Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd မှ ကြိုဆိုပါတယ်။
စက်မှုသတင်း
-
RF Sputtering Coating ၏ အဓိကအင်္ဂါရပ်များ
A. မြင့်မားသော sputtering နှုန်း။ ဥပမာအားဖြင့်၊ SiO2 ကို sputtering လုပ်သောအခါ၊ deposition rate သည် 200nm/min အထိ၊ များသောအားဖြင့် 10~100nm/min အထိရှိသည်။ ရုပ်ရှင်ဖန်တီးမှုနှုန်းသည် မြင့်မားသောကြိမ်နှုန်းပါဝါနှင့် တိုက်ရိုက်အချိုးကျပါသည်။ B. ဖလင်နှင့် အလွှာအကြား ကပ်ငြိမှုသည် ဖုန်စုပ်စက်ထက် ပိုများသည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ကားမီးအိမ်ရုပ်ရှင်ထုတ်လုပ်ရေး Coating လိုင်းများ
ကားမီးအိမ်ရုပ်ရှင်ထုတ်လုပ်ရေးလိုင်းများသည် မော်တော်ကားထုတ်လုပ်ရေးလုပ်ငန်း၏ မရှိမဖြစ်အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤထုတ်လုပ်ရေးလိုင်းများသည် ကားမီးအိမ်၏ လှပမှုနှင့် လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းကို မြှင့်တင်ရာတွင် အရေးပါသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်သည့် ကားမီးအိမ်များကို ဖုံးအုပ်ခြင်းနှင့် ထုတ်လုပ်ခြင်းများအတွက် တာဝန်ရှိပါသည်။ အရည်အသွေးမြင့် လိုအပ်ချက်အရ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Magnetron Sputtering တွင် သံလိုက်စက်ကွင်း၏ အခန်းကဏ္ဍ
Magnetron sputtering တွင် အဓိကအားဖြင့် discharge plasma transport၊ target etching၊ thin film deposition နှင့် အခြားသော process များပါဝင်သည်၊ magnetron sputtering process ပေါ်ရှိ သံလိုက်စက်ကွင်းသည် သက်ရောက်မှုရှိမည်ဖြစ်သည်။ magnetron sputtering system နှင့် orthogonal magnetic field တွင် အီလက်ထရွန်များသည် th ၏ လက်အောက်ခံဖြစ်သည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Pumping System ၏ ဖုန်စုပ်စက် လိုအပ်ချက်များ
ပန့်စနစ်ရှိ ဖုန်စုပ်စက်တွင် အောက်ဖော်ပြပါ အခြေခံလိုအပ်ချက်များ ရှိသည်- (၁) ဖုန်စုပ်စနစ်တွင် လုံလောက်သော ကြီးမားသော စုပ်ထုတ်နှုန်းရှိသင့်သည်၊ ၎င်းသည် အလွှာနှင့် အငွေ့ပျံသွားသော ပစ္စည်းများမှထွက်ရှိသော ဓာတ်ငွေ့များနှင့် လေဟာနယ်အတွင်းရှိ အစိတ်အပိုင်းများကို လျင်မြန်စွာ စုပ်ထုတ်သင့်သည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
လက်ဝတ်ရတနာ PVD အပေါ်ယံပိုင်းစက်
လက်ဝတ်ရတနာ PVD အပေါ်ယံပိုင်းစက်သည် လက်ဝတ်ရတနာအပိုင်းအစများပေါ်တွင် ပါးလွှာသော်လည်း တာရှည်ခံအလွှာကို လိမ်းရန် Physical Vapor Deposition (PVD) ဟုခေါ်သော လုပ်ငန်းစဉ်ကို အသုံးပြုသည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်တွင် လေဟာနယ်ပတ်ဝန်းကျင်တွင် အငွေ့ပျံသွားသည့် သန့်စင်မြင့်၊ အစိုင်အခဲသတ္တုပစ်မှတ်များကို အသုံးပြုခြင်း ပါဝင်သည်။ ထို့နောက် ထွက်ပေါ်လာသော သတ္တုငွေ့သည် ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
အသေးစား Flexible Pvd ဖုန်စုပ်စက်
