රික්ත ආලේපන ක්‍රියාවලීන්හිදී, පැමිණෙන අංශුවල ශක්ති ව්‍යාප්තිය පටල වර්ධනය, ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය, ඇලවීම, ඝනත්වය, අවශේෂ ආතතිය සහ අවසානයේ ආලේපනයේ දෘශ්‍ය, යාන්ත්‍රික සහ ක්‍රියාකාරී ක්‍රියාකාරිත්වයට බලපාන තීරණාත්මක සාධකයකි. ක්‍රියාවලියට මැග්නට්‍රෝන ඉසීම, කැතෝඩික් චාප තැන්පත් කිරීම, ඉලෙක්ට්‍රෝන-කදම්භ වාෂ්පීකරණය හෝ වෙනත් PVD තාක්ෂණයන් ඇතුළත් වුවද, උපස්ථරයට ළඟා වන අංශුවල ශක්ති තත්ත්වය පටලය න්‍යෂ්ටිකකරණය වී වර්ධනය වන ආකාරය කෙරෙහි සෘජුවම බලපායි.
එබැවින්, තැන්පත් වීමේ අනුපාතය හෝ පටල ඝණකම සලකා බැලීමෙන් ආලේපන ගුණාත්මකභාවය ඇගයීමට නොහැකිය. ස්ථායී පටල ගුණාංග සහ ස්ථාවර නිෂ්පාදන කාර්ය සාධනය ලබා ගැනීම සඳහා අංශු ශක්ති ව්‍යාප්තිය අවබෝධ කර ගැනීම සහ පාලනය කිරීම ද එකසේ වැදගත් වේ.
1. රික්තක ආලේපනයේ අංශු ශක්ති ව්‍යාප්තිය යනු කුමක්ද?
රික්ත ආලේපන ක්‍රියාවලියකදී, ඉලක්කයෙන් හෝ වාෂ්පීකරණ ප්‍රභවයෙන් ජනනය වන පරමාණු, අයන, අණු සහ අනෙකුත් විශේෂ රික්ත කුටිය හරහා උපස්ථරය දෙසට ගමන් කරයි. මෙම අංශු අනිවාර්යයෙන්ම එකම චාලක ශක්තියෙන් උපස්ථරයට පැමිණෙන්නේ නැත. ඒ වෙනුවට, ඒවා ශක්ති ව්‍යාප්තියක් සාදයි.
තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණය, විසර්ජන බලය, ක්‍රියාකාරී පීඩනය, ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය, වායු සංයුතිය, උපස්ථර නැඹුරුව, ප්‍රභවයේ සිට උපස්ථරයට දුර සහ ප්ලාස්මා තත්වයන් වැනි සාධක මගින් ව්‍යාප්තිය තීරණය වේ.
උදාහරණයක් ලෙස, මැග්නට්‍රෝන ස්පුටරින් කිරීමේදී, ප්ලාස්මාවෙන් ලැබෙන ශක්තිජනක අයන ඉලක්කයට බෝම්බ හෙලා ඉලක්ක පරමාණු පිට කරයි. මෙම ස්පුටර් කරන ලද විශේෂ පසුව උපස්ථරය දෙසට ගමන් කරන අතර එහිදී ඒවා ඝනීභවනය වී ආලේපනය සාදයි. කැතෝඩ චාප තැන්පත් වීමේදී, තැන්පත් කරන ලද ප්‍රවාහයේ සැලකිය යුතු ප්‍රමාණයක් සාපේක්ෂව ඉහළ චාලක ශක්තියක් සහිත ඉහළ අයනීකෘත ලෝහ විශේෂ වලින් සමන්විත වේ. තාප වාෂ්පීකරණයේදී, වාෂ්ප විශේෂ ප්‍රධාන වශයෙන් උදාසීන පරමාණු වන අතර සාපේක්ෂව අඩු චාලක ශක්තියක් ඇත.
