Sugeng rawuh ing Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Warta Industri
-
Karakteristik Modifikasi Permukaan Plasma
Plasma energi dhuwur bisa mbombardir lan nyinari bahan polimer, ngrusak rantai molekul, mbentuk gugus aktif, nambah energi permukaan, lan ngasilake etsa. Perawatan permukaan plasma ora mengaruhi struktur internal lan kinerja bahan curah, nanging mung sacara signifikan...Waca liyane -
Proses Pelapisan Ion Sumber Busur Cilik
Proses pelapisan ion sumber busur katodik iku umume padha karo teknologi pelapisan liyane, lan sawetara operasi kayata masang benda kerja lan nyedhot debu ora diulang maneh. 1. Pembersihan benda kerja kanthi cara dibombardir Sadurunge pelapisan, gas argon dilebokake ing ruang pelapisan nganggo...Waca liyane -
Karakteristik lan Metode Pembangkitan Aliran Elektron Busur
1. Ciri-ciri aliran elektron cahya busur Kapadhetan aliran elektron, aliran ion, lan atom netral energi dhuwur ing plasma busur sing diasilake dening debit busur luwih dhuwur tinimbang debit cahya. Ana luwih akeh ion gas lan ion logam sing terionisasi, atom energi dhuwur sing tereksitasi, lan macem-macem gro aktif...Waca liyane -
Bidang Aplikasi Modifikasi Permukaan Plasma
1) Modifikasi permukaan plasma utamane nuduhake modifikasi tartamtu saka kertas, film organik, tekstil, lan serat kimia. Panggunaan plasma kanggo modifikasi tekstil ora mbutuhake panggunaan aktivator, lan proses perawatan ora ngrusak karakteristik serat kasebut dhewe. ...Waca liyane -
Aplikasi lapisan ion ing bidang film tipis optik
Aplikasi film tipis optik iku jembar banget, wiwit saka kacamata, lensa kamera, kamera ponsel, layar LCD kanggo ponsel, komputer, lan televisi, lampu LED, piranti biometrik, nganti jendela hemat energi ing mobil lan bangunan, uga instrumen medis, te...Waca liyane -
Film tampilan informasi lan teknologi pelapisan ion
1. Jinis film ing tampilan informasi Saliyane film tipis TFT-LCD lan OLED, tampilan informasi uga kalebu film elektroda kabel lan film elektroda piksel transparan ing panel tampilan. Proses pelapisan minangka proses inti saka tampilan TFT-LCD lan OLED. Kanthi prog terus-terusan...Waca liyane -
Hukum pertumbuhan lapisan film pelapis penguapan vakum
Sajrone lapisan penguapan, nukleasi lan pertumbuhan lapisan film minangka basis saka macem-macem teknologi lapisan ion 1. Nukleasi Ing teknologi lapisan penguapan vakum, sawise partikel lapisan film diuap saka sumber penguapan ing wangun atom, dheweke mabur langsung menyang w...Waca liyane -
Fitur umum saka teknologi lapisan ion pelepasan cahya sing ditingkatake
1. Bias benda kerja kurang Amarga tambahan piranti kanggo nambah laju ionisasi, kerapatan arus debit mundhak, lan voltase bias suda dadi 0,5 ~ 1kV. Backsputtering sing disebabake dening pemboman ion energi dhuwur sing berlebihan lan efek kerusakan ing permukaan benda kerja...Waca liyane -
Kauntungan saka target silinder
1) Target silinder nduweni tingkat pemanfaatan sing luwih dhuwur tinimbang target planar. Ing proses pelapisan, apa iku target sputtering silinder tipe magnetik putar utawa tabung putar, kabeh bagean permukaan tabung target terus ngliwati area sputtering sing diasilake ing ngarep...Waca liyane -
Proses polimerisasi langsung plasma
Proses polimerisasi langsung plasma Proses polimerisasi plasma relatif prasaja kanggo peralatan polimerisasi elektroda internal lan peralatan polimerisasi elektroda eksternal, nanging pemilihan parameter luwih penting ing polimerisasi plasma, amarga parameter duwe pengaruh sing luwih gedhe...Waca liyane -
Teknologi deposisi uap kimia plasma sing ditingkatake nganggo busur kawat panas
Teknologi deposisi uap kimia plasma sing ditingkatake nganggo busur kawat panas nggunakake pistol busur kawat panas kanggo ngetokake plasma busur, sing disingkat teknologi PECVD busur kawat panas. Teknologi iki padha karo teknologi lapisan ion pistol busur kawat panas, nanging bedane yaiku film padat sing dipikolehi kanthi...Waca liyane -
Pambuka Teknik Konvensional kanggo Nyetor Lapisan Keras
1. Teknologi CVD Termal Lapisan keras biasane lapisan keramik logam (TiN, lsp.), sing dibentuk saka reaksi logam ing lapisan lan gasifikasi reaktif. Kaping pisanan, teknologi CVD termal digunakake kanggo nyedhiyakake energi aktivasi reaksi kombinasi kanthi energi termal ing ...Waca liyane -
Apa sing diarani lapisan sumber penguapan resistensi?
Lapisan sumber penguapan resistensi minangka metode lapisan penguapan vakum dhasar. "Penguapan" nuduhake metode persiapan film tipis ing ngendi bahan lapisan ing ruang vakum dipanasake lan diuap, saengga atom utawa molekul bahan nguap lan metu saka...Waca liyane -
Pambuka Teknologi Pelapisan Ion Busur Katodik
Teknologi pelapisan ion busur katodik nggunakake teknologi pelepasan busur medan adhem. Aplikasi paling awal teknologi pelepasan busur medan adhem ing lapangan pelapisan yaiku dening Multi Arc Company ing Amerika Serikat. Jeneng Inggris kanggo prosedur iki yaiku arc ionplating (AIP). Pelapisan ion busur katoda...Waca liyane -
Aplikasi Film Tipis Optik ing Industri Kacamata Salut
Ana akeh jinis substrat kanggo kacamata lan lensa, kayata CR39, PC (polikarbonat), 1.53 Trivex156, plastik indeks bias medium, kaca, lan liya-liyane. Kanggo lensa korektif, transmitansi lensa resin lan kaca mung udakara 91%, lan sawetara cahya dipantulake maneh dening rong lensa...Waca liyane