သေးငယ်သောပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ် PVD ဖုန်စုပ်စက်များ၏ အဓိကအားသာချက်များထဲမှတစ်ခုမှာ ၎င်းတို့၏ ဘက်စုံအသုံးပြုနိုင်မှုဖြစ်သည်။ ဤစက်များသည် အလွှာအရွယ်အစားနှင့် ပုံသဏ္ဍာန်အမျိုးမျိုးကို လိုက်လျောညီထွေဖြစ်စေရန်အတွက် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားပြီး အသေးစား သို့မဟုတ် စိတ်ကြိုက်ထုတ်လုပ်သည့်လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် စံပြဖြစ်စေပါသည်။ ထို့အပြင် ၎င်း၏ ကျစ်လျစ်သော အရွယ်အစားနှင့် လိုက်လျောညီထွေ ဖြစ်အောင်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဖြတ်တောက်ခြင်း ကိရိယာများ ဖုန်စုပ်စက်
တိုးတက်ပြောင်းလဲနေသော ကုန်ထုတ်လုပ်ငန်းတွင် ကျွန်ုပ်တို့နေ့စဉ်အသုံးပြုနေသော ထုတ်ကုန်များကို ပုံသွင်းရာတွင် ဖြတ်တောက်သည့်ကိရိယာများသည် အရေးကြီးသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ အာကာသစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် တိကျစွာဖြတ်တောက်ခြင်းမှသည် ဆေးဘက်ဆိုင်ရာနယ်ပယ်တွင် ရှုပ်ထွေးသောဒီဇိုင်းများအထိ၊ အရည်အသွေးမြင့်ဖြတ်တောက်ခြင်းကိရိယာများအတွက် လိုအပ်ချက်သည် ဆက်လက်မြင့်တက်လျက်ရှိသည်။ ဒီတောင်းဆိုချက်တွေကို ဖြည့်ဆည်းဖို့ ကျွန်တော်တို့...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဖလင်အလွှာ/အလွှာမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်း၏ သက်ရောက်မှု
အမြှေးပါးအက်တမ်များ အပ်နှံမှုစတင်သောအခါ၊ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်းသည် အမြှေးပါး/အလွှာမျက်နှာပြင်အပေါ်တွင် အောက်ပါအကျိုးသက်ရောက်မှုများရှိသည်။ (၁) ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာရောစပ်ခြင်း။ စွမ်းအင်မြင့်မားသော အိုင်းယွန်းထိုးဆေး၊ အက်တမ်များ အက်တမ်များပေါက်ထွက်ခြင်းနှင့် မျက်နှာပြင်အက်တမ်များနှင့် ကက်စကိတ်တိုက်မှုဖြစ်စဉ်ကြောင့်၊ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Vacuum Sputtering Coating Revival and Development
Sputtering ဆိုသည်မှာ ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၏မျက်နှာပြင်ရှိ အက်တမ်များ (သို့မဟုတ် မော်လီကျူးများ) ကို အစိုင်အခဲတစ်ခု၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်သို့ ထိမှန်စေသည့် ဖြစ်စဉ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ဒီဖြစ်စဉ်ကို Grove က 1842 ခုနှစ်မှာ ရှာဖွေတွေ့ရှိခဲ့တာပါ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
magnetron sputtering coating ၏ လက္ခဏာများ အခန်း ၂
