வெற்றிடப் பூச்சு செயல்முறைகளில், வந்தடையும் துகள்களின் ஆற்றல் பரவல் என்பது, படல வளர்ச்சி, நுண் கட்டமைப்பு, ஒட்டுதல், அடர்த்தி, எஞ்சிய தகைவு மற்றும் இறுதியில் பூச்சின் ஒளியியல், இயந்திரவியல் மற்றும் செயல்பாட்டு செயல்திறன் ஆகியவற்றைப் பாதிக்கும் ஒரு முக்கிய காரணியாகும். அந்தச் செயல்முறையானது மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங், கேத்தோடிக் ஆர்க் டெபாசிஷன், எலக்ட்ரான்-பீம் எவாபரேஷன் அல்லது பிற PVD தொழில்நுட்பங்களை உள்ளடக்கியதாக இருந்தாலும், அடி மூலக்கூறை வந்தடையும் துகள்களின் ஆற்றல் நிலை, படலம் எவ்வாறு உருவாகி வளர்கிறது என்பதை நேரடியாகப் பாதிக்கிறது.
எனவே, படிவு வீதம் அல்லது படலத்தின் தடிமனை மட்டும் கருத்தில் கொண்டு பூச்சின் தரத்தை மதிப்பிட முடியாது. நிலையான படலப் பண்புகளையும் சீரான உற்பத்திச் செயல்திறனையும் அடைவதற்கு, துகள்களின் ஆற்றல் பரவலைப் புரிந்துகொள்வதும் கட்டுப்படுத்துவதும் சம அளவில் முக்கியமானது.
1. வெற்றிடப் பூச்சு முறையில் துகள் ஆற்றல் பரவல் என்றால் என்ன?
வெற்றிடப் பூச்சு செயல்முறையின் போது, இலக்கு அல்லது ஆவியாதல் மூலத்திலிருந்து உருவாகும் அணுக்கள், அயனிகள், மூலக்கூறுகள் மற்றும் பிற துகள்கள் வெற்றிட அறை வழியாக அடி மூலக்கூறை நோக்கிப் பயணிக்கின்றன. இந்தத் துகள்கள் அடி மூலக்கூறை ஒரே இயக்க ஆற்றலுடன் வந்தடைய வேண்டிய அவசியமில்லை. மாறாக, அவை ஒரு ஆற்றல் பரவலை உருவாக்குகின்றன.
படிவுத் தொழில்நுட்பம், வெளியேற்ற ஆற்றல், செயல்படும் அழுத்தம், இலக்குப் பொருள், வாயுவின் கலவை, அடி மூலக்கூறு சாய்வு, மூலத்திற்கும் அடி மூலக்கூறுக்குமான தூரம் மற்றும் பிளாஸ்மா நிலைமைகள் போன்ற காரணிகளால் இந்தப் பரவல் தீர்மானிக்கப்படுகிறது.
உதாரணமாக, மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங்கில், பிளாஸ்மாவிலிருந்து வரும் ஆற்றல்மிக்க அயனிகள் இலக்கின் மீது மோதி, இலக்கு அணுக்களை வெளியேற்றுகின்றன. இவ்வாறு ஸ்பட்டர் செய்யப்பட்ட துகள்கள் பின்னர் அடி மூலக்கூறை நோக்கிப் பயணித்து, அங்கு ஒடுங்கிப் பூச்சை உருவாக்குகின்றன. கேத்தோடிக் ஆர்க் டெபாசிஷனில், படியவைக்கப்பட்ட ஃப்ளக்ஸின் கணிசமான பகுதியானது, ஒப்பீட்டளவில் அதிக இயக்க ஆற்றலைக் கொண்ட, அதிக அயனியாக்கம் செய்யப்பட்ட உலோகத் துகள்களைக் கொண்டுள்ளது. வெப்ப ஆவியாக்கத்தில், ஆவித் துகள்கள் பெரும்பாலும் ஒப்பீட்டளவில் குறைந்த இயக்க ஆற்றலைக் கொண்ட நடுநிலை அணுக்களாக உள்ளன.
