ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပြုလုပ်စဉ်အတွင်း အမှုန်စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှု၏ သြဇာလွှမ်းမိုးမှု

ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်၊ ရောက်ရှိလာသော အမှုန်များ၏ စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုသည် အလွှာကြီးထွားမှု၊ အဏုကြည့်ဖွဲ့စည်းပုံ၊ ကပ်ငြိမှု၊ သိပ်သည်းဆ၊ ကျန်ရှိသောဖိအားနှင့် နောက်ဆုံးတွင် အပေါ်ယံလွှာ၏ အလင်း၊ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာနှင့် လုပ်ဆောင်ချက်ဆိုင်ရာ စွမ်းဆောင်ရည်တို့ကို ထိခိုက်စေသော အရေးပါသောအချက်တစ်ခုဖြစ်သည်။ လုပ်ငန်းစဉ်တွင် မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတ္တာလုပ်ခြင်း၊ ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် စုပုံခြင်း၊ အီလက်ထရွန် ရောင်ခြည် အငွေ့ပျံခြင်း သို့မဟုတ် အခြား PVD နည်းပညာများ ပါဝင်သည်ဖြစ်စေ အောက်ခံလွှာသို့ ရောက်ရှိသော အမှုန်များ၏ စွမ်းအင်အခြေအနေသည် အလွှာ မည်သို့ နျူကလိယ ဖွဲ့စည်းပြီး ကြီးထွားလာသည်ကို တိုက်ရိုက်လွှမ်းမိုးသည်။

ထို့ကြောင့် အပေါ်ယံလွှာအရည်အသွေးကို အနည်ကျမှုနှုန်း သို့မဟုတ် ဖလင်အထူကို ထည့်သွင်းစဉ်းစားခြင်းဖြင့် ရိုးရှင်းစွာ အကဲဖြတ်၍မရပါ။ တည်ငြိမ်သော ဖလင်ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် တသမတ်တည်း ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းဆောင်ရည်ရရှိရန်အတွက် အမှုန်စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုကို နားလည်ခြင်းနှင့် ထိန်းချုပ်ခြင်းသည်လည်း ထပ်တူအရေးကြီးပါသည်။

၁။ Vacuum Coating မှာ အမှုန်စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုဆိုတာ ဘာလဲ။

ဖုန်စုပ်အလွှာအုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း၊ ပစ်မှတ် သို့မဟုတ် အငွေ့ပျံခြင်းရင်းမြစ်မှ ထုတ်လုပ်သော အက်တမ်များ၊ အိုင်းယွန်းများ၊ မော်လီကျူးများနှင့် အခြားမျိုးစိတ်များသည် ဖုန်စုပ်ခန်းမှတစ်ဆင့် အလွှာဆီသို့ ခရီးသွားလာကြသည်။ ဤအမှုန်များသည် အလွှာသို့ တူညီသော အရွေ့စွမ်းအင်ဖြင့် ရောက်ရှိလာရန် မလိုအပ်ပါ။ ယင်းအစား၊ ၎င်းတို့သည် စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုကို ဖွဲ့စည်းသည်။

ဖြန့်ဖြူးမှုကို သိုက်ထုတ်နည်းပညာ၊ စွန့်ထုတ်စွမ်းအား၊ အလုပ်လုပ်သောဖိအား၊ ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၊ ဓာတ်ငွေ့ပါဝင်မှု၊ အောက်ခံအလွှာဘက်လိုက်မှု၊ အရင်းအမြစ်မှ အောက်ခံအလွှာသို့ အကွာအဝေးနှင့် ပလာစမာအခြေအနေကဲ့သို့သော အချက်များဖြင့် ဆုံးဖြတ်သည်။

ဥပမာအားဖြင့်၊ မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတာရင်းတွင်၊ ပလာစမာမှ စွမ်းအင်ရှိသော အိုင်းယွန်းများသည် ပစ်မှတ်ကို ဗုံးကြဲပြီး ပစ်မှတ်အက်တမ်များကို ထုတ်လွှတ်သည်။ ထို့နောက် ဤစပတာရင်းပါသော မျိုးစိတ်များသည် အောက်ခံဆီသို့ ခရီးထွက်ပြီး ထိုနေရာတွင် ငွေ့ရည်ဖွဲ့ကာ အပေါ်ယံလွှာကို ဖွဲ့စည်းသည်။ ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် ನ್ಯಾನို ...

