrode polymerization equipment နှစ်ခုလုံးအတွက် အတော်လေးရိုးရှင်းသော်လည်း၊ parameters များသည် Plasma polymerization တွင်ပိုမိုအရေးကြီးပါသည်၊ အကြောင်းမှာ parameters များသည် ကြီးမားသောကြောင့်ဖြစ်သည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Hot wire arc သည် ပလာစမာ ဓာတု အခိုးအငွေ့များ ထုတ်လွှတ်မှု နည်းပညာကို မြှင့်တင်ပေးသည်။
hot wire arc မြှင့်တင်ထားသော ပလာစမာ ဓာတုအငွေ့ပျံခြင်းနည်းပညာသည် hot wire arc PECVD နည်းပညာအဖြစ် အတိုကောက်ဖြစ်သော arc ပလာစမာကို ထုတ်လွှတ်ရန်အတွက် ပူဝိုင်ယာဂန်းဂန်းကို အသုံးပြုထားသည်။ ဤနည်းပညာသည် hot wire arc gun ion coating နည်းပညာနှင့် ဆင်တူသော်လည်း ခြားနားချက်မှာ ဟိုကရရှိသော အခဲဖလင်သည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Hard Coatings Depositing အတွက် သမားရိုးကျ နည်းပညာများကို မိတ်ဆက်ခြင်း။
1. Thermal CVD နည်းပညာ Hard coatings များသည် အများအားဖြင့် metal ceramic coatings (TiN, etc.) ဖြစ်ပြီး coating တွင် metal ၏ တုံ့ပြန်မှုနှင့် reactive gasification ဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားပါသည်။ ပထမဦးစွာ၊ အပူစွမ်းအင် CVD နည်းပညာကို အပူစွမ်းအင်ဖြင့် ပေါင်းစပ်တုံ့ပြန်မှု၏ လှုံ့ဆော်မှုစွမ်းအင်ကို ပေးစွမ်းရန်အတွက် အသုံးပြုခဲ့သည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Resistance evaporation source coating ဆိုတာ ဘာလဲ။
Resistance evaporation source coating သည် အခြေခံ vacuum evaporation coating method တစ်ခုဖြစ်သည်။ “ရေငွေ့ပျံခြင်း” ဆိုသည်မှာ လေဟာနယ်ခန်းရှိ အပေါ်ယံပစ္စည်းကို အပူပေးပြီး အငွေ့ပျံစေသည့် ပါးလွှာသော ဖလင်ပြင်ဆင်မှုနည်းလမ်းကို ရည်ညွှန်းပြီး ပစ္စည်းအက်တမ် သို့မဟုတ် မော်လီကျူးများမှ အငွေ့ပျံပြီး လွတ်သွားစေရန် ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Cathodic Arc Ion Plating နည်းပညာကို မိတ်ဆက်ခြင်း။
cathodic arc ion coating နည်းပညာသည် cold field arc discharge နည်းပညာကို အသုံးပြုထားသည်။ coating field တွင် cold field arc discharge နည်းပညာကို အစောဆုံး အသုံးချခြင်းမှာ United States ရှိ Multi Arc ကုမ္ပဏီမှ ဖြစ်သည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်၏ အင်္ဂလိပ်အမည်မှာ arc ionplating (AIP) ဖြစ်သည်။ Cathode arc ion coatin...ပိုပြီးဖတ်ပါ