துகள் ஆற்றலில் உள்ள இந்த வேறுபாடுகளே, வெவ்வேறு வெற்றிடப் பூச்சுத் தொழில்நுட்பங்கள் கணிசமாக வேறுபட்ட படல அமைப்புகளையும் பண்புகளையும் உருவாக்கக் காரணமாகும் அடிப்படைக் காரணங்களில் ஒன்றாகும்.
2. துகள் ஆற்றல் படல வளர்ச்சியை எவ்வாறு பாதிக்கிறது
படியவைக்கப்பட்ட துகள்கள் அடித்தளப் பரப்பை அடையும்போது, அவற்றின் இயக்க ஆற்றலானது, அவை அந்தப் பரப்புடனும் முன்னரே படியவைக்கப்பட்ட அணுக்களுடனும் எவ்வாறு இடைவினை புரிகின்றன என்பதைத் தீர்மானிக்கிறது.
ஒப்பீட்டளவில் குறைந்த துகள் ஆற்றல்களில், வந்து சேரும் துகள்களுக்கு மேற்பரப்பு இயக்கம் குறைவாகவே இருக்கும். அவை தாங்கள் முதலில் தரையிறங்கிய இடங்களுக்கு அருகிலேயே தங்கிவிடக்கூடும், இதன் விளைவாக மிகவும் திறந்த அல்லது நுண்துளைகள் கொண்ட நுண் கட்டமைப்பு உருவாகிறது. சில குறிப்பிட்ட சூழ்நிலைகளில், இது தூண் போன்ற வளர்ச்சி, அதிகரித்த வெற்றிட உருவாக்கம் மற்றும் ஒப்பீட்டளவில் குறைந்த படல அடர்த்தி ஆகியவற்றுக்கு வழிவகுக்கலாம்.
துகள் ஆற்றல் அதிகரிக்கும்போது, மேற்பரப்பு மற்றும் மேற்பரப்பிற்கு அருகிலுள்ள நகர்வுத்திறன் மேம்படக்கூடும். படியவைக்கப்பட்ட அணுக்களும் அயனிகளும் ஆற்றல் ரீதியாகச் சாதகமான இடங்களுக்கு இடம்பெயரும் திறனை அதிகரித்து, மேற்பரப்புப் பரவல், கருவாக்கம் மற்றும் அடர்த்தியாதலை ஊக்குவிக்கின்றன. இது, மேம்பட்ட ஒட்டுதல் மற்றும் இயந்திரவியல் பண்புகளுடன் கூடிய மிகவும் இறுக்கமான நுண்கட்டமைப்பை உருவாக்கக்கூடும்.
இருப்பினும், அதிக துகள் ஆற்றல் என்பது எப்போதும் சிறந்த படலச் செயல்திறனைக் குறிப்பதில்லை. அதீத ஆற்றல் கொண்ட அயனித் தாக்குதலானது, மறுசிதறல், குறைபாடுகள் உருவாதல், அடிமூலக்கூறு சூடாதல், உட்பதிதல் மற்றும் அதிகரித்த எஞ்சிய அழுத்தம் ஆகியவற்றை ஏற்படுத்தக்கூடும். எனவே, துகள் ஆற்றலை அதிகபட்சமாக்குவது மட்டுமல்லாமல், குறிப்பிட்ட அடிமூலக்கூறு மற்றும் பூச்சு அமைப்புக்கு ஏற்ற ஒரு பொருத்தமான ஆற்றல் பங்கீட்டை ஏற்படுத்துவதே இதன் நோக்கமாகும்.
3. துகள் ஆற்றலுக்கும் படல அடர்த்திக்கும் இடையிலான தொடர்பு
படலத்தின் அடர்த்தி, வளரும் படலத்திற்கு வழங்கப்படும் ஆற்றலுடன் நெருங்கிய தொடர்புடையது.
பல PVD செயல்முறைகளில், போதுமான ஆற்றல்மிக்க தாக்குதல் இல்லாததால், ஒப்பீட்டளவில் தளர்வான நுண்கட்டமைப்பைக் கொண்ட ஒரு பூச்சு உருவாகக்கூடும். வெற்றிடங்களும் தூண்களுக்கு இடையேயான எல்லைகளும், ஈரப்பதம் அல்லது அரிக்கும் ஊடகங்கள் படலத்தினுள் ஊடுருவுவதற்கான பாதைகளை வழங்கக்கூடும். இது அரிப்புத் தடுப்புத்திறனையும் நீண்டகால நிலைத்தன்மையையும் குறைக்க வாய்ப்புள்ளது.