အမှုန်စွမ်းအင် ကွာခြားချက်များသည် မတူညီသော vacuum coating နည်းပညာများသည် သိသိသာသာ ကွဲပြားသော film structures နှင့် ဂုဏ်သတ္တိများကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည့် အခြေခံအကြောင်းရင်းများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည်။

၂။ အမှုန်စွမ်းအင်သည် ဖလင်ကြီးထွားမှုကို မည်သို့အကျိုးသက်ရောက်သည်

စုပုံထားသော အမှုန်များသည် အောက်ခံမျက်နှာပြင်သို့ ရောက်ရှိသောအခါ၊ ၎င်းတို့၏ kinetic energy သည် ၎င်းတို့သည် မျက်နှာပြင်နှင့် ယခင်က စုပုံထားသော အက်တမ်များနှင့် မည်သို့ အပြန်အလှန် သက်ရောက်မှုရှိသည်ကို ဆုံးဖြတ်ပေးသည်။

အမှုန်စွမ်းအင်နည်းပါးချိန်တွင် ရောက်ရှိလာသော မျိုးစိတ်များသည် မျက်နှာပြင်ရွေ့လျားနိုင်မှု အကန့်အသတ်ရှိသည်။ ၎င်းတို့သည် ၎င်းတို့၏ မူလဆင်းသက်ရာနေရာများနှင့် နီးကပ်စွာ ရှိနေနိုင်ပြီး ပိုမိုပွင့်လင်းသော သို့မဟုတ် အပေါက်များသော အဏုကြည့်ဖွဲ့စည်းပုံကို ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည်။ အချို့သောအခြေအနေများတွင် ၎င်းသည် တိုင်လုံးများ ကြီးထွားလာခြင်း၊ အပေါက်များ ပိုများလာခြင်းနှင့် အလွှာသိပ်သည်းဆ နည်းပါးခြင်းတို့ကို ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည်။

အမှုန်စွမ်းအင်တိုးလာသည်နှင့်အမျှ မျက်နှာပြင်နှင့် မျက်နှာပြင်အနီး ရွေ့လျားနိုင်မှု တိုးတက်ကောင်းမွန်လာနိုင်သည်။ စုပုံနေသော အက်တမ်များနှင့် အိုင်းယွန်းများသည် စွမ်းအင်ကောင်းမွန်သော နေရာများသို့ ပိုမိုရွှေ့ပြောင်းနိုင်ပြီး မျက်နှာပြင်ပျံ့နှံ့မှု၊ နျူကလီယိုဖွဲ့စည်းမှုနှင့် သိပ်သည်းဆတို့ကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။ ၎င်းသည် ပိုမိုကောင်းမွန်သော ကပ်ငြိမှုနှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများရှိသော ပိုမိုကျစ်လစ်သော အဏုကြည့်ဖွဲ့စည်းပုံကို ထုတ်လုပ်ပေးနိုင်ပါသည်။

သို့သော် အမှုန်စွမ်းအင်မြင့်မားခြင်းသည် ဖလင်စွမ်းဆောင်ရည်ပိုမိုကောင်းမွန်သည်ဟု အမြဲတမ်းမဆိုလိုပါ။ အလွန်အကျွံစွမ်းအင်ပြည့်ဝသော အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲမှုသည် တုံ့ပြန်မှုနှေးကွေးခြင်း၊ ချို့ယွင်းချက်ဖြစ်ပေါ်ခြင်း၊ အောက်ခံအပူပေးခြင်း၊ တွယ်ကပ်ခြင်းနှင့် ကျန်ရှိသောဖိအားများတိုးလာခြင်းတို့ကို ဖြစ်စေနိုင်သည်။ ထို့ကြောင့် ရည်ရွယ်ချက်မှာ အမှုန်စွမ်းအင်ကို အမြင့်ဆုံးဖြစ်စေရန်သာမက သတ်မှတ်ထားသော အောက်ခံအလွှာနှင့် အပေါ်ယံလွှာစနစ်အတွက် သင့်လျော်သော စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုကို တည်ဆောက်ရန်ဖြစ်သည်။

