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ニュース
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真空コーティングシステムの紹介
真空コーティングシステムは、真空環境下で表面に薄膜またはコーティングを施す技術です。このプロセスにより、高品質で均一かつ耐久性のあるコーティングが実現します。これは、電子機器、光学、自動車、航空宇宙など、様々な産業において極めて重要です。真空コーティングシステムには様々な種類があります。続きを読む -
スパッタリング光学インライン真空コーティングシステムとは
マグネトロンスパッタリング光学インライン真空コーティングシステムは、様々な基板に薄膜を堆積させる高度な技術であり、光学、電子工学、材料科学などの業界で広く利用されています。以下は詳細な概要です。コンポーネントと機能：1...続きを読む -
ダイヤモンド薄膜技術-第2章
(3) 高周波プラズマCVD (RFCVD)RFは、容量結合法と誘導結合法の2つの異なる方法でプラズマを生成するために使用できます。RFプラズマCVDは、13.56MHzの周波数を使用します。RFプラズマの利点は、マイクロ波プラズマよりもはるかに広い領域に拡散することです。続きを読む -
ダイヤモンド薄膜技術 - 第1章
熱フィラメントCVD法は、低圧下でダイヤモンドを成長させる最も古く、最も普及した方法です。1982年、松本らは耐火金属フィラメントを2000℃以上に加熱しました。この温度では、フィラメントを通過するH2ガスが容易に水素原子を生成します。この加熱過程における原子状水素の生成は…続きを読む -
真空コーティング装置の分類は何ですか？
真空コーティング技術は、真空環境下で基板材料の表面に薄膜材料を堆積させる技術であり、電子工学、光学、包装、装飾などの分野で広く利用されています。真空コーティング装置は主に以下のタイプに分類されます…続きを読む -
真空コーティング装置の優れたブランドを選択するにはどうすればよいでしょうか?
真空コーティング装置は、真空技術を用いた表面改質装置の一種であり、主に真空チャンバー、真空システム、熱源システム、コーティング材料などから構成されています。現在、真空コーティング装置は自動車、携帯電話、光学機器、電子部品、電子デバイスなどの分野で広く利用されています。続きを読む -
真空イオンコーティング技術の紹介
1. 真空イオンコーティング技術の原理 真空チャンバー内で真空アーク放電技術を用いることで、陰極材料の表面にアーク光を発生させ、陰極材料上に原子とイオンを形成します。電界の作用下で、原子とイオンのビームが陰極材料に衝突し、…続きを読む -
スパッタリングコーティング機の技術的特徴
真空マグネトロンスパッタリングは、反応性堆積コーティングに特に適しています。このプロセスでは、酸化物、炭化物、窒化物など、あらゆる材料の薄膜を堆積できます。さらに、このプロセスは、光学的および物理的特性を有する多層膜構造の堆積にも特に適しています。続きを読む -
DLCテクノロジーの紹介
DLCは「DIAMOND-LIKE CARBON（ダイヤモンドライクカーボン）」の略称で、炭素元素から構成され、性質はダイヤモンドに似ており、グラファイト原子の構造を持つ物質です。ダイヤモンドライクカーボン（DLC）は、トライボロジー分野で注目を集めているアモルファス膜です。続きを読む -
ダイヤモンド膜の特性と応用 第2章
ダイヤモンド膜の電気的特性と用途 ダイヤモンドには、禁制帯幅、高いキャリア移動度、良好な熱伝導率、高い飽和電子ドリフト率、小さい誘電率、高い破壊電圧と電子正孔移動度などもあります。その破壊電圧は 2 倍以上です...続きを読む -
ダイヤモンド膜の特性と応用 第1章
強力な化学結合によって形成されたダイヤモンドは、特殊な機械的特性と弾性特性を有します。ダイヤモンドの硬度、密度、熱伝導率は、既知の物質の中で最も高く、また、あらゆる物質の中で最も高い弾性率を誇ります。ダイヤモンドの摩擦係数は…続きを読む -
太陽電池の種類 第2章
ガリウムヒ素（GaAs）Ⅲ〜Ⅴ複合電池の変換効率は最大28％で、GaAs複合材料は理想的な光学バンドギャップを備えているほか、吸収効率が高く、放射線に対する耐性が強く、熱に鈍感で、高効率の単接合電池の製造に適しています。続きを読む -
太陽電池の種類 第1章
太陽電池は第3世代まで開発されており、第1世代は単結晶シリコン太陽電池、第2世代はアモルファスシリコンおよび多結晶シリコン太陽電池、そして第3世代は銅鋼ガリウムセレン（CIGS）太陽電池に代表される...続きを読む -
フィルム層の機械的強度を向上させるプロセス方法
膜層の機械的特性は、接着、応力、凝集密度などの影響を受けます。膜層の材料とプロセス要因の関係から、膜層の機械的強度を向上させたい場合は、膜層の材料とプロセス要因に重点を置く必要があることがわかります。続きを読む -
化学蒸着法
エピタキシャル成長（エピタキシーとも呼ばれる）は、半導体材料およびデバイスの製造において最も重要なプロセスの一つです。いわゆるエピタキシャル成長は、特定の条件下で単結晶基板上に単結晶の薄膜層を成長させるプロセスです。続きを読む