மிதமான அயனித் தாக்குதலானது, அணுக்களின் நகர்வை அதிகரித்து, அடர்த்தியான படல அமைப்பை ஊக்குவிக்கும். அதிக கடினத்தன்மை, தேய்மான எதிர்ப்பு, தடுப்புச் செயல்திறன் அல்லது நிலையான ஒளியியல் பண்புகள் தேவைப்படும் பயன்பாடுகளுக்கு இது குறிப்பாக முக்கியமானது.
உதாரணமாக, மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங்கில், ஆற்றலை அதிகரிப்பதன் மூலமோ அல்லது பொருத்தமான அடி மூலக்கூறு சாய்வைப் பயன்படுத்துவதன் மூலமோ, அடி மூலக்கூறை அடையும் அயனிகள் மற்றும் பிற ஆற்றல்மிக்க இனங்களின் ஆற்றலை அதிகரிக்க முடியும். இருப்பினும், உண்மையான விளைவானது ஒரு தனிப்பட்ட செயல்முறை அளவுருவை விட, முழுமையான பிளாஸ்மா சூழலையே சார்ந்துள்ளது. செயல்படும் அழுத்தம், இலக்கிற்கும் அடி மூலக்கூறுக்குமான தூரம், காந்தப்புல கட்டமைப்பு மற்றும் வாயுவின் கலவை ஆகிய அனைத்தும் ஆற்றல் பரவலைப் பாதிக்கின்றன.
எனவே, ஒரே பெயரளவுத் திறன் அல்லது சார்பு மின்னழுத்தம், வெவ்வேறு பூச்சு அமைப்புகளில் ஒரே மாதிரியான துகள் ஆற்றல் பரவலை உருவாக்கும் என்று அவசியமில்லை.
4. துகள் ஆற்றல் மற்றும் பூச்சு ஒட்டுதல்
பூச்சின் ஒட்டுதல் என்பது துகள் ஆற்றலால் பாதிக்கப்படும் மற்றொரு முக்கியமான பண்பாகும்.
படிதலின் போது, ஆற்றல்மிக்க அயனிகள் இடைமுகக் கலவையை மேம்படுத்தி, படியவைக்கப்பட்ட படலத்திற்கும் அடி மூலக்கூறுக்கும் இடையிலான பிணைப்பை வலுப்படுத்தும். பொருத்தமான அயனித் தாக்குதலானது, படல வளர்ச்சிக்கு முன்னும் பின்னும் பலவீனமாகப் பிணைக்கப்பட்ட மாசுகளை அகற்றவும், அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பைச் செயல்படுத்தவும் உதவும்.
PVD செயல்முறைகளில் அயனி அரித்தல் மற்றும் அடி மூலக்கூறு சார்புபடுத்தல் ஆகியவை பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுவதற்கு இதுவும் ஒரு காரணமாகும்.
இருப்பினும், அதிகப்படியான அயனித் தாக்குதல் எதிர் விளைவை ஏற்படுத்தக்கூடும். அதிகப்படியான ஆற்றல் உள்ளீடு, இடைமுகத்தில் குறைபாடுகளை உருவாக்கலாம், அதிக எஞ்சிய அழுத்தத்தை அறிமுகப்படுத்தலாம், வெப்பநிலை உணர்திறன் கொண்ட அடி மூலக்கூறுகளைச் சேதப்படுத்தலாம் அல்லது அதிகப்படியான மறுசிதறலை ஏற்படுத்தலாம். பிளாஸ்டிக்குகள், ஒளியியல் கூறுகள் மற்றும் பிற வெப்ப உணர்திறன் கொண்ட பொருட்களுக்கு, அயனி ஆற்றலைக் கட்டுப்படுத்துவது மிகவும் முக்கியமானது, ஏனெனில் அடி மூலக்கூறானது வரையறுக்கப்பட்ட வெப்ப மற்றும் இயந்திர சகிப்புத்தன்மையைக் கொண்டிருக்கக்கூடும்.