၃။ အမှုန်စွမ်းအင်နှင့် ဖလင်သိပ်သည်းဆကြား ဆက်နွယ်မှု

ဖလင်သိပ်သည်းဆသည် ကြီးထွားနေသော ဖလင်သို့ ပို့ဆောင်ပေးသော စွမ်းအင်နှင့် အနီးကပ် ဆက်စပ်နေသည်။

PVD လုပ်ငန်းစဉ်များစွာတွင်၊ မလုံလောက်သော စွမ်းအင်ဗုံးကြဲတိုက်ခိုက်မှုများသည် လျော့ရဲသော အဏုကြည့်ဖွဲ့စည်းပုံရှိသော အပေါ်ယံလွှာကို ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည်။ အပေါက်များနှင့် ကော်လံကြားနယ်နိမိတ်များသည် အစိုဓာတ် သို့မဟုတ် ချေးတက်နိုင်သော မီဒီယာများ ဖလင်ထဲသို့ ဝင်ရောက်ရန် လမ်းကြောင်းများကို ပံ့ပိုးပေးနိုင်ပြီး၊ ချေးတက်ခြင်းကို ခံနိုင်ရည်နှင့် ရေရှည်တည်ငြိမ်မှုကို လျော့ကျစေနိုင်သည်။

အသင့်အတင့် အိုင်းယွန်း ဗုံးကြဲတိုက်ခိုက်မှုသည် အာဒါတမ် ရွေ့လျားနိုင်မှုကို မြှင့်တင်ပေးပြီး ပိုမိုသိပ်သည်းသော ဖလင်ဖွဲ့စည်းပုံကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်သည်။ ၎င်းသည် မာကျောမှုမြင့်မားခြင်း၊ ယိုယွင်းပျက်စီးမှုဒဏ်ခံနိုင်ခြင်း၊ အတားအဆီးစွမ်းဆောင်ရည် သို့မဟုတ် တည်ငြိမ်သော အလင်းဂုဏ်သတ္တိများ လိုအပ်သော အသုံးချမှုများအတွက် အထူးအရေးကြီးပါသည်။

ဥပမာအားဖြင့်၊ မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတ္တာပြုလုပ်ခြင်းတွင်၊ ပါဝါတိုးမြှင့်ခြင်း သို့မဟုတ် သင့်လျော်သော အောက်ခံအစွန်းအထင်းကို အသုံးပြုခြင်းသည် အိုင်းယွန်းများနှင့် အခြားစွမ်းအင်ရှိသော မျိုးစိတ်များ၏ စွမ်းအင်ကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်သည်။ သို့သော်၊ အမှန်တကယ်အကျိုးသက်ရောက်မှုသည် တစ်ခုတည်းသော လုပ်ငန်းစဉ် ကန့်သတ်ချက်ထက် ပလာစမာပတ်ဝန်းကျင်တစ်ခုလုံးပေါ်တွင် မူတည်သည်။ အလုပ်လုပ်သောဖိအား၊ ပစ်မှတ်မှ အောက်ခံအကွာအဝေး၊ သံလိုက်စက်ကွင်းဖွဲ့စည်းပုံနှင့် ဓာတ်ငွေ့ဖွဲ့စည်းမှုအားလုံးသည် စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုကို လွှမ်းမိုးသည်။

ထို့ကြောင့်၊ တူညီသော nominal power သို့မဟုတ် bias voltage သည် မတူညီသော coating systems များတွင် တူညီသော particle energy distribution ကို ထုတ်လုပ်ပေးသည်ဟု မဆိုလိုပါ။

၄။ အမှုန်စွမ်းအင်နှင့် အပေါ်ယံလွှာကပ်ငြိမှု

အလွှာလွှာကပ်ငြိမှုသည် အမှုန်စွမ်းအင်ကြောင့် သက်ရောက်မှုရှိသော နောက်ထပ်အရေးကြီးသော ဂုဏ်သတ္တိတစ်ခုဖြစ်သည်။