අංශු ශක්තියේ මෙම වෙනස්කම්, විවිධ රික්තක ආලේපන තාක්ෂණයන්ට සැලකිය යුතු ලෙස වෙනස් පටල ව්‍යුහයන් සහ ගුණාංග නිපදවිය හැකි මූලික හේතුවක් වේ.
2. අංශු ශක්තිය චිත්‍රපට වර්ධනයට බලපාන ආකාරය
තැන්පත් වූ අංශු උපස්ථර මතුපිටට ළඟා වූ විට, ඒවායේ චාලක ශක්තිය මගින් ඒවා මතුපිට සමඟ සහ කලින් තැන්පත් වූ පරමාණු සමඟ අන්තර්ක්‍රියා කරන ආකාරය තීරණය වේ.
සාපේක්ෂව අඩු අංශු ශක්තීන්හිදී, පැමිණෙන විශේෂවලට සීමිත මතුපිට සංචලතාවයක් ඇත. ඒවා ඔවුන්ගේ මුල් ගොඩබෑමේ ස්ථාන වලට ආසන්නව පැවතිය හැකි අතර, එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස වඩාත් විවෘත හෝ සිදුරු සහිත ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහයක් ඇති වේ. ඇතැම් තත්වයන් යටතේ, මෙය තීරු වර්ධනයට, හිස් අවකාශය ගොඩනැගීමට සහ සාපේක්ෂව අඩු පටල ඝනත්වයට හේතු විය හැක.
අංශු ශක්තිය වැඩි වන විට, මතුපිට සහ මතුපිටට ආසන්න සංචලතාව වැඩිදියුණු විය හැකිය. තැන්පත් කරන ලද පරමාණු සහ අයන ශක්තිජනක ලෙස හිතකර ස්ථාන කරා සංක්‍රමණය වීමට වැඩි හැකියාවක් ඇති අතර, මතුපිට විසරණය, න්‍යෂ්ටිකකරණය සහ ඝනත්වය ප්‍රවර්ධනය කරයි. මෙය වැඩිදියුණු කළ ඇලවීම සහ යාන්ත්‍රික ගුණාංග සහිත වඩාත් සංයුක්ත ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහයක් නිපදවිය හැකිය.
කෙසේ වෙතත්, ඉහළ අංශු ශක්තියක් යනු සෑම විටම වඩා හොඳ පටල ක්‍රියාකාරිත්වයක් අදහස් නොවේ. අධික ලෙස ජවසම්පන්න අයන බෝම්බ හෙලීම මගින් නැවත ඉසීම, දෝෂ ජනනය, උපස්ථර උණුසුම, බද්ධ කිරීම සහ අවශේෂ ආතතිය වැඩි විය හැක. එබැවින්, අරමුණ වන්නේ අංශු ශක්තිය උපරිම කිරීම පමණක් නොව, නිශ්චිත උපස්ථරය සහ ආලේපන පද්ධතිය සඳහා සුදුසු ශක්ති ව්‍යාප්තියක් ස්ථාපිත කිරීමයි.
3. අංශු ශක්තිය සහ පටල ඝනත්වය අතර සම්බන්ධතාවය
පටල ඝනත්වය වැඩෙන පටලයට ලබා දෙන ශක්තියට සමීපව සම්බන්ධ වේ.
බොහෝ PVD ක්‍රියාවලීන්හිදී, ප්‍රමාණවත් නොවන ශක්තිජනක බෝම්බ හෙලීමක් හේතුවෙන් සාපේක්ෂව ලිහිල් ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහයක් සහිත ආලේපනයක් ඇති විය හැක. හිස්තැන් සහ අන්තර් තීරු මායිම් තෙතමනය හෝ විඛාදන මාධ්‍ය පටලයට විනිවිද යාමට මාර්ග සැපයිය හැකි අතර, විඛාදන ප්‍රතිරෝධය සහ දිගුකාලීන ස්ථායිතාව අඩු කළ හැකිය.