ஆகையால், நல்ல ஒட்டுதல் என்பது சாத்தியமான மிக உயர்ந்த சார்பு மின்னழுத்தத்தைப் பயன்படுத்துவது மட்டுமல்ல. அயனி ஆற்றலானது, அடி மூலக்கூறு பொருள், முன்சிகிச்சை நிலை, பூச்சின் கட்டமைப்பு மற்றும் தேவைப்படும் படலப் பண்புகளுக்கு ஏற்றவாறு பொருத்தப்பட வேண்டும்.
5. படல அழுத்தம் மற்றும் நுண்கட்டமைப்பின் மீதான தாக்கம்
பூச்சின் உள்ளார்ந்த அழுத்தத்தின் மீது துகள் ஆற்றலும் குறிப்பிடத்தக்க தாக்கத்தை ஏற்படுத்துகிறது.
ஆற்றல்மிக்க அயனிகள் வளர்ந்து வரும் ஒரு படலத்தின் மீது மோதும்போது, அவை அணு உராய்வைத் தூண்டி, படியவைக்கப்பட்ட பொருளின் அடுக்கமைப்புக் கட்டமைப்பை மாற்றியமைக்கக்கூடும். பொருத்தமான சூழ்நிலைகளில், இது படலத்தின் அடர்த்தியை அதிகரித்து, இயந்திரவியல் செயல்திறனை மேம்படுத்தும். இருப்பினும், அதிகப்படியான மோதல் அதிக அமுக்க எஞ்சிய அழுத்தத்திற்கு வழிவகுக்கலாம்.
குறிப்பாகத் தடிமனான பூச்சுகள் பூசப்படும்போது, அதிகப்படியான எஞ்சிய தகைவானது பூச்சில் விரிசல், அடுக்குப்பிரிவு, உருக்குலைவு அல்லது பரிமாண நிலைத்தன்மையின்மையை ஏற்படுத்தக்கூடும்.
எனவே, துகள் ஆற்றலுக்கும் எஞ்சிய அழுத்தத்திற்கும் இடையிலான தொடர்பு நேர்கோட்டுத் தொடர்பல்ல. அது அயனி-அணுப் பாய்வு விகிதம், அயனி ஆற்றல், அடி மூலக்கூறு வெப்பநிலை, படிவு வீதம், படலத்தின் கலவை மற்றும் ஒட்டுமொத்த படிவு நிலைமைகள் ஆகியவற்றைப் பொறுத்தது.
பல அடுக்கு பூச்சுகளைப் பொறுத்தவரை, இதன் விளைவு இன்னும் சிக்கலாகிறது, ஏனெனில் விரும்பிய நுண்கட்டமைப்பு மற்றும் இடைமுகத் தரத்தைப் பெறுவதற்கு ஒவ்வொரு அடுக்கிற்கும் வெவ்வேறு ஆற்றல் நிலைகள் தேவைப்படலாம்.
6. மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் மற்றும் கேத்தோடிக் ஆர்க் டெபாசிஷனில் துகள் ஆற்றல்
வெவ்வேறு PVD தொழில்நுட்பங்கள் இயல்பாகவே வெவ்வேறு துகள் ஆற்றல் பரவல்களை உருவாக்குகின்றன.
மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங்கில், சிதறடிக்கப்பட்ட இலக்கு அணுக்களில் பெரும்பாலானவை நடுநிலை அணுக்களாகும், அதே சமயம் ஆற்றல்மிக்க அயனிகள் மற்றும் பிற பிளாஸ்மா இனங்களின் ஒரு சிறிய பகுதி படல வளர்ச்சியில் பங்கேற்கிறது. ஆற்றல் பரவலானது செயல்படும் அழுத்தம், வெளியேற்றத் திறன், அடி மூலக்கூறு சாய்வு, காந்தப்புலக் கட்டமைப்பு மற்றும் இலக்கு-அடி மூலக்கூறு வடிவியல் ஆகியவற்றால் பாதிக்கப்படலாம்.