အနည်ကျခြင်းအတွင်း စွမ်းအင်ပြည့်ဝသော အိုင်းယွန်းများသည် မျက်နှာပြင် ရောနှောမှုကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်ပြီး အနည်ကျနေသော ဖလင်နှင့် အောက်ခံကြား နှောင်ကြိုးကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေနိုင်သည်။ သင့်လျော်သော အိုင်းယွန်း ဗုံးကြဲတိုက်ခိုက်မှုသည် အားနည်းစွာ နှောင်ကြိုးဖွဲ့နေသော အညစ်အကြေးများကိုလည်း ဖယ်ရှားပေးနိုင်ပြီး ဖလင်ကြီးထွားမှု မတိုင်မီနှင့် ကြီးထွားနေစဉ်အတွင်း အောက်ခံမျက်နှာပြင်ကို အသက်ဝင်စေနိုင်သည်။

ဒါကြောင့်လည်း PVD လုပ်ငန်းစဉ်တွေမှာ ion etching နဲ့ substrate biasing တွေကို ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြုကြတာပါ။

သို့သော် အိုင်းယွန်းအလွန်အကျွံ ဗုံးကြဲခြင်းသည် ဆန့်ကျင်ဘက်အကျိုးသက်ရောက်မှုကို ဖြစ်စေနိုင်သည်။ စွမ်းအင်အလွန်အကျွံထည့်သွင်းမှုသည် မျက်နှာပြင်တွင် ချို့ယွင်းချက်များကို ဖြစ်ပေါ်စေခြင်း၊ မြင့်မားသော ကျန်ရှိသောဖိစီးမှုကို ဖြစ်ပေါ်စေခြင်း၊ အပူချိန်ထိခိုက်လွယ်သော အောက်ခံများကို ပျက်စီးစေခြင်း သို့မဟုတ် အလွန်အကျွံ တုံ့ပြန်မှုကို ဖြစ်စေနိုင်သည်။ ပလတ်စတစ်၊ အလင်းဆိုင်ရာ အစိတ်အပိုင်းများနှင့် အခြားအပူထိခိုက်လွယ်သော ပစ္စည်းများအတွက် အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်ကို ထိန်းချုပ်ခြင်းသည် အထူးအရေးကြီးပါသည်၊ အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော် အောက်ခံတွင် အပူနှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခံနိုင်ရည် အကန့်အသတ်ရှိနိုင်သောကြောင့်ဖြစ်သည်။

ထို့ကြောင့် ကောင်းမွန်သော ကပ်ငြိမှုဆိုသည်မှာ အမြင့်ဆုံး bias voltage ကို အသုံးချခြင်းမျှသာ မဟုတ်ပါ။ အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်ကို substrate ပစ္စည်း၊ ကြိုတင်ပြုပြင်မှုအခြေအနေ၊ coating architecture နှင့် လိုအပ်သော film ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် ကိုက်ညီစေရမည်။

၅။ ရုပ်ရှင်ဖိစီးမှုနှင့် အဏုကြည့်ဖွဲ့စည်းပုံအပေါ် သြဇာလွှမ်းမိုးမှု

အမှုန်စွမ်းအင်သည် အပေါ်ယံလွှာအတွင်းရှိ အတွင်းပိုင်းဖိစီးမှုအပေါ်တွင်လည်း သိသာထင်ရှားသော လွှမ်းမိုးမှုရှိသည်။

စွမ်းအင်ပြည့်ဝသော အိုင်းယွန်းများသည် ကြီးထွားလာသော အလွှာတစ်ခုကို ဗုံးကြဲသောအခါ၊ ၎င်းတို့သည် အက်တမ်ပြိုကွဲခြင်းကို ဖြစ်ပေါ်စေပြီး စုပုံနေသော ပစ္စည်း၏ ထုပ်ပိုးမှုဖွဲ့စည်းပုံကို ပြုပြင်ပေးနိုင်သည်။ သင့်လျော်သော အခြေအနေများအောက်တွင်၊ ၎င်းသည် အလွှာသိပ်သည်းဆကို တိုးမြှင့်ပေးပြီး စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ စွမ်းဆောင်ရည်ကို တိုးတက်စေနိုင်သည်။ သို့သော် အလွန်အကျွံ ဗုံးကြဲခြင်းသည် မြင့်မားသော ဖိသိပ်ကျန်သော ဖိအားကို ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည်။

