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真空コーティング機の特長
管理者による投稿(2013年4月23日)
1. 真空コーティングの膜は非常に薄い(通常0.01~0.1μm)| 2. 真空コーティングは、ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMAなど、多くのプラスチックに使用できます。 3. 膜形成温度が低い。鉄鋼業界では、溶融亜鉛めっきのコーティング温度は一般的に400℃から...
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太陽光発電薄膜技術入門
管理者による投稿(2007年4月23日)
1863年にヨーロッパで光起電力効果が発見された後、米国は1883年にセレン(Se)を用いた最初の太陽電池を製造した。初期の頃、太陽電池は主に航空宇宙、軍事などの分野で使用されていた。過去20年間で、太陽電池のコストは急激に低下し、…
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スパッタリングコーティング装置のプロセスフロー
管理者による投稿(2007年4月23日)
1. 基板の照射洗浄 1.1) スパッタリングコーティング装置はグロー放電を用いて基板を洗浄します。つまり、チャンバー内にアルゴンガスを充填し、放電電圧を約1000Vに設定し、電源を入れるとグロー放電が発生し、基板が洗浄されます。
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携帯電話製品における光学フィルムの応用
管理者による投稿(2023年3月31日)
携帯電話などの民生用電子機器における光学薄膜の応用は、従来のカメラレンズから、カメラレンズ、レンズプロテクター、赤外線カットオフフィルター(IR-CUT)、携帯電話バッテリーカバーのNCVMコーティングなど、多様な方向へと移行している。カメラレンズは、カメラレンズ、レンズプロテクター、赤外線カットオフフィルター(IR-CUT)、携帯電話バッテリーカバーのNCVMコーティングなど、多様化している。
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CVDコーティング装置の特性
管理者による投稿(2023年3月29日)
CVDコーティング技術には以下の特徴があります。1. CVD装置のプロセス操作は比較的簡単で柔軟性があり、単層膜、複合膜、および異なる比率の合金膜を作製できます。2. CVDコーティングは幅広い用途があり、前処理に使用できます。
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真空コーティング装置のプロセスとは?動作原理は?
管理者による投稿(2023年3月23日)
真空コーティング装置のプロセスは、真空蒸着コーティング、真空スパッタリングコーティング、真空イオンコーティングに分けられます。 1. 真空蒸着コーティング 真空条件下で、金属、金属合金などの材料を蒸発させ、基板表面に堆積させます。
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掃除機は何のために使うのですか?
管理者による投稿(2021年3月23日)
1.真空コーティングプロセスとは何ですか?その機能は何ですか?いわゆる真空コーティングプロセスは、真空環境下で蒸着とスパッタリングを利用して膜材料の粒子を放出し、金属、ガラス、セラミック、半導体、プラスチック部品に堆積させてコーティング層を形成し、装飾などに使用されます。
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真空コーティング装置の環境要件
管理者による投稿(2017年3月23日)
真空コーティング装置は真空条件下で動作するため、真空環境の要件を満たす必要があります。我が国で策定された各種真空コーティング装置の業界標準(真空コーティング装置の一般技術条件、…を含む)
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イオンプレーティングの特性と応用
管理者による投稿(2015年3月23日)
フィルムの種類 フィルムの材質 基板 フィルムの特性と用途 金属フィルム CrAl、ZnPtNi Au、Cu、Al P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、Al、Pt 鋼、軟鋼 チタン合金、高炭素鋼、軟鋼 チタン合金 硬質ガラス プラスチック ニッケル、インコネル 鋼、ステンレス鋼 シリコン 耐摩耗性 ...
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真空イオンコーティングとその分類
管理者による投稿(2010年3月23日)
真空イオンプレーティング(略してイオンプレーティング)は、1970年代に急速に発展した新しい表面処理技術であり、1963年に米国ソムディア社のDMマトックスによって提案されました。これは、蒸着源またはスパッタリングターゲットを使用して蒸着またはスパッタリングするプロセスを指します。
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光学コーティング装置は、複数の光学フィルムのコーティングに使用できます。
管理者による投稿(2010年3月23日)
①反射防止膜。例えば、カメラ、スライドプロジェクター、プロジェクター、映画プロジェクター、望遠鏡、サイトグラス、各種光学機器のレンズやプリズムに塗布された単層MgF膜、およびSiOFrO2、AlO、…からなる二層または多層の広帯域反射防止膜。
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スパッタリングコーティング膜の特性
管理者による投稿(2009年3月23日)
① 膜厚の良好な制御性と再現性 膜厚を所定の値に制御できるかどうかを膜厚制御性といい、必要な膜厚を何度も再現できるかどうかを膜厚再現性といいます。放電により…
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化学気相成長法(CVD)技術の概要
管理者による投稿(2004年3月23日)
化学気相成長法(CVD)は、加熱、プラズマ増強、光アシストなどの手段を用いて、常圧または低圧下で気体物質を化学反応させて基板表面に固体膜を形成させる成膜技術です。一般的に、CVDにおける反応は…
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真空蒸着めっきの性能に影響を与える要因
管理者による投稿(2023年2月28日)
1. 蒸発速度は蒸着膜の特性に影響を与える 蒸発速度は蒸着膜に大きな影響を与える。低い蒸着速度で形成されるコーティング構造は緩く、大きな粒子が析出しやすいため、高い蒸発速度を選択することが非常に安全である。
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真空コーティング装置の汚染源は何ですか?
管理者による投稿(2021年2月23日)
真空コーティング装置は、溶接、研削、旋削、平削り、穴あけ、フライス加工など、多くの工程を経て製造される多数の精密部品で構成されています。これらの工程により、装置部品の表面にはグリースなどの汚染物質が必然的に付着します。
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