அதிக இயக்க அழுத்தங்களில், துகள்கள் அடித்தளத்தை அடைவதற்கு முன்பு பிளாஸ்மாவில் ஏற்படும் மோதல்கள், அடிக்கடி சிதறலையும் ஆற்றல் இழப்பையும் ஏற்படுத்தக்கூடும். குறைந்த அழுத்தங்களில், துகள்கள் மிகவும் சுதந்திரமாகப் பயணிக்க முடியும், இது அதிக ஆற்றல் கொண்ட இனங்களின் பெரும் விகிதத்தை அடித்தளத்தை அடைய அனுமதிக்கிறது.
கேத்தோடிக் வில் படிவு முறையில், ஆவிப் பாய்வானது கணிசமாக அதிக இயக்க ஆற்றலைக் கொண்ட அயனியாக்கப்பட்ட உலோக இனங்களின் அதிக விகிதத்தைக் கொண்டுள்ளது. இது படல வளர்ச்சியின் போது வலுவான அயனித் தாக்குதலை வழங்கி, சிறந்த ஒட்டுதலுடன் கூடிய அடர்த்தியான, கடினமான பூச்சுகளை உருவாக்க முடியும். அதே நேரத்தில், தேவையான மேற்பரப்புத் தரத்தை அடைவதற்கு, உயர் ஆற்றல் பிளாஸ்மா சூழலானது அடி மூலக்கூறு சாய்வு, வில் மின்னோட்டம், காந்த வடிகட்டுதல் மற்றும் பெருந்துகள் உருவாக்கம் ஆகியவற்றின் திறமையான கட்டுப்பாட்டைக் கோருகிறது.
இந்த வேறுபாடுகள், துகள் ஆற்றல் பரவலானது ஒவ்வொரு வெற்றிடப் பூச்சுத் தொழில்நுட்பத்தின் அடிப்படைப் பண்புகளுடன் நெருக்கமாக இணைக்கப்பட்டுள்ளது என்பதை நிரூபிக்கின்றன.
7. அடி மூலக்கூறு சார்பின் முக்கியத்துவம்
அடி மூலக்கூறில் அயனி ஆற்றலை மாற்றுவதற்கு, அடி மூலக்கூறு சார்பு மின்னழுத்தம் மிகவும் பயனுள்ள செயல்முறை அளவுருக்களில் ஒன்றாகும்.
எதிர்மறைச் சாய்வைப் பயன்படுத்துவது, பிளாஸ்மாவிலிருந்து நேர்மறை அயனிகளை அடி மூலக்கூறை நோக்கி ஈர்த்து, படிதலின் போது அயனித் தாக்குதலை அதிகரிக்கிறது. சாய்வு நிலைமைகளைச் சரிசெய்வதன் மூலம், வளரும் படலத்திற்கு வழங்கப்படும் ஆற்றலை ஒரு குறிப்பிட்ட வரம்பிற்குள் கட்டுப்படுத்த முடியும்.
பொருத்தமான சாய்வு, படல அடர்த்தி, ஒட்டுதல், கடினத்தன்மை மற்றும் நுண் கட்டமைப்புச் சீரான தன்மையை மேம்படுத்தும். இருப்பினும், அதிகப்படியான சாய்வு, மறுசிதறல் மற்றும் எஞ்சிய அழுத்தத்தை அதிகரிக்கலாம் அல்லது அடி மூலக்கூறைச் சேதப்படுத்தலாம்.
இந்தக் காரணத்தால், சார்பு மின்னழுத்தத்தை ஒரு தனிப்பட்ட அளவுருவாகக் கருதக்கூடாது. அதன் விளைவானது, செயல்படும் அழுத்தம், பிளாஸ்மா அடர்த்தி, படிவு வீதம், இலக்குத் திறன், அடி மூலக்கூறு வெப்பநிலை மற்றும் பூச்சுப் பொருள் ஆகியவற்றுடன் சேர்த்தே கருத்தில் கொள்ளப்பட வேண்டும்.
பொறியியல் பிளாஸ்டிக்குகள், ஒளியியல் பாலிமர்கள் மற்றும் மின்னணு பாகங்கள் போன்ற வெப்பநிலை உணர்திறன் கொண்ட அடி மூலக்கூறுகளுக்கு, அயனி ஆற்றலைக் கவனமாகக் கட்டுப்படுத்துவது மிகவும் முக்கியமானது.