magnetron sputtering coating ၏လက္ခဏာများ (၃) စွမ်းအင်နည်းသော sputtering။ ပစ်မှတ်သို့ သက်ရောက်သည့် cathode ဗို့အားနိမ့်ခြင်းကြောင့်၊ ပလာစမာသည် cathode အနီးရှိ အာကာသအတွင်း သံလိုက်စက်ကွင်းဖြင့် ချည်နှောင်ထားသောကြောင့် စွမ်းအင်မြင့်အားသွင်းထားသော အမှုန်အမွှားများကို ပစ်ခတ်ခံရသော လူများ၏ဘေးရှိ မြေအောက်စထရတ်ဘေးဘက်သို့ တားဆီးထားသည်။ အဆိုပါ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
magnetron sputtering coating ၏ထူးခြားချက်များ အခန်း ၁
အခြား coating နည်းပညာများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက magnetron sputtering coating သည် အောက်ပါအင်္ဂါရပ်များဖြင့် လက္ခဏာရပ်ဖြစ်သည်- အလုပ်လုပ်သော parameters များသည် coating deposition speed နှင့် thickness (coated area of the state) ကို လွယ်ကူစွာ ထိန်းချုပ်နိုင်ပြီး ဒီဇိုင်းမရှိပါ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Ion beam သည် အစစ်ခံနည်းပညာကို ကူညီပေးသည်။
Ion beam assisted deposition technology သည် ion beam injection နှင့် vapor deposition coating နည်းပညာဖြစ်ပြီး ion surface composite processing နည်းပညာဖြင့် ပေါင်းစပ်ထားသည်။ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း သို့မဟုတ် အင်ဂျင်နီယာပစ္စည်းများဖြစ်စေ အိုင်းယွန်းထိုးသွင်းပစ္စည်းများ၏ မျက်နှာပြင်ကို ပြုပြင်မွမ်းမံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် ၎င်းသည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဖုန်စုပ်စက်ကို စမ်းသပ်ပါ။
မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း ဖုန်စုပ်စက်နည်းပညာနယ်ပယ်တွင် သိသာထင်ရှားသောတိုးတက်မှုနှင့် အောင်မြင်မှုများရရှိခဲ့သည်။ လက်တွေ့စမ်းသပ်မှုနှင့် သုတေသနတွင် မမောမပန်းကြိုးစားမှုကြောင့်သာ ဖြစ်နိုင်သည်။ ဤနယ်ပယ်တွင် အသုံးပြုသည့် စက်အများအပြားတွင် စမ်းသပ်ဆဲ ဖုန်စုပ်စက်များသည် အောင်မြင်မှုအတွက် အဓိက ကိရိယာများဖြစ်သည်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
CVD နည်းပညာဆိုင်ရာ အခြေခံမူများ
CVD နည်းပညာသည် ဓာတုတုံ့ပြန်မှုအပေါ် အခြေခံသည်။ ဓာတ်ပြုပစ္စည်းများသည် ဓာတ်ငွေ့အခြေအနေတွင်ရှိပြီး ထုတ်ကုန်တစ်ခုသည် အစိုင်အခဲအခြေအနေတွင်ရှိသော တုံ့ပြန်မှုကို CVD တုံ့ပြန်မှုဟု အများအားဖြင့် ရည်ညွှန်းသောကြောင့် ၎င်း၏ဓာတုတုံ့ပြန်မှုစနစ်သည် အောက်ပါအခြေအနေသုံးခုကို ဖြည့်ဆည်းရမည်ဖြစ်သည်။ (၁) အစစ်ခံစံနှုန်းတွင်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
မျက်မှန်မှန်ဘီလူး optical vacuum coating စက်
ယနေ့ခေတ် လျင်မြန်သော ကမ္ဘာကြီးတွင် မျက်မှန်များသည် ကျွန်ုပ်တို့ဘဝ၏ အရေးပါသော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခု ဖြစ်လာခဲ့သည်။ ဤရိုးရှင်းပုံရသော အသုံးအဆောင်ပစ္စည်းများသည် လိုအပ်မှုမှ ဖက်ရှင်ဖော်ပြချက်သို့ ပြောင်းလဲလာသည်။ သို့သော်၊ ပြီးပြည့်စုံသော မျက်မှန်တစ်ရံကို ဖန်တီးရန် ရှုပ်ထွေးပွေလီသော လုပ်ငန်းစဉ်ကို လူအတော်များများ မသိကြပါ။ ဒါက w...ပိုပြီးဖတ်ပါ