ကျန်ရှိသောဖိအား မြင့်မားခြင်းသည် အထူးသဖြင့် အလွှာထူများ စုပုံနေသည့်အခါ အလွှာအက်ကွဲခြင်း၊ ပြိုကွဲခြင်း၊ ပုံပျက်ခြင်း သို့မဟုတ် အတိုင်းအတာမတည်ငြိမ်မှုကို ဖြစ်စေနိုင်သည်။

ထို့ကြောင့် အမှုန်စွမ်းအင်နှင့် ကျန်ရှိသောဖိအားကြား ဆက်နွယ်မှုသည် မျဉ်းဖြောင့်မဟုတ်ပါ။ ၎င်းသည် အိုင်းယွန်းမှ အက်တမ်သို့ စီးဆင်းမှုအချိုး၊ အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်၊ အလွှာအပူချိန်၊ အနည်ထိုင်မှုနှုန်း၊ ဖလင်ဖွဲ့စည်းမှုနှင့် ಒಟ್ಟಾರೆ အနည်ထိုင်မှုအခြေအနေများပေါ်တွင် မူတည်ပါသည်။

အလွှာများစွာပါသော အပေါ်ယံလွှာများအတွက်၊ လိုချင်သော အဏုကြည့်ဖွဲ့စည်းပုံနှင့် မျက်နှာပြင် အရည်အသွေးကို ရရှိရန် အလွှာတစ်ခုစီသည် မတူညီသော စွမ်းအင်အခြေအနေများ လိုအပ်နိုင်သောကြောင့် အကျိုးသက်ရောက်မှုသည် ပိုမိုရှုပ်ထွေးလာပါသည်။

၆။ မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတ္တာရင်းနှင့် ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် ပြိုကွဲမှုတွင် အမှုန်စွမ်းအင်

မတူညီသော PVD နည်းပညာများသည် သဘာဝအတိုင်း မတူညီသော အမှုန်စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုများကို ဖြစ်ပေါ်စေသည်။

မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတာရင်းတွင်၊ စပတာရင်းပါသော ပစ်မှတ်အက်တမ်အများစုသည် ကြားနေဖြစ်ပြီး၊ စွမ်းအင်ပြည့်ဝသော အိုင်းယွန်းအနည်းငယ်နှင့် အခြားပလာစမာမျိုးစိတ်များသည် ဖလင်ကြီးထွားမှုတွင် ပါဝင်ပါသည်။ စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုကို အလုပ်လုပ်သောဖိအား၊ အားထုတ်လွှတ်စွမ်းအား၊ အောက်ခံဘက်လိုက်မှု၊ သံလိုက်စက်ကွင်းဖွဲ့စည်းပုံနှင့် ပစ်မှတ်မှအောက်ခံသို့ ဂျီသြမေတြီတို့က လွှမ်းမိုးနိုင်သည်။

အလုပ်လုပ်သောဖိအားများ မြင့်မားသောအခါ၊ ပလာစမာအတွင်း ပွတ်တိုက်မှုများသည် အမှုန်များ အောက်ခံသို့ မရောက်မီ ပိုမိုမကြာခဏ ပြန့်ကျဲခြင်းနှင့် စွမ်းအင်ဆုံးရှုံးမှုကို ဖြစ်စေနိုင်သည်။ ဖိအားနည်းသောအခါတွင် အမှုန်များသည် ပိုမိုလွတ်လပ်စွာ သွားလာနိုင်ပြီး စွမ်းအင်မြင့်မျိုးစိတ်များစွာကို အောက်ခံသို့ ရောက်ရှိနိုင်စေပါသည်။

cathodic arc deposition တွင်၊ အငွေ့စီးဆင်းမှုတွင် kinetic energy များစွာရှိသော ionized metal species များစွာပါဝင်သည်။ ၎င်းသည် film growth အတွင်း ion bombardment အားကောင်းစေပြီး adhesion အလွန်ကောင်းမွန်သည့် သိပ်သည်းပြီး မာကျောသော အပေါ်ယံလွှာများကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ မြင့်မားသော energy plasma ပတ်ဝန်းကျင်သည် လိုအပ်သော မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးရရှိရန် substrate bias၊ arc current၊ magnetic filtering နှင့် macroparticle generation တို့ကို ထိရောက်စွာ ထိန်းချုပ်ရန် လိုအပ်သည်။