8. துகள் ஆற்றல் விநியோகம் மற்றும் நிறை உற்பத்தி நிலைத்தன்மை
ஆய்வக அளவிலான பூச்சுப் பரிசோதனைகளில், தனிப்பட்ட செயல்முறை அளவுருக்களை மீண்டும் மீண்டும் சரிசெய்வதன் மூலம் நல்ல படலச் செயல்திறனைப் பெற முடியும். இருப்பினும், பெருமளவு உற்பத்தியில், ஒவ்வொரு தொகுப்பிலும் ஒரே மாதிரியான துகள் ஆற்றல் சூழலைப் பராமரிப்பதே சவாலாக உள்ளது.
அறை அழுத்தம், இலக்கின் நிலை, பிளாஸ்மா மின்தடை, அடி மூலக்கூறு சுமை, இலக்குப் பயன்பாடு மற்றும் பொருத்தி உள்ளமைவு ஆகியவற்றில் ஏற்படும் மாற்றங்கள், பிளாஸ்மாவின் பண்புகளை மாற்றி, அதன் விளைவாக வேலைப் பொருட்களின் வெவ்வேறு பகுதிகளைச் சென்றடையும் ஆற்றல் பரவலையும் மாற்றக்கூடும்.
இதனால் படலத்தின் தடிமன், அடர்த்தி, நிறம், கடினத்தன்மை, ஒட்டுதல் மற்றும் ஒளியியல் செயல்திறன் ஆகியவற்றில் மாறுபாடுகள் ஏற்படலாம்.
எனவே, தொழில்துறை வெற்றிடப் பூச்சு உபகரணங்களுக்கு, நிலையான செயல்முறைக் கட்டுப்பாட்டிற்கு ஒரு பெயரளவு அழுத்தம் மற்றும் ஆற்றல் மதிப்பை வெறுமனே பராமரிப்பதை விட மேலானவை தேவைப்படுகின்றன. பிளாஸ்மா சூழல், அயனிப் பாய்வு, அடி மூலக்கூறு சாய்வு, படிவு வடிவியல் மற்றும் மூல நிலை ஆகியவை ஒரு ஒருங்கிணைந்த செயல்முறைச் சாளரத்தின் பகுதியாகக் கட்டுப்படுத்தப்பட வேண்டும்.
சிக்கலான முப்பரிமாணக் கூறுகளுக்கு, நிலைமை இன்னும் சவாலாகிறது, ஏனெனில் வெவ்வேறு பரப்புகள் வெவ்வேறு படுகோணங்களையும் துகள் பாய்வுகளையும் எதிர்கொள்ளக்கூடும். எனவே, பூச்சின் சீரான தன்மையைப் பராமரிக்க, முறையான நிலைநிறுத்தி வடிவமைப்பு, பணிப்பொருள் சுழற்சி, மூலப்பொருள் கட்டமைப்பு மற்றும் செயல்முறை உகப்பாக்கம் ஆகியவை இன்றியமையாதவை.
9. ஒரு தொழில்துறை வெற்றிட பூச்சு செயல்முறையில் துகள் ஆற்றலைக் கட்டுப்படுத்துவது எப்படி
நடைமுறை PVD உற்பத்தியில், துகள் ஆற்றலானது கண்மூடித்தனமாக அதிகபட்சமாக்கப்படுவதற்குப் பதிலாக, இலக்குப் பூச்சின் பண்புகளுக்கு ஏற்ப கட்டுப்படுத்தப்பட வேண்டும்.
செயல்பாட்டு அழுத்தம், வெளியேற்றத் திறன், அடி மூலக்கூறு சாய்வு, பிளாஸ்மா அடர்த்தி, வாயு ஓட்டம், அடி மூலக்கூறு வெப்பநிலை, படிவு விகிதம் மற்றும் மூலத்திற்கும் அடி மூலக்கூறுக்குமான வடிவியல் ஆகியவற்றை ஒருங்கிணைப்பதன் மூலம் பொருத்தமான செயல்முறை வரம்பு பொதுவாக நிறுவப்படுகிறது.