මධ්‍යස්ථ අයන බෝම්බ හෙලීම ඇඩටම් සංචලනය වැඩි කළ හැකි අතර ඝන පටල ව්‍යුහයක් ප්‍රවර්ධනය කළ හැකිය. ඉහළ දෘඪතාව, ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධය, බාධක ක්‍රියාකාරිත්වය හෝ ස්ථාවර දෘශ්‍ය ගුණාංග අවශ්‍ය යෙදුම් සඳහා මෙය විශේෂයෙන් වැදගත් වේ.
උදාහරණයක් ලෙස, මැග්නට්‍රෝන ස්පුටරින් කිරීමේදී, බලය වැඩි කිරීම හෝ සුදුසු උපස්ථර නැඹුරුවක් යෙදීමෙන් උපස්ථරයට ළඟා වන අයන සහ අනෙකුත් ශක්තිජනක විශේෂවල ශක්තිය වැඩි කළ හැකිය. කෙසේ වෙතත්, සැබෑ බලපෑම තනි ක්‍රියාවලි පරාමිතියකට වඩා සම්පූර්ණ ප්ලාස්මා පරිසරය මත රඳා පවතී. වැඩ කරන පීඩනය, ඉලක්කයෙන් උපස්ථරයට දුර, චුම්භක ක්ෂේත්‍ර වින්‍යාසය සහ වායු සංයුතිය යන සියල්ල ශක්ති ව්‍යාප්තියට බලපායි.
එමනිසා, එකම නාමික බලය හෝ නැඹුරු වෝල්ටීයතාවය විවිධ ආලේපන පද්ධති මත එකම අංශු ශක්ති ව්‍යාප්තියක් අනිවාර්යයෙන්ම නිපදවන්නේ නැත.
4. අංශු ශක්තිය සහ ආලේපන ඇලවීම
ආලේපන ඇලවීම අංශු ශක්තියෙන් බලපාන තවත් වැදගත් ගුණාංගයකි.
තැන්පත් වීමේදී, ශක්තිජනක අයන මගින් අන්තර් මුහුණත මිශ්‍රණය වැඩි දියුණු කළ හැකි අතර තැන්පත් කරන ලද පටලය සහ උපස්ථරය අතර බන්ධනය වැඩි දියුණු කළ හැකිය. සුදුසු අයන බෝම්බ හෙලීම මඟින් දුර්වල ලෙස බන්ධනය වූ දූෂක ඉවත් කර පටල වර්ධනයට පෙර සහ අතරතුර උපස්ථර මතුපිට සක්‍රීය කළ හැකිය.
PVD ක්‍රියාවලීන්හි අයන කැටයම් කිරීම සහ උපස්ථර නැඹුරුව බහුලව භාවිතා වීමට මෙය එක් හේතුවකි.
කෙසේ වෙතත්, අධික අයන බෝම්බ හෙලීම ප්‍රතිවිරුද්ධ බලපෑමක් ඇති කළ හැකිය. අධික ශක්ති ආදානය අතුරුමුහුණතෙහි දෝෂ ඇති කළ හැකිය, ඉහළ අවශේෂ ආතතියක් ඇති කළ හැකිය, උෂ්ණත්ව සංවේදී උපස්ථර වලට හානි කළ හැකිය, නැතහොත් අධික ලෙස නැවත ඉසීමට හේතු විය හැක. ප්ලාස්ටික්, දෘශ්‍ය සංරචක සහ අනෙකුත් තාප සංවේදී ද්‍රව්‍ය සඳහා, උපස්ථරයට සීමිත තාප සහ යාන්ත්‍රික ඉවසීමක් තිබිය හැකි බැවින් අයන ශක්තිය පාලනය කිරීම විශේෂයෙන් වැදගත් වේ.