ဤကွာခြားချက်များသည် အမှုန်စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုသည် ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာနည်းပညာတစ်ခုစီ၏ အခြေခံဝိသေသလက္ခဏာများနှင့် နီးကပ်စွာ ဆက်စပ်နေကြောင်း ပြသနေပါသည်။

၇။ အလွှာဘက်လိုက်မှု၏ အရေးပါမှု

Substrate bias voltage သည် substrate တွင် ion energy ကို ပြုပြင်မွမ်းမံရန်အတွက် အထိရောက်ဆုံး process parameter များထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည်။

အနုတ်လက္ခဏာဘက်လိုက်မှုကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် ပလာစမာမှ အပေါင်းအိုင်းယွန်းများကို အလွှာဆီသို့ ဆွဲဆောင်ပြီး အိုင်းယွန်းများ စုပုံလာစေကာ အိုင်းယွန်းများ စုပုံလာစေပါသည်။ ဘက်လိုက်မှုအခြေအနေများကို ချိန်ညှိခြင်းဖြင့် ကြီးထွားနေသော အလွှာသို့ ပို့ဆောင်ပေးသော စွမ်းအင်ကို သတ်မှတ်ထားသော အတိုင်းအတာအတွင်း ထိန်းချုပ်နိုင်ပါသည်။

သင့်လျော်သော bias သည် film density၊ adhesion၊ hardness နှင့် microstructural uniformity ကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေနိုင်သည်။ သို့သော် အလွန်အကျွံ bias သည် resputtering နှင့် residual stress ကို တိုးစေသည် သို့မဟုတ် substrate ကို ပျက်စီးစေနိုင်သည်။

ဤအကြောင်းကြောင့်၊ bias voltage ကို သီးခြား parameter အဖြစ် မသတ်မှတ်သင့်ပါ။ ၎င်း၏အကျိုးသက်ရောက်မှုကို working pressure၊ plasma density၊ deposition rate၊ target power၊ substrate temperature နှင့် coating material တို့နှင့် အတူတကွ ထည့်သွင်းစဉ်းစားရမည်။

အင်ဂျင်နီယာပလတ်စတစ်၊ အလင်းအမှောင်ပိုလီမာများနှင့် အီလက်ထရွန်းနစ်အစိတ်အပိုင်းများကဲ့သို့သော အပူချိန်ထိခိုက်လွယ်သော အောက်ခံများအတွက် အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်ကို ဂရုတစိုက်ထိန်းချုပ်ခြင်းသည် အထူးအရေးကြီးပါသည်။

၈။ အမှုန်စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုနှင့် အစုလိုက်အပြုံလိုက်ထုတ်လုပ်မှု တသမတ်တည်းရှိမှု

ဓာတ်ခွဲခန်းအဆင့် အပေါ်ယံလွှာ စမ်းသပ်ချက်များတွင် တစ်ဦးချင်း လုပ်ငန်းစဉ် ကန့်သတ်ချက်များကို အကြိမ်ကြိမ် ချိန်ညှိခြင်းဖြင့် ကောင်းမွန်သော ဖလင်စွမ်းဆောင်ရည်ကို ရရှိနိုင်မည်ဖြစ်သည်။ သို့သော် အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှုတွင် စိန်ခေါ်မှုမှာ အသုတ်တစ်ခုမှ တစ်ခုသို့ တူညီသော အမှုန်စွမ်းအင်ပတ်ဝန်းကျင်ကို ထိန်းသိမ်းရန်ဖြစ်သည်။

အခန်းဖိအား၊ ပစ်မှတ်အခြေအနေ၊ ပလာစမာ impedance၊ substrate loading၊ ပစ်မှတ်အသုံးပြုမှုနှင့် fixture configuration တို့တွင် ပြောင်းလဲမှုများသည် ပလာစမာ၏ ဝိသေသလက္ခဏာများကို ပြောင်းလဲစေပြီး ထို့ကြောင့် workpieces ၏ မတူညီသောနေရာများသို့ ရောက်ရှိသော စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုကို ပြောင်းလဲစေနိုင်သည်။