அலங்காரப் பூச்சுகளைப் பொறுத்தவரை, அதிகப்படியான அயனித் தாக்குதல் மேற்பரப்புச் சேதத்தையோ அல்லது எஞ்சிய அழுத்தத்தையோ அதிகரிக்கக்கூடும், அதே சமயம் போதுமான ஆற்றல் இல்லாதது அடர்த்தி அல்லது ஒட்டுதல் குறைபாட்டிற்கு வழிவகுக்கும். கடினமான பூச்சுகளுக்கு, அடர்த்தியான நுண் கட்டமைப்புகளையும் அதிக கடினத்தன்மையையும் அடைவதற்கு உயர் அயனி ஆற்றல் பயனுள்ளதாக இருக்கலாம், ஆனால் அதிகப்படியான தாக்குதல் அழுத்தம் தொடர்பான குறைபாடுகளை உருவாக்கக்கூடும்.
எனவே, செயல்முறை மேம்பாடானது அயனி ஆற்றல், அயனிப் பாய்வு, படிவு வீதம் மற்றும் அடி மூலக்கூறு எதிர்வினை ஆகியவற்றுக்கு இடையே ஒரு நிலையான சமநிலையை ஏற்படுத்துவதில் கவனம் செலுத்த வேண்டும்.
உற்பத்தி உபகரணங்களைப் பொறுத்தவரை, ஒரு சீரான துகள் ஆற்றல் சூழலைப் பராமரிப்பதில், செயல்முறை மீண்டும் மீண்டும் நிகழ்தன்மை, அறை நிலை, இலக்குப் பயன்பாடு, பொருத்தி உள்ளமைவு மற்றும் தானியங்கி செயல்முறைக் கட்டுப்பாடு ஆகியவை முக்கியமான காரணிகளாகும்.
வெற்றிடப் பூச்சு முறையில் படல வளர்ச்சியை நிர்வகிக்கும் அடிப்படை செயல்முறை மாறிகளில் ஒன்று துகள் ஆற்றல் பரவலாகும். இது மேற்பரப்புப் பரவல், கருவாக்கம், படல அடர்த்தி, ஒட்டுதல், நுண் கட்டமைப்பு, எஞ்சிய தகைவு, கடினத்தன்மை, ஒளியியல் செயல்திறன் மற்றும் நீண்ட கால நம்பகத்தன்மை ஆகியவற்றில் தாக்கத்தை ஏற்படுத்துகிறது.
படியவைக்கப்பட்ட துகள்களின் ஆற்றலை அதிகரிப்பது மட்டுமல்ல முக்கியம்; மாறாக, பூச்சுப் பொருள், அடி மூலக்கூறின் பண்புகள், படலத்தின் கட்டமைப்பு மற்றும் பயன்பாட்டுத் தேவைகளுக்கு ஏற்ப, பொருத்தமான மற்றும் நிலையான ஆற்றல் பரவலை ஏற்படுத்துவதே ஆகும்.
தொழில்துறை PVD உற்பத்தியைப் பொறுத்தவரை, பிளாஸ்மா பண்புகள், அயனி ஆற்றல், அடி மூலக்கூறு சாய்வு, செயல்படும் அழுத்தம் மற்றும் படல வளர்ச்சி வழிமுறைகள் ஆகியவற்றுக்கு இடையேயான தொடர்பைப் புரிந்துகொள்வது, பூச்சுப் பொறியாளர்களை எளிய அளவுரு சரிசெய்தலைத் தாண்டிச் சென்று, மேலும் வலுவான ஒரு செயல்முறை வரம்பை உருவாக்க அனுமதிக்கிறது. ஆய்வக மாதிரிகளிலிருந்து நிலையான, மீண்டும் மீண்டும் செய்யக்கூடிய பெருமளவு உற்பத்திக்கு மாறும் போது இது குறிப்பாக முக்கியத்துவம் பெறுகிறது.
-இந்தக் கட்டுரை வெளியிடப்பட்டதுவெற்றிட பூச்சு உபகரண உற்பத்தியாளர்ஜென்ஹுவா வெற்றிடம்
பதிவிட்ட நேரம்: செப்-03-2026