එහි ප්‍රතිඵලයක් වශයෙන්, හොඳ ඇලීම යනු හැකි උපරිම නැඹුරු වෝල්ටීයතාවය යෙදීම පමණක් නොවේ. අයන ශක්තිය උපස්ථර ද්‍රව්‍ය, පූර්ව ප්‍රතිකාර තත්ත්වය, ආලේපන ගෘහ නිර්මාණ ශිල්පය සහ අවශ්‍ය පටල ගුණාංගවලට ගැලපිය යුතුය.
5. චිත්‍රපට ආතතිය සහ ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය කෙරෙහි බලපෑම
අංශු ශක්තිය ද ආලේපනය තුළ ඇති අභ්‍යන්තර ආතතිය කෙරෙහි සැලකිය යුතු බලපෑමක් ඇති කරයි.
ශක්තිජනක අයන වැඩෙන පටලයකට පහර දෙන විට, ඒවාට පරමාණුක පීනිං ඇති කළ හැකි අතර තැන්පත් කරන ලද ද්‍රව්‍යයේ ඇසුරුම් ව්‍යුහය වෙනස් කළ හැකිය. සුදුසු තත්වයන් යටතේ, මෙය පටල ඝනත්වය වැඩි කර යාන්ත්‍රික ක්‍රියාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කළ හැකිය. කෙසේ වෙතත්, අධික බෝම්බ හෙලීම ඉහළ සම්පීඩ්‍යතා අවශේෂ ආතතියට හේතු විය හැක.
අධික අවශේෂ ආතතිය ආලේපන ඉරිතැලීම්, දිරාපත්වීම, විරූපණය හෝ මාන අස්ථාවරත්වය ඇති කළ හැකිය, විශේෂයෙන් ඝන ආලේපන තැන්පත් වූ විට.
එබැවින් අංශු ශක්තිය සහ අවශේෂ ආතතිය අතර සම්බන්ධතාවය රේඛීය නොවේ. එය අයන-පරමාණු ප්‍රවාහ අනුපාතය, අයන ශක්තිය, උපස්ථර උෂ්ණත්වය, තැන්පත් වීමේ අනුපාතය, පටල සංයුතිය සහ සමස්ත තැන්පත් වීමේ තත්වයන් මත රඳා පවතී.
බහු ස්ථර ආලේපන සඳහා, අපේක්ෂිත ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය සහ අතුරුමුහුණත් ගුණාත්මකභාවය ලබා ගැනීම සඳහා එක් එක් ස්ථරයට විවිධ ශක්ති තත්ත්වයන් අවශ්‍ය විය හැකි බැවින් බලපෑම වඩාත් සංකීර්ණ වේ.
6. චුම්බක ඉසීමේ සහ කැතෝඩික් චාප තැන්පත් කිරීමේදී අංශු ශක්තිය
විවිධ PVD තාක්ෂණයන් ස්වභාවිකවම විවිධ අංශු ශක්ති ව්‍යාප්ති ජනනය කරයි.
චුම්බක ස්පුටරින් කිරීමේදී, බොහෝ ස්පුටර් කරන ලද ඉලක්ක පරමාණු උදාසීන වන අතර, ශක්තිජනක අයන සහ අනෙකුත් ප්ලාස්මා විශේෂවල කුඩා කොටසක් පටල වර්ධනයට සහභාගී වේ. වැඩ කරන පීඩනය, විසර්ජන බලය, උපස්ථර නැඹුරුව, චුම්බක ක්ෂේත්‍ර වින්‍යාසය සහ ඉලක්කයෙන් උපස්ථර ජ්‍යාමිතිය මගින් ශක්ති ව්‍යාප්තියට බලපෑම් කළ හැකිය.