၎င်းက ဖလင်အထူ၊ သိပ်သည်းဆ၊ အရောင်၊ မာကျောမှု၊ ကပ်ငြိမှုနှင့် အလင်းဆိုင်ရာစွမ်းဆောင်ရည်တို့တွင် ကွဲပြားမှုများကို ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည်။

ထို့ကြောင့် စက်မှုလုပ်ငန်းသုံး ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာ စက်ပစ္စည်းများအတွက် တည်ငြိမ်သော လုပ်ငန်းစဉ်ထိန်းချုပ်မှုသည် ရိုးရိုးရှင်းရှင်း အမည်ခံဖိအားနှင့် ပါဝါတန်ဖိုးကို ထိန်းသိမ်းခြင်းထက် ပိုမိုလိုအပ်သည်။ ပလာစမာပတ်ဝန်းကျင်၊ အိုင်းယွန်းစီးကြောင်း၊ အောက်ခံဘက်လိုက်မှု၊ စုပုံမှုဂျီသြမေတြီနှင့် အရင်းအမြစ်အခြေအနေကို ပေါင်းစပ်လုပ်ငန်းစဉ်ဝင်းဒိုး၏ တစ်စိတ်တစ်ပိုင်းအဖြစ် ထိန်းချုပ်ရမည်။

ရှုပ်ထွေးသော သုံးဖက်မြင် အစိတ်အပိုင်းများအတွက်၊ မတူညီသော မျက်နှာပြင်များသည် မတူညီသော အဖြစ်အပျက်ထောင့်များနှင့် အမှုန်စီးကြောင်းများကို ကြုံတွေ့ရနိုင်သောကြောင့် အခြေအနေသည် ပိုမိုတောင်းဆိုလာပါသည်။ ထို့ကြောင့် သင့်လျော်သော တပ်ဆင်ပစ္စည်းဒီဇိုင်း၊ အလုပ်အပိုင်းလည်ပတ်မှု၊ အရင်းအမြစ်ဖွဲ့စည်းမှုနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းတို့သည် အပေါ်ယံလွှာ တသမတ်တည်းဖြစ်မှုကို ထိန်းသိမ်းရန်အတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။

၉။ စက်မှုလုပ်ငန်းသုံး ဖုန်စုပ်အလွှာအုပ်ခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အမှုန်စွမ်းအင်ကို မည်သို့ထိန်းချုပ်ရမည်နည်း

လက်တွေ့ PVD ထုတ်လုပ်မှုတွင် အမှုန်စွမ်းအင်ကို ခွဲခြားမှုမရှိ အမြင့်ဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်မည့်အစား ပစ်မှတ်အပေါ်ယံလွှာဂုဏ်သတ္တိများအရ ထိန်းချုပ်သင့်သည်။

သင့်လျော်သော လုပ်ငန်းစဉ်ဝင်းဒိုးကို ယေဘုယျအားဖြင့် အလုပ်လုပ်သောဖိအား၊ စွန့်ထုတ်စွမ်းအား၊ အောက်ခံဘက်လိုက်မှု၊ ပလာစမာသိပ်သည်းဆ၊ ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှု၊ အောက်ခံအပူချိန်၊ အနည်ကျမှုနှုန်းနှင့် အရင်းအမြစ်မှ အောက်ခံသို့ ဂျီသြမေတြီတို့ကို ညှိနှိုင်းခြင်းဖြင့် သတ်မှတ်သည်။

