Pengambilan vakum juga dikenali sebagai "pengepam vakum", yang merujuk kepada penggunaan pam vakum yang berbeza untuk mengeluarkan udara di dalam bekas, supaya tekanan di dalam ruang turun ke bawah satu atmosfera. Pada masa ini, untuk mendapatkan vakum dan peranti yang biasa digunakan termasuk ram berputar...
Proses pemendapan wap vakum secara amnya merangkumi langkah-langkah seperti pembersihan permukaan substrat, penyediaan sebelum salutan, pemendapan wap, pengambilan kepingan, rawatan selepas penyaduran, ujian dan produk siap. (1) Pembersihan permukaan substrat. Dinding ruang vakum, bingkai substrat dan lain-lain...
Mengapa Menggunakan Vakum? Mencegah Pencemaran: Dalam vakum, ketiadaan udara dan gas lain menghalang bahan pemendapan daripada bertindak balas dengan gas atmosfera, yang boleh mencemari filem. Lekatan yang Diperbaiki: Kekurangan udara bermakna filem itu melekat terus ke substrat tanpa udara...
Pemendapan filem nipis ialah proses asas yang digunakan dalam industri semikonduktor, serta dalam banyak bidang sains dan kejuruteraan bahan lain. Ia melibatkan penciptaan lapisan nipis bahan pada substrat. Filem yang didepositkan boleh mempunyai pelbagai ketebalan, dari hanya beberapa...
Dalam bidang optik, dalam kaca optik atau permukaan kuarza menyadur lapisan atau beberapa lapisan bahan yang berbeza selepas filem, anda boleh mendapatkan pantulan tinggi atau tidak reflektif (iaitu, meningkatkan kebolehtelapan filem) atau bahagian tertentu pantulan atau penghantaran m...
Peralatan salutan vakum adalah sejenis teknologi pemendapan filem nipis dalam persekitaran vakum, yang digunakan secara meluas dalam elektronik, optik, sains bahan, tenaga dan sebagainya. Peralatan salutan vakum terutamanya terdiri daripada bahagian berikut: Ruang Vakum: Ini adalah bahagian teras vakum ...
Peralatan salutan vakum mempunyai pelbagai kawasan aplikasi, meliputi beberapa industri dan bidang. Bidang aplikasi utama termasuk: Elektronik pengguna dan litar bersepadu: Teknologi salutan vakum mempunyai pelbagai aplikasi dalam elektronik pengguna, seperti dalam struktur logam...
Lampu adalah salah satu bahagian penting kereta, dan rawatan permukaan reflektor lampu, boleh meningkatkan fungsi dan hiasannya, proses rawatan permukaan cawan lampu biasa mempunyai penyaduran kimia, lukisan, salutan vakum. Proses penyemburan cat dan penyaduran kimia adalah cawan lampu yang lebih tradisional...
Peralatan salutan vakum biasanya terdiri daripada beberapa komponen utama, masing-masing dengan fungsi khususnya sendiri, yang berfungsi secara bersama untuk mencapai pemendapan filem yang cekap dan seragam. Di bawah ialah penerangan tentang komponen utama dan fungsinya: Komponen Utama Ruang vakum: Fungsi: Menyediakan...
Peralatan salutan penyejatan adalah sejenis peralatan yang digunakan untuk mendepositkan bahan filem nipis pada permukaan substrat, yang digunakan secara meluas dalam bidang peranti optik, peranti elektronik, salutan hiasan dan sebagainya. Salutan penyejatan terutamanya menggunakan suhu tinggi untuk menukar pepejal...
Penyalut sebaris vakum ialah jenis sistem salutan termaju yang direka untuk persekitaran pengeluaran berkeupayaan tinggi yang berterusan. Tidak seperti penyalut kelompok, yang memproses substrat dalam kumpulan diskret, penyalut sebaris membenarkan substrat bergerak secara berterusan melalui pelbagai peringkat proses penyalut. dia...
Penyalut vakum sputtering ialah peranti yang digunakan untuk mendepositkan filem nipis bahan pada substrat. Proses ini biasanya digunakan dalam pengeluaran semikonduktor, sel suria, dan pelbagai jenis salutan untuk aplikasi optik dan elektronik. Berikut ialah gambaran keseluruhan asas tentang cara ia berfungsi: 1.V...
Sistem salutan vakum ialah teknologi yang digunakan untuk menggunakan filem nipis atau salutan pada permukaan dalam persekitaran vakum. Proses ini memastikan salutan berkualiti tinggi, seragam dan tahan lama, yang penting dalam pelbagai industri seperti elektronik, optik, automotif dan aeroangkasa. Terdapat berbeza...
Sistem salutan vakum sebaris optik Magnetron sputtering ialah teknologi canggih yang digunakan untuk mendepositkan filem nipis pada pelbagai substrat, terdapat yang biasa digunakan dalam industri seperti optik, elektronik dan sains bahan. Berikut ialah gambaran keseluruhan terperinci: Komponen dan ciri: 1...
(3) Radio Frequency Plasma CVD (RFCVD)RF boleh digunakan untuk menjana plasma melalui dua kaedah berbeza, kaedah gandingan kapasitif dan kaedah gandingan induktif. Plasma RF CVD menggunakan frekuensi 13.56 MHz. Kelebihan plasma RF ialah ia meresap ke kawasan yang jauh lebih besar daripada plat gelombang mikro...