ඉහළ ක්‍රියාකාරී පීඩනවලදී, ප්ලාස්මාවේ ගැටීම් හේතුවෙන් අංශු උපස්ථරයට ළඟා වීමට පෙර නිතර විසිරීම සහ ශක්ති අලාභය සිදුවිය හැක. අඩු පීඩනවලදී, අංශු වඩාත් නිදහසේ ගමන් කළ හැකි අතර, එමඟින් ඉහළ ශක්ති විශේෂ වැඩි ප්‍රමාණයක් උපස්ථරයට ළඟා වීමට ඉඩ සලසයි.
කැතෝඩ චාප තැන්පත් වීමේදී, වාෂ්ප ප්‍රවාහයේ සැලකිය යුතු ලෙස ඉහළ චාලක ශක්තියක් සහිත අයනීකෘත ලෝහ විශේෂවල ඉහළ ප්‍රතිශතයක් අඩංගු වේ. මෙය පටල වර්ධනයේදී ශක්තිමත් අයන බෝම්බ හෙලීමක් සපයන අතර විශිෂ්ට ඇලවීමක් සහිත ඝන, දෘඩ ආලේපන නිපදවිය හැක. ඒ සමඟම, අධි ශක්ති ප්ලාස්මා පරිසරයට අවශ්‍ය මතුපිට ගුණාත්මකභාවය ලබා ගැනීම සඳහා උපස්ථර නැඹුරුව, චාප ධාරාව, චුම්භක පෙරීම සහ සාර්ව අංශු උත්පාදනය ඵලදායී ලෙස පාලනය කිරීම අවශ්‍ය වේ.
මෙම වෙනස්කම් පෙන්නුම් කරන්නේ අංශු ශක්ති ව්‍යාප්තිය එක් එක් රික්ත ආලේපන තාක්ෂණයේ මූලික ලක්ෂණ සමඟ සමීපව සම්බන්ධ වී ඇති බවයි.
7. උපස්ථර නැඹුරුවේ වැදගත්කම
උපස්ථරයේ අයන ශක්තිය වෙනස් කිරීම සඳහා උපස්ථර නැඹුරු වෝල්ටීයතාවය වඩාත් ඵලදායී ක්‍රියාවලි පරාමිතීන්ගෙන් එකකි.
සෘණ නැඹුරුවක් යෙදීමෙන් ප්ලාස්මාවෙන් උපස්ථරය දෙසට ධනාත්මක අයන ආකර්ෂණය වන අතර, තැන්පත් වීමේදී අයන බෝම්බ හෙලීම වැඩි කරයි. නැඹුරු තත්වයන් සකස් කිරීමෙන්, වැඩෙන පටලයට ලබා දෙන ශක්තිය යම් පරාසයක් තුළ පාලනය කළ හැකිය.
සුදුසු නැඹුරුවක් මඟින් පටල ඝනත්වය, ඇලවීම, දෘඪතාව සහ ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහාත්මක ඒකාකාරිත්වය වැඩිදියුණු කළ හැකිය. කෙසේ වෙතත්, අධික නැඹුරුවක් මගින් නැවත ඉසීම සහ අවශේෂ ආතතිය වැඩි කිරීමට හෝ උපස්ථරයට හානි කිරීමට හැකිය.
මෙම හේතුව නිසා, පක්ෂග්‍රාහී වෝල්ටීයතාවය හුදකලා පරාමිතියක් ලෙස නොසැලකිය යුතුය. එහි බලපෑම වැඩ කරන පීඩනය, ප්ලාස්මා ඝනත්වය, තැන්පත් වීමේ අනුපාතය, ඉලක්ක බලය, උපස්ථර උෂ්ණත්වය සහ ආලේපන ද්‍රව්‍ය සමඟ සලකා බැලිය යුතුය.
ඉංජිනේරු ප්ලාස්ටික්, දෘශ්‍ය පොලිමර් සහ ඉලෙක්ට්‍රොනික සංරචක වැනි උෂ්ණත්ව සංවේදී උපස්ථර සඳහා, අයන ශක්තිය ප්‍රවේශමෙන් පාලනය කිරීම විශේෂයෙන් වැදගත් වේ.