အလှဆင်အပေါ်ယံလွှာများအတွက်၊ အိုင်းယွန်းအလွန်အကျွံ ဗုံးကြဲခြင်းသည် မျက်နှာပြင်ပျက်စီးမှု သို့မဟုတ် ကျန်ရှိသောဖိအားကို တိုးစေနိုင်ပြီး စွမ်းအင်မလုံလောက်ခြင်းသည် သိပ်သည်းဆ သို့မဟုတ် ကပ်ငြိမှု ညံ့ဖျင်းခြင်းကို ဖြစ်စေနိုင်သည်။ မာကျောသော အပေါ်ယံလွှာများအတွက်၊ အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်မြင့်မားခြင်းသည် သိပ်သည်းသော အဏုကြည့်ဖွဲ့စည်းပုံများနှင့် မာကျောမှုမြင့်မားခြင်းအတွက် အကျိုးရှိနိုင်သော်လည်း၊ အလွန်အကျွံ ဗုံးကြဲခြင်းသည် ဖိအားနှင့်ဆက်စပ်သော ချို့ယွင်းချက်များကို ဖန်တီးနိုင်သည်။

ထို့ကြောင့်၊ လုပ်ငန်းစဉ်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသည် အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်၊ အိုင်းယွန်းစီးကြောင်း၊ အနည်ကျနှုန်းနှင့် အလွှာတုံ့ပြန်မှုတို့အကြား တည်ငြိမ်သောဟန်ချက်ညီမှုကို တည်ဆောက်ရန် အာရုံစိုက်သင့်သည်။

ထုတ်လုပ်မှုပစ္စည်းကိရိယာများအတွက်၊ ၎င်းသည် လုပ်ငန်းစဉ်ထပ်ခါတလဲလဲလုပ်ဆောင်နိုင်မှု၊ အခန်းအခြေအနေ၊ ပစ်မှတ်အသုံးပြုမှု၊ တပ်ဆင်မှုပုံစံနှင့် အလိုအလျောက်လုပ်ငန်းစဉ်ထိန်းချုပ်မှုတို့သည် တသမတ်တည်းရှိသော အမှုန်စွမ်းအင်ပတ်ဝန်းကျင်ကို ထိန်းသိမ်းရာတွင် အရေးကြီးသောအချက်များဖြစ်သည်ဟုလည်း ဆိုလိုသည်။

အမှုန်စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုသည် vacuum coating တွင် film ကြီးထွားမှုကို ထိန်းချုပ်သည့် အခြေခံလုပ်ငန်းစဉ်ပြောင်းလဲမှုများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် မျက်နှာပြင်ပျံ့နှံ့မှု၊ nucleation၊ film density၊ adhesion၊ microstructure၊ residual stress၊ hardness၊ optical performance နှင့် ရေရှည်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုတို့ကို လွှမ်းမိုးသည်။

အဓိကအချက်မှာ စုပုံနေသော အမှုန်များ၏ စွမ်းအင်ကို တိုးမြှင့်ရန်သာမကဘဲ အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်း၊ အောက်ခံအလွှာ ဝိသေသလက္ခဏာများ၊ ဖလင်ဗိသုကာနှင့် အသုံးချမှုလိုအပ်ချက်များအရ သင့်လျော်ပြီး တည်ငြိမ်သော စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှုကို ထူထောင်ရန်ဖြစ်သည်။

စက်မှုလုပ်ငန်းသုံး PVD ထုတ်လုပ်မှုအတွက်၊ ပလာစမာဝိသေသလက္ခဏာများ၊ အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်၊ အောက်ခံဘက်လိုက်မှု၊ အလုပ်လုပ်ဖိအားနှင့် ဖလင်ကြီးထွားမှုယန္တရားများအကြား ဆက်နွယ်မှုကို နားလည်ခြင်းသည် အပေါ်ယံလွှာအင်ဂျင်နီယာများအား ရိုးရှင်းသော ကန့်သတ်ချက်ချိန်ညှိမှုထက် ကျော်လွန်၍ ပိုမိုခိုင်မာသော လုပ်ငန်းစဉ်ဝင်းဒိုးတစ်ခုကို တီထွင်နိုင်စေပါသည်။ ဓာတ်ခွဲခန်းနမူနာများမှ တည်ငြိမ်ပြီး ထပ်ခါတလဲလဲထုတ်လုပ်နိုင်သည်အထိ ကူးပြောင်းရာတွင် ၎င်းသည် အထူးအရေးကြီးပါသည်။

- ဤဆောင်းပါးကို ထုတ်ဝေသူဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းထုတ်လုပ်သူZhenhua ဖုန်စုပ်စက်