8. අංශු ශක්ති ව්‍යාප්තිය සහ ස්කන්ධ නිෂ්පාදන අනුකූලතාව
රසායනාගාර පරිමාණ ආලේපන අත්හදා බැලීම් වලදී, තනි ක්‍රියාවලි පරාමිතීන් නැවත නැවතත් සකස් කිරීමෙන් හොඳ පටල කාර්ය සාධනයක් ලබා ගත හැකිය. කෙසේ වෙතත්, මහා පරිමාණ නිෂ්පාදනයේදී, අභියෝගය වන්නේ කාණ්ඩයෙන් කාණ්ඩයට එකම අංශු ශක්ති පරිසරය පවත්වා ගැනීමයි.
කුටීර පීඩනය, ඉලක්ක තත්ත්වය, ප්ලාස්මා සම්බාධනය, උපස්ථර පැටවීම, ඉලක්ක භාවිතය සහ සවිකිරීම් වින්‍යාසය වෙනස් වීම ප්ලාස්මා ලක්ෂණ වෙනස් කළ හැකි අතර එම නිසා වැඩ කොටස්වල විවිධ ප්‍රදේශ කරා ළඟා වන ශක්ති ව්‍යාප්තිය වෙනස් කළ හැකිය.
මෙය පටල ඝණකම, ඝනත්වය, වර්ණය, දෘඪතාව, ඇලීම සහ දෘශ්‍ය ක්‍රියාකාරිත්වයේ වෙනස්කම් වලට හේතු විය හැක.
කාර්මික රික්ත ආලේපන උපකරණ සඳහා, ස්ථායී ක්‍රියාවලි පාලනය සඳහා නාමික පීඩනයක් සහ බල අගයක් පවත්වා ගැනීමට වඩා වැඩි යමක් අවශ්‍ය වේ. ප්ලාස්මා පරිසරය, අයන ප්‍රවාහය, උපස්ථර නැඹුරුව, තැන්පත් කිරීමේ ජ්‍යාමිතිය සහ ප්‍රභව තත්ත්වය ඒකාබද්ධ ක්‍රියාවලි කවුළුවක කොටසක් ලෙස පාලනය කළ යුතුය.
සංකීර්ණ ත්‍රිමාණ සංරචක සඳහා, විවිධ පෘෂ්ඨ විවිධ සිදුවීම් කෝණ සහ අංශු ප්‍රවාහ අත්විඳිය හැකි බැවින් තත්වය තවත් දුෂ්කර වේ. එබැවින් ආලේපන ඒකාකාරිත්වය පවත්වා ගැනීම සඳහා නිසි සවිකිරීම් නිර්මාණය, වැඩ කොටස භ්‍රමණය, මූලාශ්‍ර වින්‍යාසය සහ ක්‍රියාවලි ප්‍රශස්තිකරණය අත්‍යවශ්‍ය වේ.
9. කාර්මික රික්තක ආලේපන ක්‍රියාවලියක අංශු ශක්තිය පාලනය කරන්නේ කෙසේද?
ප්‍රායෝගික PVD නිෂ්පාදනයේදී, අංශු ශක්තිය අසීමිත ලෙස උපරිම කිරීමට වඩා ඉලක්ක ආලේපන ගුණාංග අනුව පාලනය කළ යුතුය.
සුදුසු ක්‍රියාවලි කවුළුව සාමාන්‍යයෙන් ස්ථාපිත කරනු ලබන්නේ ක්‍රියාකාරී පීඩනය, විසර්ජන බලය, උපස්ථර නැඹුරුව, ප්ලාස්මා ඝනත්වය, වායු ප්‍රවාහය, උපස්ථර උෂ්ණත්වය, තැන්පත් වීමේ අනුපාතය සහ ප්‍රභවයෙන් උපස්ථරයට ජ්‍යාමිතිය සම්බන්ධීකරණය කිරීමෙනි.
අලංකාර ආලේපන සඳහා, අධික අයන බෝම්බ හෙලීම මතුපිට හානිය හෝ අවශේෂ ආතතිය වැඩි කළ හැකි අතර, ප්‍රමාණවත් ශක්තියක් නොමැතිකම දුර්වල ඝනත්වය හෝ ඇලීමට හේතු විය හැක. දෘඩ ආලේපන සඳහා, ඝන ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහයන් සහ ඉහළ දෘඪතාව ලබා ගැනීම සඳහා ඉහළ අයන ශක්තිය ප්‍රයෝජනවත් විය හැකි නමුත්, අධික අයන බෝම්බ හෙලීම ආතතියට අදාළ දෝෂ ඇති කළ හැකිය.
එබැවින්, ක්‍රියාවලි සංවර්ධනය අයන ශක්තිය, අයන ප්‍රවාහය, තැන්පත් වීමේ අනුපාතය සහ උපස්ථර ප්‍රතිචාරය අතර ස්ථාවර සමතුලිතතාවයක් ඇති කිරීම කෙරෙහි අවධානය යොමු කළ යුතුය.
නිෂ්පාදන උපකරණ සඳහා, මෙයින් අදහස් කරන්නේ ක්‍රියාවලි පුනරාවර්තන හැකියාව, කුටීර තත්ත්වය, ඉලක්ක භාවිතය, සවිකිරීම් වින්‍යාසය සහ ස්වයංක්‍රීය ක්‍රියාවලි පාලනය ස්ථාවර අංශු ශක්ති පරිසරයක් පවත්වා ගැනීම සඳහා වැදගත් සාධක බවයි.
අංශු ශක්ති ව්‍යාප්තිය රික්ත ආලේපනයේ පටල වර්ධනය පාලනය කරන මූලික ක්‍රියාවලි විචල්‍යයන්ගෙන් එකකි. එය මතුපිට විසරණය, න්‍යෂ්ටිකකරණය, පටල ඝනත්වය, ඇලවීම, ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය, අවශේෂ ආතතිය, දෘඪතාව, දෘශ්‍ය ක්‍රියාකාරිත්වය සහ දිගුකාලීන විශ්වසනීයත්වය කෙරෙහි බලපෑම් කරයි.
යතුර වන්නේ තැන්පත් වූ අංශුවල ශක්තිය වැඩි කිරීම පමණක් නොව, ආලේපන ද්‍රව්‍ය, උපස්ථර ලක්ෂණ, පටල ගෘහ නිර්මාණ ශිල්පය සහ යෙදුම් අවශ්‍යතා අනුව සුදුසු සහ ස්ථාවර ශක්ති ව්‍යාප්තියක් ස්ථාපිත කිරීමයි.
කාර්මික PVD නිෂ්පාදනය සඳහා, ප්ලාස්මා ලක්ෂණ, අයන ශක්තිය, උපස්ථර නැඹුරුව, වැඩ කරන පීඩනය සහ පටල වර්ධන යාන්ත්‍රණයන් අතර සම්බන්ධතාවය අවබෝධ කර ගැනීමෙන් ආලේපන ඉංජිනේරුවන්ට සරල පරාමිති ගැලපුමෙන් ඔබ්බට ගොස් වඩාත් ශක්තිමත් ක්‍රියාවලි කවුළුවක් සංවර්ධනය කිරීමට ඉඩ සලසයි. රසායනාගාර සාම්පලවල සිට ස්ථාවර, පුනරාවර්තනය කළ හැකි මහා පරිමාණ නිෂ්පාදනයකට මාරුවීමේදී මෙය විශේෂයෙන් වැදගත් වේ.
-මෙම ලිපිය ප්‍රකාශයට පත් කරන ලද්දේරික්තක ආලේපන උපකරණ නිෂ්පාදකයාෂෙන්හුවා රික්තකය
පළ කිරීමේ කාලය: සැප්තැම්බර්-03-2026